プラズマCVD装置 - 企業ランキング(全6社)

更新日：2025年07月02日集計期間:2025年06月04日〜2025年07月01日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
サムコ株式会社	所在地京都府従業員数 170 事業内容半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。主要取引先大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関	プラズマCVD装置応相談	PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究からセミ量産まで幅広く対応可能です。	●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成
		プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』応相談	【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送	【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成
		プラズマCVD装置応相談	PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一性とステップカバレージに優れた形成が可能です。	● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成
---	所在地 --- 事業内容 ---	--- ---	---	---

サムコ株式会社

所在地

京都府

従業員数

170

事業内容

半導体等電子部品の製造・販売を行っています。最先端の薄膜形成用プラズマCVD装置やドライエッチング装置、ドライ洗浄装置を製造・販売しており、世界中の生産現場や研究者の皆様へ提供しています。

主要取引先

大手電子部品メーカー大学・官庁・研究機関

代表製品

プラズマCVD装置

概要

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）の形成を目的としており、最先端の研究からセミ量産まで幅広く対応可能です。

用途/実績例

●シリコン窒化膜の形成 ●シリコン酸化膜の形成 ●アモルファスシリコン膜の形成 ●その他薄膜形成

プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』

概要

【特長】 <PD-2201LC> ■広範な膜質制御 ■コンパクトな省スペース装置 ■トレイによるウエハ搬送

用途/実績例

【応用例】 <PD-2201LC> ■各種シリコン系薄膜の形成

プラズマCVD装置

概要

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一性とステップカバレージに優れた形成が可能です。

用途/実績例

● パッシベーション膜としてのシリコン窒化膜の形成 ● 層間絶縁膜としてのシリコン酸化膜の形成 ● アニールキャップ膜の形成
---

所在地

---

事業内容

---

プラズマCVD装置 - 企業ランキング(全6社)

すべてを閲覧するには会員登録（無料）が必要です。