加熱炉 - 企業ランキング(全45社)
更新日： 集計期間:2026年08月19日〜2026年09月15日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| ■ 金属成分を塩化物へ変換 ・Cl2、HClを用いてAu、Cu、Sn、Fe、Niなどを塩化物化 ・生成塩化物の沸点、蒸気圧差を利用して分離条件を検討 ■ 温度・塩素分圧・圧力の制御 ・低温域でFeCl3、SnCl4など揮発しやすい成分を先行分離 ・中温域でAuCl3など貴金属塩... | 【用途】 ■ 都市鉱山からのAu、Cu、Sn、Fe、Niなどの分離・回収 ■ 電子基板、めっき材、金属スクラップの乾式リサイクル検討 ■ 廃触媒、電子部品、複合材料中の有価金属回収 ■ 塩化揮発による貴金属・ベースメタルの段階分離 ■ 湿式精錬から乾式プロセスへの置き換え評価 ■... | ||
| 【乾式塩素化の考え方】 ■ 金属不純物を塩化物へ変換 ・Cl2、HClを用いてFe、Ni、Cr、Naなどを塩化物化 ・生成塩化物の揮発性を利用し、母材から分離 ■ 母材を残した選択処理 ・SiO2、Al2O3、Si3N4など母材との反応性差を利用 ・処理温度、ガス濃度、処理時間... | 【用途】 ■ 高純度シリカフィラー中の金属不純物低減 ■ アルミナ研磨材・Al2O3粉末中のFe/Ni/Cr除去検討 ■ Si3N4、SiC、AlNなどセラミックス粉末の高純度化 ■ 電子部品用セラミックス原料の乾式精製 ■ 粉末・成形体の表面付着金属の除去検討 ■ 湿式精製から... | ||
| 掲載内容：Cl₂・HCl特殊雰囲気焼成の設備仕様確認ポイント ■処理目的 塩化反応、揮発分離、金属不純物除去、治具・部品の付着物除去、腐食・耐久性評価、生成物・排ガス・回収方法の確認を整理します。 ■ガス条件 Cl₂、HCl、混合ガス、N₂希釈の有無を確認します。 濃度・流量... | このような検討におすすめです。 ■Cl₂・HCl雰囲気での特殊雰囲気焼成 ■塩化反応、選択塩素化、揮発分離の条件探索 ■金属不純物の除去可否評価 ■治具・部品・基板上の付着物除去検討 ■Cl₂/HCl雰囲気での腐食評価・耐久性評価 ■生成塩化物の揮発性、凝縮位置、回収方法の確認... | ||
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株式会社サーモニックENG
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- 代表製品
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小型塩素炉｜都市鉱山から有価金属を乾式分離・回収
- 概要
- ■ 金属成分を塩化物へ変換 ・Cl2、HClを用いてAu、Cu、Sn、Fe、Niなどを塩化物化 ・生成塩化物の沸点、蒸気圧差を利用して分離条件を検討 ■ 温度・塩素分圧・圧力の制御 ・低温域でFeCl3、SnCl4など揮発しやすい成分を先行分離 ・中温域でAuCl3など貴金属塩...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■ 都市鉱山からのAu、Cu、Sn、Fe、Niなどの分離・回収 ■ 電子基板、めっき材、金属スクラップの乾式リサイクル検討 ■ 廃触媒、電子部品、複合材料中の有価金属回収 ■ 塩化揮発による貴金属・ベースメタルの段階分離 ■ 湿式精錬から乾式プロセスへの置き換え評価 ■...
小型塩素炉｜セラミックス粉の金属不純物を乾式除去
- 概要
- 【乾式塩素化の考え方】 ■ 金属不純物を塩化物へ変換 ・Cl2、HClを用いてFe、Ni、Cr、Naなどを塩化物化 ・生成塩化物の揮発性を利用し、母材から分離 ■ 母材を残した選択処理 ・SiO2、Al2O3、Si3N4など母材との反応性差を利用 ・処理温度、ガス濃度、処理時間...
- 用途/実績例
- 【用途】 ■ 高純度シリカフィラー中の金属不純物低減 ■ アルミナ研磨材・Al2O3粉末中のFe/Ni/Cr除去検討 ■ Si3N4、SiC、AlNなどセラミックス粉末の高純度化 ■ 電子部品用セラミックス原料の乾式精製 ■ 粉末・成形体の表面付着金属の除去検討 ■ 湿式精製から...
Cl₂・HCl特殊雰囲気焼成の炉選定｜塩化反応・腐食評価に対応
- 概要
- 掲載内容：Cl₂・HCl特殊雰囲気焼成の設備仕様確認ポイント ■処理目的 塩化反応、揮発分離、金属不純物除去、治具・部品の付着物除去、腐食・耐久性評価、生成物・排ガス・回収方法の確認を整理します。 ■ガス条件 Cl₂、HCl、混合ガス、N₂希釈の有無を確認します。 濃度・流量...
- 用途/実績例
- このような検討におすすめです。 ■Cl₂・HCl雰囲気での特殊雰囲気焼成 ■塩化反応、選択塩素化、揮発分離の条件探索 ■金属不純物の除去可否評価 ■治具・部品・基板上の付着物除去検討 ■Cl₂/HCl雰囲気での腐食評価・耐久性評価 ■生成塩化物の揮発性、凝縮位置、回収方法の確認...
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株式会社サーモニックENG
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