パーティクルカウンタ - 企業ランキング(全20社)
更新日： 集計期間:2025年08月06日〜2025年09月02日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 光学方式：側方散乱方式 光源：半導体レーザ励起固体レーザ 粒径区分：0.02 μm～0.08 μm 定格流量 10 mL/min 計数効率 3 % 最大粒子個数濃度 50 000個/mL（計数損失10 ％以内） | 最先端半導体製造工場の薬液供給プラントの送り Wet洗浄ラインの薬液管理 薬液製造メーカーの製造ライン・出荷検査ライン 等 | ||
| ■ 最小可測粒径0.1μm、定格流量10 mＬ/min ■ 粒径区分（５段階、出荷時） 0.1μm、0.15μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm以上 （ オプションで1.0μmまで対応） ■ 液漏れセンサ内蔵。本体内で液漏れ発生時に警報を出力 ■ KS-42AFはサファイアセルを使用。 ■ 粒径範囲内で任意に粒径を設定可能 | 半導体洗浄ライン 薬液製造メーカー 出荷検査 等 | ||
| ●測定粒径範囲：0.1 μｍ以上、0.15 μｍ以上、0.2 μｍ以上、0.3 μｍ以上、0.5 μｍ以上 ● クリーンルームの常時・同時多点モニタリングが可能 ● モニタリングポイントの設置・変更、レイアウト変更に柔軟に対応 ● ポンプ内蔵型。各測定点に直接設置が可能 ● 多点モニタリングシステムに対応（ RPモニタ EVO K0505 Ver. 3で32ポイント、多点監視ソフト KF-03で160ポイント） | クリーンルーム内の粒子測定 | ||
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リオン株式会社
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- 代表製品
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パーティクルカウンター20ナノ・HF対応 KS-20F リオン
- 概要
- 光学方式：側方散乱方式 光源：半導体レーザ励起固体レーザ 粒径区分：0.02 μm～0.08 μm 定格流量 10 mL/min 計数効率 3 % 最大粒子個数濃度 50 000個/mL（計数損失10 ％以内）
- 用途/実績例
- 最先端半導体製造工場の薬液供給プラントの送り Wet洗浄ラインの薬液管理 薬液製造メーカーの製造ライン・出荷検査ライン 等
パーティクルカウンター液中 0.1μm KS-42A/42AF
- 概要
- ■ 最小可測粒径0.1μm、定格流量10 mＬ/min ■ 粒径区分（５段階、出荷時） 0.1μm、0.15μm、0.2μm、0.3μm、0.5μm以上 （ オプションで1.0μmまで対応） ■ 液漏れセンサ内蔵。本体内で液漏れ発生時に警報を出力 ■ KS-42AFはサファイアセルを使用。 ■ 粒径範囲内で任意に粒径を設定可能
- 用途/実績例
- 半導体洗浄ライン 薬液製造メーカー 出荷検査 等
パーティクルカウンター 気中 0.1μm KA-82
- 概要
- ●測定粒径範囲：0.1 μｍ以上、0.15 μｍ以上、0.2 μｍ以上、0.3 μｍ以上、0.5 μｍ以上 ● クリーンルームの常時・同時多点モニタリングが可能 ● モニタリングポイントの設置・変更、レイアウト変更に柔軟に対応 ● ポンプ内蔵型。各測定点に直接設置が可能 ● 多点モニタリングシステムに対応（ RPモニタ EVO K0505 Ver. 3で32ポイント、多点監視ソフト KF-03で160ポイント）
- 用途/実績例
- クリーンルーム内の粒子測定
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リオン株式会社
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