更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
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1台で2ループ制御に対応し、発電効率向上をサポート
電力業界では、発電所の安定稼働と効率的な運用が求められます。特に、発電プロセスにおける温度や圧力、流量などの精密な制御は、発電効率の維持・向上に不可欠です。不適切な制御は、エネルギーの無駄や設備の負荷増大につながる可能性があります。当社のループコントローラ LC300/LC310/LC320は、1台で2ループ制御を可能にし、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・発電所の主要設備における温度・圧力・流量の同時制御 ・DCSバックアップとしてのプラント安定制御 ・各種プラントのプロセス量管理 【導入の効果】 ・発電プロセスの最適化による効率向上 ・プラント稼働の安定化と信頼性向上 ・運用管理の簡素化と人的ミスの低減
化学プラントの反応制御を、1台で2ループ対応するループコントローラで効率化
化学プラントの反応制御においては、温度、圧力、流量などのプロセス量を精密に管理し、安定した運転を維持することが求められます。特に、複数の反応プロセスを同時に、かつ正確に制御することは、製品の品質確保と生産効率の向上に不可欠です。不適切な制御は、反応の暴走や製品のばらつき、さらには安全上のリスクにつながる可能性があります。当社のループコントローラ LC300/LC310/LC320は、1台で2ループ制御に対応し、これらの課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・複数の反応器における温度・圧力・流量の同時制御 ・バッチ反応における原料投入量と反応時間の精密な管理 ・DCSバックアップとしての安定制御 【導入の効果】 ・1台で2ループ制御を実現し、設備コストを削減 ・精密なプロセス制御により、製品品質の安定化と歩留まり向上に貢献 ・PCソフトウェアによる容易なプログラム作成と、ユニット交換可能な構造によるメンテナンス性の向上
室間差圧（微差圧制御）を制御しメンテコストを削減！
『PECX』は、２室間の差圧をコントロールする室圧コントローラです。 圧力制御ダンパは、フィルタの目詰まりにより清掃や交換が必要になります。弊社のダンパコントローラで給排気量を調整することで、メンテナンスの頻度を下げることが可能になります！ 【特長】 ■２室間の差圧を常時コントロール可能 ■室間差圧（微差圧制御）を制御しメンテコストを削減 ■オールインワンでコンパクト ■制御性＆操作性のさらなる向上を実現 ■現地での据付・調整工事が容易で短期間 ★製品資料のほか、室圧制御の実測データ資料（抜粋版）も進呈中。 「PDFダウンロード」からスグにご覧いただけます。
レンジ：-100kPa～21MPa、精度：0.02%のコストパフォーマンスに優れた圧力コントローラです。
精度 ：FS±0.02%の圧力コントローラー/校正器であるCPC4000は、-100kPa～21MPa のレンジ圧に対応します。 センサをは2 個まで内蔵できます。 オプションの大気圧センサを内蔵すると、大気圧/絶対圧/ゲージ圧の表示切り替えが行えます。 ＜スペック＞ ・ゲージ圧 ：0...35kPa ～ 21MPa ・連成圧：-100kPa...1MPa ～ -100kPa ... 21MPa ・絶対圧：0...100kPa ～ 21.1MPa ・精度 ：FS±0.02% or 0IS-50 ・校正間隔：365日 ・設定単位：38 単位と二つのユーザ単位 ・7.0”カラーLC ディスプレイ、タッチスクリーン式 ・分解能 4～6 桁 ・供給圧力媒体：AirもしくはN2 ・供給電源：AC 100～110V / 200～240V、50/60Hz ・消費電力： 120 VA ・インターフェース ：Ethernet、IEEE-488、USB、RS-232、WiFi 詳細は製品データシートをご覧下さい。 【精度 ：FS±0.02%】 圧力コントローラー CPC4000
レンジ：-100kPa～21MPa、精度：0.02%のコストパフォーマンスに優れた圧力コントローラです。
