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リニアモータ×エンコーダで高荷重600N（最大）でも滑らか＆高速応答
半導体製造業界では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて、高い精度と安定性が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、位置決めのわずかなズレが製品の品質に大きく影響します。V-817は、高精度な位置決めと長期安定性を提供し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ加工 ・精密検査 ・レーザー加工 【導入の効果】 ・2 µmレベルの位置決め再現性 ・非接触駆動による発塵抑制 ・長期安定性の実現
高速・高精度搬送を実現する最大800mmストロークのリニアモーターステージ
電子部品実装分野では、生産性の向上と品質の安定化が重要です。特に実装ラインにおける部品搬送では、高速動作と高精度な位置決めの両立が求められます。搬送速度の制限や振動による位置ズレは、実装精度や生産効率に影響を与える要因となります。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブを採用した高速リニアステージです。最大4,000 mm/s（4 m/s）の高速動作と高精度リニアエンコーダにより、高速搬送と高精度位置決めを同時に実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）**に対応しており、電子部品実装装置や検査装置などの高速搬送用途に適しています。 【活用シーン】 ・高速実装ライン ・部品のピック＆プレース ・検査装置 【導入の効果】 ・生産性の向上 ・品質の安定化 ・不良率の低減
0.1 µm分解能と最高4 m/sの高速動作で高精度測定を実現
計測分野では、高精度な位置決めと安定した動作が求められます。特に精密部品の検査や非接触測定、微細加工プロセスにおける位置決めでは、高分解能と高速動作を両立したステージが重要です。 V-855は、リニアモータによるダイレクトドライブと高精度リニアエンコーダを備えた高速リニアステージです。0.1 µmの最小インクリメンタルモーションと最大速度4,000 mm/s（4 m/s）により、高速かつ高精度な測定位置決めを実現します。さらに最大800 mmの長ストロークと高荷重（最大600 N）に対応しており、大型ワークや高速スキャン測定を伴う計測装置にも適しています。 【活用シーン】 ・精密部品の測定 ・半導体製造における検査 ・非接触測定システム ・研究開発装置の位置決め 【導入の効果】 ・高分解能位置決めによる測定精度の向上 ・高速動作による測定時間の短縮 ・長ストロークによる大型ワーク測定への対応
高速ステアリングミラー用途に最適な高ダイナミクスチップチルトステージ
光学システムでは、光ビームの微細な角度調整や光軸制御が性能を左右する重要な要素です。特に、レーザー加工や光通信、ビーム制御などの分野では、高速かつ高精度な角度制御が求められます。 S-330 ピエゾチップ／チルトプラットフォームは、ピエゾアクチュエータによる高速応答と高分解能を実現したTip/Tiltステージです。サブミリ秒の応答と優れた位置安定性により、高速ステアリングミラー用途や精密な光学アライメントに最適です。 【活用シーン】 ・レーザービームの精密な角度制御 ・光ファイバーアライメント ・光学顕微鏡の光軸調整 ・ビームステアリング／ビーム安定化 【導入の効果】 ・高速応答による調整時間の短縮 ・高分解能による光学システムの高精度化 ・ダイナミック制御による装置性能の向上
薄型・高精度。半導体製造の位置決めを高精度化
半導体製造では、ウェーハやフォトマスクの高精度な位置決めが、製品品質や歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程では、高い位置決め精度と安定した動作が求められます。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦や部品精度の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。高速かつ高精度な回転位置決めを実現します。これにより、半導体製造工程における検査・計測やアライメントの精度向上に貢献し、生産性向上と高品質なデバイス製造を支えます。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査・計測 ・ウェーハの精密位置決め ・フォトマスクアライメント ・半導体検査装置 【導入の効果】 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・高速駆動による生産性向上 ・摩擦熱の抑制による安定したプロセス ・非接触構造による長寿命・低メンテナンス
薄型・高精度、光学系の調整に最適なエアベアリング回転ステージ
