排ガス処理装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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排ガス処理装置 - 企業ランキング(全10社)

更新日: 集計期間:2025年04月02日〜2025年04月29日
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会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
【仕様(化学製品材料メーカー様納入事例の仕様)】 ○処理ガス量:200Nm³/h ○排ガス主成分:塩化メチル ○処理後の塩化水素(HCL)濃度:10ppm以下 ○消費電力:20kW ○設置面積:5m×13m 【用途】 ○石油化学プラント、製薬、繊維関係等の施設で排出される塩化メチルの処理
【仕様(参考仕様)】 [強制通風方式] ○型式 OF-:100/150/200/300/400/500/800 ○燃焼量(m³(N)/h):100/150/200/300/400/500/800 ○寸法(外形×高さ mm): →1050×7000/1140×7000/1330×7600/1440×8200/  1620×8800/1780×9400/1900×10900 ○処理ガス:バイオガス、消化ガス、その他 ○補助燃料:都市ガス、LPG [自然通風方式] ○型式 OF-N:50N/70N/100N/150N/200N/300N/400N ○燃焼量(m³(N)/h):50/70/100/100/200/300/400 ○寸法(外形×高さ mm): →700×5500/800×5800/950×6500/1150×7300/1300×8500/  1600×9000/1800×10000 ○処理ガス:バイオガス、消化ガス、その他 ○補助燃料:都市ガス、LPG 【用途】 ○バイオガス発電プラントの余剰ガス処理 ○下水・し尿処理場の余剰ガス処理
【仕様】 ○事例:事例1/事例2 ○処理ガス成分:NH3+H2+N2 ○最大処理ガス量(m³/h(N)):12.6/66.6 ○助燃ガス量(助燃ガス:都市ガス13A)(m³/h(N)) →事例1:2-6.5(Hi-Low-Off制御方式) →事例2:1.9~15.1(比例制御方式) ○処理後排ガス中のNH3濃度:0ppm ○処理後排ガス中のNOx濃度:8ppm以下/28ppm以下 ○設置スペース:(mm):W2000×D1500×H2000/W2500×D1500×H2100 【用途】 ○半導体デバイス研究・製造施設、その他アンモニアを含むガスを排出する施設からの排ガス処理
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  1. 代表製品
    排ガス処理装置『塩化メチル燃焼除害装置(VOC排ガス処理装置)』排ガス処理装置『塩化メチル燃焼除害装置(VOC排ガス処理装置)』
    概要
    【仕様(化学製品材料メーカー様納入事例の仕様)】 ○処理ガス量:200Nm³/h ○排ガス主成分:塩化メチル ○処理後の塩化水素(HCL)濃度:10ppm以下 ○消費電力:20kW ○設置面積:5m×13m
    用途/実績例
    【用途】 ○石油化学プラント、製薬、繊維関係等の施設で排出される塩化メチルの処理
    排ガス処理装置『余剰ガス燃焼装置(余剰ガス炉)』排ガス処理装置『余剰ガス燃焼装置(余剰ガス炉)』
    概要
    【仕様(参考仕様)】 [強制通風方式] ○型式 OF-:100/150/200/300/400/500/800 ○燃焼量(m³(N)/h):100/150/200/300/400/500/800 ○寸法(外形×高さ mm): →1050×7000/1140×7000/1330×7600/1440×8200/  1620×8800/1780×9400/1900×10900 ○処理ガス:バイオガス、消化ガス、その他 ○補助燃料:都市ガス、LPG [自然通風方式] ○型式 OF-N:50N/70N/100N/150N/200N/300N/400N ○燃焼量(m³(N)/h):50/70/100/100/200/300/400 ○寸法(外形×高さ mm): →700×5500/800×5800/950×6500/1150×7300/1300×8500/  1600×9000/1800×10000 ○処理ガス:バイオガス、消化ガス、その他 ○補助燃料:都市ガス、LPG
    用途/実績例
    【用途】 ○バイオガス発電プラントの余剰ガス処理 ○下水・し尿処理場の余剰ガス処理
    排ガス処理装置『アンモニア燃焼除害装置』排ガス処理装置『アンモニア燃焼除害装置』
    概要
    【仕様】 ○事例:事例1/事例2 ○処理ガス成分:NH3+H2+N2 ○最大処理ガス量(m³/h(N)):12.6/66.6 ○助燃ガス量(助燃ガス:都市ガス13A)(m³/h(N)) →事例1:2-6.5(Hi-Low-Off制御方式) →事例2:1.9~15.1(比例制御方式) ○処理後排ガス中のNH3濃度:0ppm ○処理後排ガス中のNOx濃度:8ppm以下/28ppm以下 ○設置スペース:(mm):W2000×D1500×H2000/W2500×D1500×H2100
    用途/実績例
    【用途】 ○半導体デバイス研究・製造施設、その他アンモニアを含むガスを排出する施設からの排ガス処理