株式会社コシブ精密 フォトマスク
レザー描画装置で高精度に描画します。
「ミクロの世界のエキスパート」をスローガンにフフオォトトフファブリ参一雪ヨンー筋に約40年,今新しいし一tj=直接描画装置の導入により,より高精度,より高品質なパターンをお届けします。 光崇医療機器半導体製造装置,精密,測定機器など活躍の場所は広範囲に及び,単品から量産までフレキシブルに対応いたします。
- Company:株式会社コシブ精密 長野工場
- Price:応相談
Last Updated: Aggregation Period:2025年08月20日~2025年09月16日
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レザー描画装置で高精度に描画します。
「ミクロの世界のエキスパート」をスローガンにフフオォトトフファブリ参一雪ヨンー筋に約40年,今新しいし一tj=直接描画装置の導入により,より高精度,より高品質なパターンをお届けします。 光崇医療機器半導体製造装置,精密,測定機器など活躍の場所は広範囲に及び,単品から量産までフレキシブルに対応いたします。
株式会社コシブ精密 『薄膜製品』 総合カタログ
「株式会社コシブ精密 『薄膜製品』 総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。
様々な現場で使われるフォトマスク。お客様のニーズに合わせた好適な製品を提供します
日本フイルコンでは、現在使用される凡そ全てのマスクサイズに 対応しております。 タテ・ヨコのラインをベースにした場合で、最小0.5µmの ライン&スペースまで対応可能。 実際には、マスクサイズ等により解像可能な線幅が異なりますので、 デザイン確認後、可否を回答させて頂いております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■現在使用される凡そ全てのマスクサイズに対応 ■ガラスを切り出すことで規格外の大きさへの切り出しも可能 ■10" 以上のサイズも取り扱っており、最大813mm×813mmまで対応 ■タテ・ヨコのラインをベースにした場合で、最小0.5µmのライン&スペースまで対応 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コーティングによる長寿命化でコストメリット創出!半導体マスクのことなら竹田東京プロセスサービスへ。
【適用マスクとそのメリット】 ■クロムガラスマスク…防汚性・清掃性の向上 ■エマルジョンガラスマスク…耐久性向上(膜面保護・擦傷防止) ■フィルムマスク…耐久性向上(ESD対策) 【コーティングの特徴】 ◆透過率(波長:365nm)…95%以上(未コートガラスとの相対値) ◆UV照射耐性(10,000J/cm2照射)…低下なし ◆密着性(碁盤目試験)…剥がれなし ◆耐水性(純水で浸漬10分)…変化なし ◆耐溶剤性(アセトン・IPAで浸漬10分)…変化なし ◆耐薬品性(アルカリ液(希釈5%)・酸液(希釈5%)で10分浸漬)…変化なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
とりあえず、これ! たった5スワイプで理解できる!フォトマスク初心者のための、今さら聞けないフォトマスクの基本!
