半導体レーザ - 企業ランキング(全33社)

更新日：2026年08月19日集計期間:2026年07月22日〜2026年08月18日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
トプティカフォトニクス株式会社営業部	所在地東京都従業員数 9 事業内容 ■レーザーシステムおよび光電子工学システム・機器・部品の取引、輸入、輸出、販売および調達 ■半導体レーザー又は光ファイバーに基づくレーザーシステムおよび光電子工学システムの開発、製造、組立、保守および修理 ■上記事業に付帯関連する一切の事業主要取引先	高出力単一周波数　半導体レーザー『TopWave 405』　応相談	ホロ・リソグラフィの用途で従来一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr+ガスレーザー (406.7 nm 及び 413.1 nm) の置き換えに理想的なレーザーシステムです。The TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。ビー...	露光用、またAR/VR用回折デバイスの製造
		HeNeレーザーの置き換えに! 高出力633nm半導体レーザー応相談	・波長：633nm (405nmモデルもご用意しています) ・出力：50mW(空間)、25mW(ファイバ) ・線幅：5MHz以下(0.01pm以下) ・可干渉距離：25メートル以上・強度ノイズ：≤ 0.1% @ 10 Hz - 10 MHz ・偏光特性：直線偏向(水平...	■超精密度量衡計測 □散乱光測定法 ■光干渉計測 & ホログラフィ □高分解能ラマン分光 ■量子暗号 □光ダウンコンバージョン法
		405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザー応相談	・オール半導体レーザー方式・CW発振・1 Watt @ 405 nm ・ビーム品質: M² = 1.15 (典型値) ・コヒーレンス長: > 100 m 可干渉距離 (発振線幅< 1 MHz) ・高い電気/光変換効率・簡単なボタン操作のみの直観的なユーザインタ...	・ホログラフィ・リソグラフィ・レーザー直接描画・バイオイメージング・非熱微細加工
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トプティカフォトニクス株式会社営業部

所在地

東京都

従業員数

9

事業内容

■レーザーシステムおよび光電子工学システム・機器・部品の取引、輸入、輸出、販売および調達 ■半導体レーザー又は光ファイバーに基づくレーザーシステムおよび光電子工学システムの開発、製造、組立、保守および修理 ■上記事業に付帯関連する一切の事業

主要取引先

代表製品

高出力単一周波数　半導体レーザー『TopWave 405』　

概要

ホロ・リソグラフィの用途で従来一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr+ガスレーザー (406.7 nm 及び 413.1 nm) の置き換えに理想的なレーザーシステムです。The TopWave 405 は405nmで 1 W の出力と優れたビーム品質を実現しています。ビー...

用途/実績例

露光用、またAR/VR用回折デバイスの製造

HeNeレーザーの置き換えに! 高出力633nm半導体レーザー

概要

・波長：633nm (405nmモデルもご用意しています) ・出力：50mW(空間)、25mW(ファイバ) ・線幅：5MHz以下(0.01pm以下) ・可干渉距離：25メートル以上・強度ノイズ：≤ 0.1% @ 10 Hz - 10 MHz ・偏光特性：直線偏向(水平...

用途/実績例

■超精密度量衡計測 □散乱光測定法 ■光干渉計測 & ホログラフィ □高分解能ラマン分光 ■量子暗号 □光ダウンコンバージョン法

405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザー

概要

・オール半導体レーザー方式・CW発振・1 Watt @ 405 nm ・ビーム品質: M² = 1.15 (典型値) ・コヒーレンス長: > 100 m 可干渉距離 (発振線幅< 1 MHz) ・高い電気/光変換効率・簡単なボタン操作のみの直観的なユーザインタ...

用途/実績例

・ホログラフィ・リソグラフィ・レーザー直接描画・バイオイメージング・非熱微細加工
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所在地

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事業内容

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