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ソフト(流体解析) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

ソフトの製品一覧

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3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体解析ソフトウェアです

『Particle-PLUS』は プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した シミュレーションソフトウェアです。 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして 標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、 お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな事例に対応◆ ・マグネトロンスパッタ ・PVD、プラズマCVD ・容量結合プラズマ (CCP) ・誘電体バリア放電 (DBD) ・電気泳動　など ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他解析

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外部空力解析-超高速CFD Altair ultraFluidX

外部空力解析-超高速CFD Altair ultraFluidX

乗用車や大型車、建築物や環境の空力特性を超高速で予測するシミュレーションツール

ultraFluidXは、乗用車や大型車、建築物や環境の空力特性を超高速で予測するシミュレーションツールです。ultraFluidXを使用すれば、非常性の強い空力シミュレーションを1基のサーバーだけで一晩で完了できます。地上輸送車両、建築、エンジニアリング、建設構造から個々のアプリケーションまで、設計者はultraFluidXを用いて流体力学を理解し、革新的な構造を調査して効率を向上させ、ユーザーの快適性を高め、安全なプロジェクトを期限内に提供できます。 ＜導入メリット＞ ・忠実度の高い過渡解析の実行 ・短いターンアラウンド時間 ・大幅なコスト削減

  • 熱流体解析

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【GT-SUITE】燃料噴射と油圧系

【GT-SUITE】燃料噴射と油圧系

ユーザー独自のライブラリも作成可能！基本的な熱・油圧シミュレーション

『GT-SUITE』を使用してすべての種類の燃料噴射、油圧のコンポーネント、 システムを設計・解析・最適化することができます。 コンポーネントの詳細モデリングは、流体構造の相互作用をモデル化する、 柔軟でよりハイレベルな流体・機械テンプレート（FMT）を使用して 容易に行うことができます。 テンプレートを利用すれば、任意の噴射・油圧式モデルを短時間で作成でき、 操作が簡単なグラフィカルプログラミング法やユーザーサブルーチンを使用して、 ユーザー独自のライブラリも作成することができます。 【アプリケーション例】 ■燃料噴射 ・コモンレール、直噴・ポート噴射、ユニットインジェクタ、ポンプラインノズル ・高圧・低圧システムとそれぞれの相互作用 ・ディーゼル、ガソリン、その他代替燃料（E85、DME、LPGなど） ・ソレノイド、ピエゾ、電気・油圧式、または機械式のアクチュエーション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 機構解析
  • その他解析

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【解析事例】多種多様な熱流体システム技術構築

【解析事例】多種多様な熱流体システム技術構築

電子機器に対する冷却設計にご利用いただいた事例などをご紹介！

三菱電機様が多種多様な熱流体システム技術構築に当社の製品を ご活用いただいた事例をご紹介いたします。 同社は今後の技術構築のために最適化ツールの活用が必須であると考え、 modeFRONTIERとFloTHERMを導入し、早速、業務で必要になった 自然空冷ヒートシンクの形状最適化にトライされました。 最適化の計算条件は、入力変数に内側フィンの枚数、ベースの厚み、 フィンの高さ、フィンの厚みを設定し、幅、長さ、全体の高さは固定値として、 最適化計算を実施、最適形状を抽出を実現。 さらに、基板上の部品配置の最適化計算にも活用されています。 【特長】 ■汎用的な技術を構築し製品開発に貢献 ■大規模計算、ユーザー数の増加、多拠点化などに対応できるCFDツール ■計算時間の短縮が見込める ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他解析
  • シミュレーター
  • 熱流体解析

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LEDの多重量子障壁の有無比較ツール

LEDの多重量子障壁の有無比較ツール

LEDの多重量子障壁の有無比較のためのツール

多重量子障壁(MQB: Multiple Quantum Barriers)超格子(SL: superlattice)のトンネリングモデルを解説。超格子の有無をシミュレーション比較。（バンド図(band diagram)、L-I特性、内部量子効率(IQE)、電子リーク(electron leakage)など）多重量子障壁は電子のポテンシャルバリアを増加し電子リークをより効果的にブロック。

  • シミュレーター

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シリコンICプロセスシミュレータ

シリコンICプロセスシミュレータ

CSupremにおける物理モデル

イオン注入(ion implantation), 蒸着(deposition)、エッチング(etching)、拡散(diffusion)、酸化(oxidation)に対する物理モデルをベースに様々な半導体構造の1次元、2次元および3次元のプロセスシミュレーションが可能。IC製造工程の研究開発コストをコントロールするのに欠くことのできない信頼のある正確なシミュレーションツール。デバイスシミュレーターのためのドーピングプロファイル(doping profile)を出力可能。

  • シミュレーター

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FDTD計算をGPUで加速

FDTD計算をGPUで加速

GPUによるFDTD計算の処理速度の向上

3次元レンズ構造およびCIS 3次元 CMOSイメージセンサーをベンチマーク例としてピックアップ。クロスライトのFDTDのGPUバージョンは3次元の実デバイス構造に対し66倍処理が向上。ベンチマーク結果は安価なGPUカードで、Core i7 3930K PC 10クラスター(60コアに相当する)と同等の処理速度を実現。