光学システムの調整では、光軸の精密な位置決めや角度調整が重要な要素となります。レンズやミラーなどの光学素子は、わずかな位置や角度のずれでも、システム全体の性能に大きな影響を与える可能性があります。 A-68x エアベアリング回転ステージは、エア浮上ガイドを採用した高精度回転ステージです。従来のメカニカルガイドのような摩擦の影響を受けにくく、スティックスリップや摩擦熱を抑制。滑らかで安定した回転動作により、高精度な角度位置決めを実現します。 これにより、光学系のアライメント作業の効率化と、光学システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの角度調整 ・光学素子の位置合わせ ・光ファイバーのアライメント ・光学測定・検査装置 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・滑らかな回転動作による調整作業の効率化 ・非接触構造による長期的な安定性 ・低摩耗・低メンテナンス設計
サイズ60mm四方、XYZ軸対応のコンパクトリニアステージ
光学業界における調整作業では、精密な位置決めが求められます。特に、レンズやミラーの位置調整は、光学系の性能を左右する重要な要素です。微小なズレが、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。リニアステージ M-11x型は、小型ながらも高精度な位置決めを実現し、光学系の調整作業を効率化します。 【活用シーン】 ・レンズやミラーの位置調整 ・ファイバーアライメント ・光学部品の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業時間の短縮 ・調整作業の効率化
アイロンコア3相リニアモータ搭載、高精度位置決めを実現するリニアステージ
研究開発分野における実験では、精密な位置決めが実験結果の正確性を左右します。特に、微細な動きを制御する必要がある場合、位置決めの精度と安定性が重要になります。精度の低い位置決めは、実験データの信頼性を損ない、研究の遅延につながる可能性があります。PIMag リニアステージ『V-408』は、高精度な位置決め性能を提供し、研究開発における実験の効率化と精度の向上に貢献します。 【活用シーン】 産業および研究分野。 高い動特性と精度が求められるオートメーション技術分野。 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによるデータの信頼性向上 ・コンパクト設計による省スペース化 ・高耐荷重対応のクロスローラーガイドで摩擦を減少 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
マイクロマニピュレーションに適した小型リニアステージ
顕微分野では、試料の精密な位置決めが、観察の精度を左右する重要な要素です。特に、微小な対象をナノメートルレベルでの正確な位置制御が求められます。位置決めのわずかなズレが、観察像の劣化や、正確なデータ取得の妨げになる可能性があります。U-521は、小型ながら高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・微小対象の正確な位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・機械的摩擦が少ない ・熱影響が少ない 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
顕微鏡のサンプル位置決めに。高精度、省スペース、セルフロック。
顕微鏡の分野では、サンプルの精密な位置決めが不可欠です。特に、微小な対象を観察する際には、わずかな振動や位置ずれが、観察結果に大きな影響を与える可能性があります。U-723は、高精度な位置決め性能と、電源OFF時のセルフロック機構により、顕微鏡におけるサンプルの安定した位置合わせに貢献します。 【活用シーン】 ・顕微鏡のサンプル位置決めステージ 【導入の効果】 ・高精度な試料位置決めによる、観察精度の向上 ・ピエゾモーターの駆動原理および電気的制御は低コストで、カスタマイズも可能 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
レーザー切断・レーザー加工に最適な高精度位置決めステージ
レーザー加工では、切断位置や照射位置の精度が製品品質や加工効率に大きく影響します。特に精密加工や微細加工では、わずかな位置ずれが切断不良や材料ロスにつながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじと高精度リニアガイドを採用し、レーザー加工装置における安定した位置決めと高い再現性を提供します。レーザー切断装置や精密加工装置の位置決め用途に適しています。 【活用シーン】 ・レーザー切断加工 ・レーザー微細加工 ・ワーク位置決め ・レーザー加工装置 【導入の効果】 ・レーザー照射位置の高精度制御 ・切断品質の向上 ・材料ロスの削減 ・加工プロセスの安定化
光学系の精密位置調整に最適。幅60mm・最大200mmストロークのコンパクト高精度リニアステージ
光学システムでは、レンズやミラーなどの光学素子の位置調整が、装置性能を左右する重要な要素です。光軸のわずかなずれや焦点位置の変化は、画像品質の低下や測定精度の悪化につながる可能性があります。 L-836は、コンパクト設計ながら高精度な位置決めを実現するリニアステージです。精密ボールねじ駆動と高精度リニアガイドにより、光学素子の微調整や光学アセンブリ工程における安定した位置決めを実現します。光学装置や検査装置、研究用途など、さまざまな光学位置決め用途に対応します。 【活用シーン】 ・レーザー加工 ・光学アセンブリ ・試験・検査 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる光学性能の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化
