真空蒸着装置 - 企業ランキング(全19社)

更新日：2025年09月03日集計期間:2025年08月06日〜2025年09月02日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
テルモセラ・ジャパン株式会社本社	所在地東京都事業内容【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置主要取引先	真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』応相談	◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源・金属蒸着源 TE x 最大2基・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成膜・成膜プログラム自動制御・30種類のレシピ登録・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション・基板回転・上下昇降 300mmストローク・基板シャッター・ドライポンプ（RP標準）・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理	・OLED, OPV, OTFT等の液晶有機物薄膜開発・光学薄膜、装飾膜等の産業用途・電子基板、半導体基板等の薄膜開発・コーティング材料、薄膜材料の開発
		真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』応相談	【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/Globe Box option：MaxΦ6inch ・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch ・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・090（90Litter）Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD：MaxΦ12inch ※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。	主な用途・新素材/新材料の開発・先端技術開発・小規模試作生産など
		真空蒸着装置『MiniLab-026』応相談	MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。【スモールフットプリント・省スペース】・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。【主仕様】 ◉ チャンバ：SUS304製クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc..	・電子部品・光学膜・反射防止膜・有機トランジスタ、有機EL
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テルモセラ・ジャパン株式会社本社

所在地

東京都

事業内容

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

主要取引先

代表製品

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

概要

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源・金属蒸着源 TE x 最大2基・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"タッチパネル ◉連続成膜・成膜プログラム自動制御・30種類のレシピ登録・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション・基板回転・上下昇降 300mmストローク・基板シャッター・ドライポンプ（RP標準）・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理

用途/実績例

・OLED, OPV, OTFT等の液晶有機物薄膜開発・光学薄膜、装飾膜等の産業用途・電子基板、半導体基板等の薄膜開発・コーティング材料、薄膜材料の開発

真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

概要

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option：MaxΦ6inch ・060（60Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ8inch ・080（80Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・090（90Litter）*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/：MaxΦ10inch ・125（125Litter）-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD：MaxΦ12inch ※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。

用途/実績例

主な用途・新素材/新材料の開発・先端技術開発・小規模試作生産など

真空蒸着装置『MiniLab-026』

概要

MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。【スモールフットプリント・省スペース】・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。【主仕様】 ◉ チャンバ：SUS304製クラムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc..

用途/実績例

・電子部品・光学膜・反射防止膜・有機トランジスタ、有機EL
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所在地

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事業内容

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