ランプヒータ - 企業ランキング(全6社)
更新日： 集計期間:2025年08月20日〜2025年09月16日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（高速昇降温加熱）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○熱容量が小さく、3000K以上のフィラメントから照射される 輻射光により、高温/急速昇降温といった加熱特性に優れた熱源 ○半導体や耐用電池の熱処理プロセスにおいて 酸化膜形成、不純物拡散、シリサイド形成、電極焼成など 多くの工程で使用される | 【用途】 ○サーマルジェット低減 | ||
| 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（乾燥）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○ハロゲンランプヒータの非接触・クリーンで 高速昇温性を持つ光加熱方式により 金属箔など、ホコリ、ゴミが許されない製品の乾燥において 従来の熱風式過熱炉にとってかわりつつある ○溶剤、インキ、印刷物の乾燥た鋼板の塗装乾燥 自動車塗装の乾燥用途に有効 | 【用途】 ○半導体・FPD関連全般における 洗浄後のウェハ・ガラス基板の乾燥 | ||
| 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 金属膜、絶縁膜の形成に用いられる CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現 | 【用途】 ○CVD ○スパッタリング装置 | ||
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ウシオ電機株式会社
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- 代表製品
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ウシオの光で出来ること『高速昇降温加熱』
- 概要
- 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（高速昇降温加熱）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○熱容量が小さく、3000K以上のフィラメントから照射される 輻射光により、高温/急速昇降温といった加熱特性に優れた熱源 ○半導体や耐用電池の熱処理プロセスにおいて 酸化膜形成、不純物拡散、シリサイド形成、電極焼成など 多くの工程で使用される
- 用途/実績例
- 【用途】 ○サーマルジェット低減
ウシオの光で出来ること 熱する『乾燥』
- 概要
- 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（乾燥）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○ハロゲンランプヒータの非接触・クリーンで 高速昇温性を持つ光加熱方式により 金属箔など、ホコリ、ゴミが許されない製品の乾燥において 従来の熱風式過熱炉にとってかわりつつある ○溶剤、インキ、印刷物の乾燥た鋼板の塗装乾燥 自動車塗装の乾燥用途に有効
- 用途/実績例
- 【用途】 ○半導体・FPD関連全般における 洗浄後のウェハ・ガラス基板の乾燥
ウシオの光で出来ること『加熱/成膜』
- 概要
- 伝統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（加熱/成膜）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：ハロゲンランプヒータ ○半導体・FPD・太陽電池などの製造プロセスにおける 金属膜、絶縁膜の形成に用いられる CVDやスパッタリング装置の熱源として最適 ○さらに成膜前の、水分除去や予備加熱にハロゲンランプヒータを 用いることで、スループット向上と高品質な膜形成を実現
- 用途/実績例
- 【用途】 ○CVD ○スパッタリング装置
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ウシオ電機株式会社
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