薄膜コーティング - 企業ランキング(全33社)
更新日: 集計期間:2026年05月27日〜2026年06月23日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵しているためオゾン処理設備が不要 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 | 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング | ||
UVオゾンクリーナー UV-1
応相談 |
【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト | 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング | |
| 【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理(200~300nm/min)が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵しているためオゾン処理設備が不要 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○ワンタッチで自動運転が可能 ○コンパクト設計 | 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング | ||
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- 代表製品
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UVオゾンクリーナー UV-300
- 概要
- 【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵しているためオゾン処理設備が不要 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計
- 用途/実績例
- 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング
UVオゾンクリーナー UV-1
- 概要
- 【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト
- 用途/実績例
- 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング
UVオゾンクリーナー UV-300H
- 概要
- 【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理(200~300nm/min)が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵しているためオゾン処理設備が不要 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○ワンタッチで自動運転が可能 ○コンパクト設計
- 用途/実績例
- 【用途】 ○フォトレジストアッシング ○インクリム-バル ○溶剤残留物の除去 ○クロムマスクのクリーニング ○シリコン、化合物半導体、水晶、液晶ディスプレイ、レンズ、各種ディスクなどのクリーニング
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