温度分布レンジ0.2℃以下！半導体製造装置向けホットプレート事例
マイカヒーターの採用でレンジ0.2℃以内の温度均一性を実現！
洗浄装置、塗布・現像装置、熱処理装置、その他半導体製造前工程の 補助的・特殊処理装置を取り扱う半導体製造装置メーカー様の ホットプレートユニットに「マイカヒーター」を導入した事例を ご紹介いたします。 同社ではホットプレート上のウエハにおける温度差を極限まで抑える ことを求められていました。従来の加熱方式では、微小な温度ムラが 製品の歩留まり低下の原因となることがあり、さらなる均熱性の向上が 課題でした。 導入後は150℃の動作環境において、ウエハ上の温度分布はレンジ0.2℃以下 を達成。これは業界でも極めて高いレベルの均熱性であり、製作工程における 安定性と再現性を大きく向上させる結果につながりました。 【事例概要】 ■背景：温度ムラ解消のために、均熱性に優れた加熱ソリューションが 求められていた ■解決方法：均熱性と耐熱性に優れたマイカヒーターを採用し、 パターン設計から最適化を図った ■効果：温度分布レンジ0.2℃以下を達成し、プロセスの安全性と 装置全体の信頼性が向上 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社サカエ 鬼石工場
- 価格：応相談