顕微鏡試料のナノ精度走査に。0.1nm分解能と高リニアリティで安定した位置決めを実現
顕微鏡分野では、試料の精密な走査が求められます。特に、高倍率での観察や微細構造の解析においては、正確な位置決めが不可欠です。位置ずれは、観察像の劣化や測定精度の低下につながる可能性があります。PIHera P-620.1/629.1 シリーズは、0.1 nm分解能と高精度な位置決めにより、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な観察と測定 ・微細構造の正確な解析 ・実験効率の向上 詳細な製品仕様についてはカタログからご確認いただけます。ご質問などございましたら、ぜひお問い合わせください。
44mm角の筐体で、高さ計測をナノレベルで実現。
精密測定の分野では、正確な高さ計測が不可欠です。特に、微細な構造物の測定や、表面形状の精密なプロファイリングにおいては、ナノレベルの精度が求められます。従来の測定方法では、振動や温度変化の影響を受けやすく、正確な測定が困難な場合があります。P-611.Zは、最大0.2nmの分解能と0.1%のリニアリティを実現し、高さ計測における課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの高さ測定 ・MEMSデバイスの形状測定 ・光学部品の厚さ測定 ・表面粗さ測定 【導入の効果】 ・ナノレベルでの高さ測定が可能 ・測定時間の短縮 ・測定精度の向上 ・製品品質の向上
ウェーハ検査・チップ検査のZ軸位置決めに。高剛性クロスローラーガイド採用の精密Zステージ
半導体検査工程では、ウェーハやチップの微細な欠陥を正確に検出するため、ナノレベルでの精密な位置制御が求められます。特に検査カメラやセンサーのフォーカス調整、ウェーハ高さ位置の制御では、安定したZ方向の位置決めが検査精度を左右します。 L-310は、ボールねじ駆動とクロスローラーガイドを採用した高精度Zステージです。高いガイド精度と剛性により、半導体検査装置における安定したZ方向ポジショニングを実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ検査装置 ・半導体チップ検査装置 ・画像処理検査装置 ・検査カメラのフォーカス調整 ・プローブ高さ調整 【導入の効果】 ・高精度なZ軸位置制御による検査精度の向上 ・安定した動作による検査データの信頼性向上 ・高デューティサイクル対応による長時間運転 ・不良検出精度向上による歩留まり改善
1枚の薄型プラットフォームで、3軸動作可能な高精度エアベアリングステージ
半導体製造業界では、ウェーハやマスクなどの精密な位置決めが、製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノレベルの位置精度が求められます。振動や熱の影響を受けやすい環境下では、安定した位置決め性能が不可欠です。当社の薄型エアベアリング Z Tip/Tilt ステージは、3軸の超高精度位置決めを実現し、半導体製造における位置決め精度と生産性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・摩擦のないモーションプラットフォームによる高い耐久性 ・薄型設計による装置の小型化 ・3軸動作による柔軟な対応
小型・高剛性設計と選べるモーター（DCモーターまたはステッピングモーター）で、組立工程の効率化と安定化に貢献
電子機器製造の組立工程では、部品の正確な位置決めが品質と生産性を左右します。特に、小型部品の配置や精密な組み立てにおいては、高精度な位置決めが不可欠です。位置決めの誤差は、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。小型リニアステージ『L-505』は、DC/ステッピングモータを選択でき、高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 ・電子部品の配置 ・基板への部品実装 ・精密機器の組み立て 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる品質向上 ・組み立て時間の短縮 ・不良品の削減
ペルチェの駆動電源独自の回路方式を採用！小型・高効率で高精度なドライバ
『TDC-1640/1660 シリーズ』は大容量ペルチェ素子用の1ch デジタルコントローラ（1200Ｗ/1800W タイプ）です。 温度変換部・PID 制御部・バイポーラ高効率定電流駆動部が一体となっており、AC 電源を供給するだけでペルチェ素子の温度制御ができます。 さらに大電力タイプながら制御安定度±0.03℃を実現しました。 またパソコンとのインターフェイスを標準装備していますので、あらゆるシステムに対応することができます。 【特徴】 ○小型・高精度 ・マイコンによるソフトウェアディジタル制御を採用で高精度 ・ペルチェの駆動電源に当社独自の回路方式を採用し 小型・高効率で高精度 ○高速 ・ペルチェの温度コントロール専用に開発 ・制御サイクルが10 回/秒と高速 ○汎用性 ・表示パネルから温度センサ（Ｐt100，サーミスタ）を選択して使用可 ・パソコンとのインターフェースを利用し、種々の温調システムを構築 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