CPC4000は-100kPa～21MPa の幅広い圧力レンジに対応し、精度もFS±0.02%と高精度な圧力校正器です。 内蔵センサは1個もしくは2 個からお選びいただけます。 オプションの大気圧センサ内蔵で、絶対圧/ゲージ圧/大気圧の表示切り替えが可能です。 ＜スペック＞ ・ゲージ圧 ：0...35kPa ～ 21MPa ・連成圧：-100kPa...1MPa ～ -100kPa ... 21MPa ・絶対圧：0...100kPa ～ 21.1MPa ・精度 ：FS±0.02% or 0IS-50 ・校正間隔：365日 ・設定単位：38 単位と二つのユーザ単位 ・7.0”カラーLC ディスプレイ、タッチスクリーン式 ・分解能 4～6 桁 ・供給圧力媒体：AirもしくはN2 ・供給電源：AC 100～110V / 200～240V、50/60Hz ・消費電力： 120 VA ・インターフェース ：Ethernet、IEEE-488、USB、RS-232、WiFi 詳細は製品データシートをご覧下さい。 【精度 ：FS±0.02%】 圧力校正器 CPC4000
火力発電所ボイラー設備の安定制御を実現!高精度な計装制御対応ループコントローラ
ループコントローラ LC300/LC310/LC320は、火力発電所ボイラー制御など、高い制御性能が要求される産業設備向けの計装制御機器です。発電設備では、燃焼状態、圧力、温度、流量など複数のプロセスを安定して制御する必要があります。本製品は、重要な制御ループを高精度に管理し、設備の安定運転を支援します。 火力発電所では、安全性と効率性を両立した運転管理が求められます。LC300/LC310/LC320は、発電設備の計装システムに組み込むことで、各種制御対象の状態維持や運転効率向上に貢献します。 長期間稼働する発電設備において、信頼性の高い制御環境を提供し、電力供給を支える設備運用をサポートします。ボイラー制御設備や発電関連計装設備など、産業プラントの安定運転に適したループコントローラです。
圧力ベースMFCで成膜プロセスの安定化と歩留まり向上を実現
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長）プロセス ・PVD（物理気相成長）プロセス ・ALD（原子層堆積）プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上
精密マスフローコントローラ。混合プロセスの精度を高め、医薬品品質の安定化に貢献。
医薬品製造において、混合プロセスのわずかな流量変動が製品の有効性や安全性に影響を及ぼします。そのため、ガス流量の高精度かつ安定した制御が不可欠です。 SLAMfシリーズ マスフローコントローラは、高精度制御と優れた長期安定性により、配合バランスの最適化を実現。製造から研究開発まで、幅広い工程において品質の一貫性向上を支援します。 【活用シーン】 ・ 医薬品製造におけるガス混合・供給制御 ・ 研究開発における精密ガス混合 ・ 品質管理工程での流量測定・モニタリング 【導入メリット】 ・ 混合精度の向上による製品品質の安定化 ・ 再現性の高いプロセス制御の実現 ・ 製造効率の向上とロス低減
ガスの精密制御で、研究開発を加速。KHK認証取得で手続きもスムーズ。
研究機関における各種実験では、ガスの流量および圧力を正確に制御・測定できるかどうかが、実験結果の信頼性と再現性を大きく左右します。特に、カーボンニュートラル関連研究をはじめ、水素、メタン、LNG、二酸化炭素、アンモニアなどのガスを扱う実験においては、わずかな制御誤差が結果のばらつきや評価の不確実性につながる可能性があります。 不正確なガス制御は、実験条件の再現性を損ない、検証作業の増加や研究スケジュールの遅延を招く要因となります。 SLA5800シリーズは、こうした研究現場の課題に対応するため、高精度かつ安定したガス流量制御・測定性能を提供。実験条件の再現性向上とデータの信頼性確保を通じて、研究開発を強力にサポートします。 また、幅広いガス種に対応可能な設計により、基礎研究から応用研究、評価試験まで、多様な研究テーマに柔軟に対応できるマスフローコントローラとして活躍します。 【活用シーン】 ・ガス分析 ・反応実験 ・材料合成 ・燃料電池の研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究効率の向上 ・高圧ガス関連の手続き簡素化
