マグネトロンスパッタ装置 - 企業ランキング(全7社)
更新日： 集計期間:2025年05月21日〜2025年06月17日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ
100万円 ~ 500万円 |
【主な特徴】 ○多目的、実験用成膜装置 ○電極分離型試料台で試料損傷回避 ○高速排気・簡易操作で能率的成膜 ○イオンボンバードで親水性処理機能 ○小形卓上型・小スペース ○強磁場による多種金属成膜可能 ○TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空 ○低価格・コストパフォーマンスの良い機能 【その他の特徴】 ○スパッタし易い貴金属の他､Mo,W,等の重金属からTi､Al等軽金属をターゲットとし､強磁場マグネトロン方式の電極により成膜が出来ます。 ○マグネトロン電極は､ターゲット金属表面に沿って外周から中心方向に磁場を作りターゲット全面を有効に利用できます。 ○スパッタ雰囲気ガスArは､ターゲット電極とシールド電極の間隙よりターゲット表面に噴出させ､スパッタ効率を向上させています。 | 【用途】 ○多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置 | |
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１Ｓ
100万円 ~ 500万円 |
【主な特徴】 ○低電圧でコーティングするとともに試料台がフローティング式なので試料損傷がありません。 ○試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。 ○操作は簡単、ボタンを押すだけ、上手下手がありません。 ○小型で場所をとりません。机の片隅で活躍します。 【その他の特徴】 ○プレーナーマグネトロン型ターゲットです。 ○試料台はアノード電極と絶縁したフローティングタイプです。 | 【用途】 ○SEM試料のためのメタルコーティング装置 | |
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＵＭ
100万円 ~ 500万円 |
【主な特徴】 ○電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。 ○マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。 ○様々な用途に対応することを可能にする調整機能を装備。 ○条件出しの際の操作をより簡単にしたボタンレイアウト。 ○条件出し完了後はボタンひとつでフルオート動作。 ○オプションの傾斜機構付き回転試料ステージで、回り込み性能良好。 ○雰囲気ガス導入付きで、２系統の排気システムを切換えて最適条件に。 ○アルゴンガス接続で、より高純度な貴金属膜をコーティング可能。 ○インターロック・安全機構が充実した電子顕微鏡向けスパッター装置。 【その他の特徴】 ○アルゴンガス等の導入・圧力調整機能を装備しています。 ○膜純度の向上に活躍。 ○マニュアル・調整操作は右から左へ順にスイッチを押していくだけの使いやすいレイアウト。 ○押し間違えても作動しない誤動作防止機能付きで、複数人の使用でも安心してお使いいただけます。 ○調整・条件出し完了後は、中央のオートコントロール スイッチを押すだけ。 | 【用途】 ○電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置 | |
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株式会社真空デバイス 本社
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- 代表製品
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マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ
- 概要
- 【主な特徴】 ○多目的、実験用成膜装置 ○電極分離型試料台で試料損傷回避 ○高速排気・簡易操作で能率的成膜 ○イオンボンバードで親水性処理機能 ○小形卓上型・小スペース ○強磁場による多種金属成膜可能 ○TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空 ○低価格・コストパフォーマンスの良い機能 【その他の特徴】 ○スパッタし易い貴金属の他､Mo,W,等の重金属からTi､Al等軽金属をターゲットとし､強磁場マグネトロン方式の電極により成膜が出来ます。 ○マグネトロン電極は､ターゲット金属表面に沿って外周から中心方向に磁場を作りターゲット全面を有効に利用できます。 ○スパッタ雰囲気ガスArは､ターゲット電極とシールド電極の間隙よりターゲット表面に噴出させ､スパッタ効率を向上させています。
- 用途/実績例
- 【用途】 ○多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１Ｓ
- 概要
- 【主な特徴】 ○低電圧でコーティングするとともに試料台がフローティング式なので試料損傷がありません。 ○試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。 ○操作は簡単、ボタンを押すだけ、上手下手がありません。 ○小型で場所をとりません。机の片隅で活躍します。 【その他の特徴】 ○プレーナーマグネトロン型ターゲットです。 ○試料台はアノード電極と絶縁したフローティングタイプです。
- 用途/実績例
- 【用途】 ○SEM試料のためのメタルコーティング装置
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＵＭ
- 概要
- 【主な特徴】 ○電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。 ○マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。 ○様々な用途に対応することを可能にする調整機能を装備。 ○条件出しの際の操作をより簡単にしたボタンレイアウト。 ○条件出し完了後はボタンひとつでフルオート動作。 ○オプションの傾斜機構付き回転試料ステージで、回り込み性能良好。 ○雰囲気ガス導入付きで、２系統の排気システムを切換えて最適条件に。 ○アルゴンガス接続で、より高純度な貴金属膜をコーティング可能。 ○インターロック・安全機構が充実した電子顕微鏡向けスパッター装置。 【その他の特徴】 ○アルゴンガス等の導入・圧力調整機能を装備しています。 ○膜純度の向上に活躍。 ○マニュアル・調整操作は右から左へ順にスイッチを押していくだけの使いやすいレイアウト。 ○押し間違えても作動しない誤動作防止機能付きで、複数人の使用でも安心してお使いいただけます。 ○調整・条件出し完了後は、中央のオートコントロール スイッチを押すだけ。
- 用途/実績例
- 【用途】 ○電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置
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株式会社真空デバイス 本社
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