位置決め精度が求められる半導体製造に最適！ストッパー不要で微動なく固定。
半導体製造において、高精度な位置決めは欠かせません。しかし、従来のアリ溝式ステージでは、ストッパーによる微動や位置ずれが発生し、作業効率の低下や製品不良のリスクがありました。ミラック光学の『セルフロックステージ SLXシリーズ』は、特許取得のロック機構により、止めた位置から微動せず、高精度な位置決めを実現します。 【活用シーン】 - 半導体製造におけるウェハ搬送や検査工程 - 精密部品の加工や組立工程 - マイクロデバイスの製造工程 - 研究開発における精密位置決め - 自動化システムにおける高精度な位置制御 【導入の効果】 - 位置決め精度向上による製品不良率の低減 - ストッパー操作の省略による作業時間の短縮 - 微動による位置ずれ防止による作業効率向上 - 高精度な位置決めによる製品品質の向上 - 長時間安定した位置決めを実現
位置決め精度を追求！ストッパー不要で微動なし。高精度加工を支えるステージ。
精密な機械加工において、高い位置決め精度と安定した固定は不可欠です。しかし、従来のアリ溝式ステージでは、ストッパーやクランプ操作による微動や位置ずれが発生し、加工精度を阻害する要因となっていました。ミラック光学の『セルフロックステージ SLXシリーズ』は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、これらの課題を解決し、高精度な加工を実現します。 【活用シーン】 - 高精度な部品加工 - 検査工程における精密な位置決め - 長時間固定が必要な作業 - 限られたスペースでの作業 - 複雑な形状の加工 【導入の効果】 セルフロックステージ SLXシリーズを導入することで、加工精度向上、作業効率アップ、作業時間の短縮、不良品の削減など、様々なメリットが期待できます。
位置決め精度が求められる自動化システムに！ストッパー不要で微動なし！
自動化システムにおける高精度な位置決め作業に最適な、アリ溝式ステージ『セルフロックステージ SLXシリーズ』をご紹介します。SLXシリーズは、特許取得のセルフロック機構を搭載することで高い位置決め精度と安定性を提供します。 【活用シーン】 - 高精度な位置決めが求められる精密機器の製造現場 - 自動化された検査工程におけるサンプルの位置決め - ロボットアームによる部品の搬送や組立工程 - 研究開発における実験装置の精密な位置調整 【導入の効果】 - 位置決め精度向上による製品品質の向上 - 手動ストッパーやクランプによる作業時間の削減 - 位置ずれによる不良品の発生抑制 - 自動化システムの安定稼働と信頼性の向上
位置決め精度が求められる実験に！ストッパー不要で微動なく固定。
研究開発における高精度な実験や検査作業において、試料の位置決めは非常に重要です。ミラック光学の『セルフロックステージ SLXシリーズ』は、特許取得のセルフロック機構を搭載することで、ストッパー不要で確実な固定を実現。微動なく、高精度な位置決めを可能にするアリ溝式ステージです。 【活用シーン】 - 研究開発における精密な実験や検査 - 微細加工や組立作業 - 光学顕微鏡や測定機器のステージ - 自動化システムにおける位置決め機構 - 長時間安定した位置決めが必要な用途 【導入の効果】 - 位置決め精度が向上し、実験結果の信頼性が高まります。 - ストッパー操作が不要になり、作業効率が向上します。 - 微動や位置ずれによるミスを防ぎ、作業の安全性を高めます。 - スタイリッシュなデザインで、実験スペースをスッキリと見せることができます。
ストッパー不要で位置ズレを防ぐスリム形状で狭小スペースでも使いやすい！【※使用事例の資料3点を無料進呈】
バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 ストッパー類を排した構造によりスリムな形状を実現し、 省スペース設計の治具や装置にも適しています。 精密測定での位置ズレも回避でき、半導体や電子部品の 生産設備メーカーにも導入実績がある製品です。 【特長】 ■ステージの移動はお手持ちの六角レンチまたは六角ドライバーを使用 ■±15mmの広い移動量で柔軟な位置調整が可能 ■水平方向以外の設置も可能 ■1軸と2軸タイプをラインアップ ■高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍 ★現在、セルフロックステージの特長をわかりやすく紹介した動画を公開中です。 ※使用事例の資料3点を無料進呈中です。製品の詳細は資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
「バキュームチャック」や「ヒートコマ」などをラインアップ！半導体の製造に関連する製品をご紹介
当社が取り扱っている『多孔質吸着ステージ』をご紹介します。 「バキュームチャック」はダイボンディング時にウエハーを吸着。 また、ピックアップ時に近隣チップの浮きや回りの問題を解消するには 「ポーラスチャック」を推奨します。 この他、「ヒートコマ」はワーク搭載部に多孔質材を使用する事により、 吸着穴が無くても全面均一な吸着が可能です。 【特長】 ＜バキュームチャック＞ ■ダイボンディング時にウエハーを吸着 ■カスタムオーダーで様々な材質、形状、パターンの対応が可能 ＜ポーラスチャック＞ ■ウエハーシート(チップ)を全面均一に吸着が可能 ■ウエハーシートのたわみ解消 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
