更新日： 集計期間:2026年06月10日～2026年07月07日
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圧力ベースMFCで成膜プロセスの安定化と歩留まり向上を実現
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長）プロセス ・PVD（物理気相成長）プロセス ・ALD（原子層堆積）プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上
精密マスフローコントローラ。混合プロセスの精度を高め、医薬品品質の安定化に貢献。
医薬品製造において、混合プロセスのわずかな流量変動が製品の有効性や安全性に影響を及ぼします。そのため、ガス流量の高精度かつ安定した制御が不可欠です。 SLAMfシリーズ マスフローコントローラは、高精度制御と優れた長期安定性により、配合バランスの最適化を実現。製造から研究開発まで、幅広い工程において品質の一貫性向上を支援します。 【活用シーン】 ・ 医薬品製造におけるガス混合・供給制御 ・ 研究開発における精密ガス混合 ・ 品質管理工程での流量測定・モニタリング 【導入メリット】 ・ 混合精度の向上による製品品質の安定化 ・ 再現性の高いプロセス制御の実現 ・ 製造効率の向上とロス低減
ガスの精密制御で、研究開発を加速。KHK認証取得で手続きもスムーズ。
研究機関における各種実験では、ガスの流量および圧力を正確に制御・測定できるかどうかが、実験結果の信頼性と再現性を大きく左右します。特に、カーボンニュートラル関連研究をはじめ、水素、メタン、LNG、二酸化炭素、アンモニアなどのガスを扱う実験においては、わずかな制御誤差が結果のばらつきや評価の不確実性につながる可能性があります。 不正確なガス制御は、実験条件の再現性を損ない、検証作業の増加や研究スケジュールの遅延を招く要因となります。 SLA5800シリーズは、こうした研究現場の課題に対応するため、高精度かつ安定したガス流量制御・測定性能を提供。実験条件の再現性向上とデータの信頼性確保を通じて、研究開発を強力にサポートします。 また、幅広いガス種に対応可能な設計により、基礎研究から応用研究、評価試験まで、多様な研究テーマに柔軟に対応できるマスフローコントローラとして活躍します。 【活用シーン】 ・ガス分析 ・反応実験 ・材料合成 ・燃料電池の研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究効率の向上 ・高圧ガス関連の手続き簡素化