  • シミュレーター

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解説資料『設計者CAEの失敗の原因・成功のポイント』 ※配布中

解説資料『設計者CAEの失敗の原因・成功のポイント』 ※配布中

CAEの選定ポイントについてイラスト付きで紹介。豊富な機能を搭載した低価格プラットフォームの情報も

当社では、“CAE”を用いた製品開発を効率よく進めるために 押さえたいポイントについて掲載した資料を配布中。 よくある導入後の悩みについて、実際の会話を模した形式で 紹介しつつ、それらの問題を解決するために考慮したいポイントを 初心者にもわかりやすく解説しています。 【掲載内容】 ■導入時のストーリー(導入時／導入後) ■よくある導入後の悩み ■成功のためのポイント例 ■ANSYS Discoveryの紹介 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • その他解析

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株式会社TEK 事業案内

株式会社TEK 事業案内

CAD/CAM/CAEでお客様の製品開発業務を最適化・サポート致します！

当社は2004年に設立し、CAE関連　販売、教育、サポート、 コンサルティングを行っている会社です。 自動車・工作機械・産業機器・家電・工業デザイン・電子機器・精密機器・医療機器 その他の産業における技術者に支持されている様々な製品販売業務を展開しております。 【事業内容】 ■CAD/CAM/CAE関連　販売、教育、サポート、コンサルティング ■受託解析（構造、衝撃、熱、電磁場、熱流体） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他CAD関連ソフト
  • 受託解析

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【無料開催】CFDソリューションセミナー2022

【無料開催】CFDソリューションセミナー2022

CFD統合環境Fidelityや高次精度ソルバーのご紹介に加え、様々な分野に関して、製品群やソリューションをご紹介いたします。

2022年11月16日・17日の2日間に渡って、オンラインイベント「CFDソリューションセミナー2022」を開催いたします。 本セミナーでは、当社の新しいCFD統合環境であるFidelityを紹介し、 様々な分野に関して、製品群やソリューションをご紹介いたします。 液体水素の解析、ドローンの空力最適化、電子機器のジュール熱解析、 データセンターのデジタルツイン化など、当社の最新のホットトピックを交えながら、 Cadenceソフトウェアの活用方法を数多くご紹介しますので、ぜひご参加ください。 【セミナー概要】 ■開催日時：11月16日（水）　14:00-16:05 　　　　　　11月17日（木）　14:00-15:40 ■主催：日本ケイデンス・デザイン・システムズ社 ■費用：無料 ■会場：オンライン（Zoomウェビナー） ■ご参加方法 ・ご登録いただきました方には、各開催日前日の17:00までに 　Zoomアクセス情報をお送りします。 ■ご登録締切：11月15日（火） 16:00 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 技術セミナー

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【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シミュレーション事例

CCP（容量結合プラズマ）装置のプラズマ解析に関する事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 電極が複数ある場合や重畳周波数を印加する場合に対しても 高速にシミュレーションを行うことができます ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解析」3Dシミュレーション事例

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する3Dでの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS

半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS

多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミュレータ。カタログのダウンロードは無料！

＜主な特徴＞ ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 (半導体レーザは別製品LASTIPとPICS3Dでシミュレーションが可能) ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 ＜多様な物理モデルや機能＞ ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリア温度の2次元分布 ■熱輸送モデルで用いられる格子温度の２次元分布 ■様々なバイアス条件のもとでのバンド図 ■任意の周波数帯における交流微小信号応答解析の結果 ■荷電子混合モデルを用いた量子井戸のサブバンド ■半導体中の深いレベルにトラップされた不純物占有数と密度の２次元分布 ■光検出器などの光デバイスの２次元光学場分布 ■LEDの自己放出スペクトルの電流依存性 ■FDTDインターフェイス ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード 　 もしくはお問い合わせ下さい。 ■試用版のご希望は下記のお問い合わせからご連絡ください。

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高応力GaNデバイスの研究ツール

高応力GaNデバイスの研究ツール

高応力GaNデバイスの研究ツール

高応力(higly stressed)がかかるGaN多重量子井戸(MQW)の理論モデルを解説。クロスライトのデバイスシミュレーターでシリコン上に任意の結晶方向(crystal orientations)に成長したGaNデバイスLEDについて次のような結果を得ることが可能。シリコン基板からの張力(tensile)は多重量子井戸(MQW)のバンドギャップ(band gap)を減少し波長が長くなる。多重量子井戸(MQW)中の圧電電荷(piezoelectric charges)の減少。内部量子効果(IQE)の減少はEBL(electron blocking layer)インターフェイス上の圧電電荷の増加が原因。

  • シミュレーター

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【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」シミュレーション事例

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、 高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 ◇『Particle-PLUS』の特徴 ・低圧プラズマ解析を得意とします ・軸対称モデルと鏡面対称境界条件を組み合わせで 装置全体のシミュレーションを行う必要なく、 高速に結果を得ることができます。 ・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします ・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます ・自社開発ソフトの強みとして お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・ポテンシャル分布 ・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布 ・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス ・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル ・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布 など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

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