初心者のための『5スワイプでわかる!フォトマスクの基本』 本資料は、フォトマスクの基本を知りたい!という方のためのお役立ち資料です。 図やイラストを用いてわかりやすく解説しており、たった5スワイプで理解できてしまいます! [こんな時にぴったり!] ◆知識の浅い若手社員への説明資料がほしい… ◆異動してきたばかりで情報収集したい… ◆今更基本的なことは社内で聞きづらい… [当社について] 高い品質と精度のフォトマスク(ガラスマスク)、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
【技術資料公開】電機・電子・半導体業界の製造現場の静電気トラブルに!帯電・静電破壊(ESD)対策方法を事例を交えご紹介
本資料では、静電気が起きるメカニズムについて、 Crガラスマスクの例をもとに説明し、おすすめする4つの対策方法をご紹介しています! これを読めば静電気による「作業不快・部品破壊・集塵による不良」等々のお悩みを解決できます。 特に、電機・電子・半導体業界の製造現場の方におすすめの内容となっております。 [掲載内容] ■静電気対策をしていないと、どうなるのか? ■なぜCrガラスマスクで静電破壊が起きるのか? ■どういうパターンで発生しやすいのか? ■静電破壊を発生させないためには ■静電破壊を起こりにくくする『静電破壊対策用Crガラスマスク』もご紹介。 ⇒フォトマスクのプロだから分かるノウハウをおまとめしております。 [当社について] 竹田東京プロセスサービスでは、高い品質と精度のフォトマスク(ガラスマスク)、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
ガラス、シリコン、セラミック、各種金属へ高精度な微細加工を実現するマイクロブラスト加工。ガラスマスクへの活用例をおまとめ
竹田東京プロセスサービス[ファインプロセス本部]では、ガラスマスクへのマイクロブラスト加工を承っております。 ~ 現在、技術資料「マイクロブラスト加工とガラスマスクへの活用」を公開中! ~ 下部[PDFダウンロード]より、スグにご覧いただけます。 「マイクロブラスト加工」とは、微細粒子を圧縮エアー使用して高速で定量的に被加工物に噴射し、 脆性破壊原理により高精度な微細加工を実現する加工方法です。 *加工対象:ガラス(青板・石英)、シリコン、セラミック、各種金属など 【このようなご要望にお応えできます!ガラスマスクへの加工事例】※資料内容抜粋) ●カメラの視認性を上げたい… → 表面粗し加工による高コントラスト化で改善! ●装置の位置合わせに時間がかかる… → 穴あけ加工を生かした工夫で改善! ●部品実装後にガラスマスクを使って露光したい… → ガラスマスクへのザグリ加工で解決! ⇒詳細は資料をダウンロードの上、PDFにてご参照ください。 *本資料は[PDFダウンロード]よりご覧いただけます。 *その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク
エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ:DXF,DWG,GBX,GDS II や画像データBMP,TIFなど ○パターン形状:直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途:センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正:プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行う 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。
フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○露光用の原板 ○レーザーを光源とした最新の装置により描画 ○多様なニーズに対応 ○回路基板や光学部品のパターンをCADを用いて設計 ○基材の種類: ガラス基板がソーダライムと合成石英の2種類、フィルムがPET 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高品質なフォトマスクを短納期、低価格でご提供
高精度レーザー描画装置と高度に管理されたクリーン環境、長年に亘るノウハウを結集して構築したプロセスにより、高精度かつ高品質なフォトマスクをご提供します。 徹底的に合理化されたプロセスは製造コストの削減とリードタイムの短縮を実現。高い品質はもちろん、他社に負けない低価格、最短中一日納入の短納期対応の両立を可能としました。 また、更なる品質向上を目指して洗浄装置、検査装置など大幅な設備増強を行い、日々高度化するお客様のご要望を満たす製品作りに努めております。 安価な量産用コピーマスクからペリクル付きレチクルまで幅広く対応可能。お客様の用途とご要望に応じて最適なご提案をさせて頂きますので、詳細はお気軽にお問い合せ下さい。
今さら聞けない!フォトマスクとは?から、用途や製造工程をご紹介!長年の歴史と先端技術があるから、信頼性が高く高精度を実現できます
『フォトマスク』は、「電子デバイス(半導体)」、「ディスプレイ」、 「プリント基板」、「マイクロマシン/MEMS」などを製造するときに 使用されるツールで、パターニングの原版になるものです。 写真で例えると、「ネガフィルム」の役目に当たり、「電子回路」などを 形成する基板が「印画紙」にあたります。 当社では、長年の歴史と先端技術だから実現出来る、信頼性が高く 高精度なフォトマスクを提供します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用途(一部)】 ■CPUやメモリなどの電子デバイス(半導体/集積回路) ■トランジスタ、コンデンサなど単機能のディスクリート半導体 ■CCD/CMDSイメージセンサやLEDなどの受光、発光素子 ■マザーボードなどのプリント基板 ■液晶・OLEDなどの画像表示デバイス ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精細クロムマスクをはじめとする、大型フォトマスク。コーティング加工も可能
メッシュ株式会社は、最高レベルの画像品質と位置精度を必要とする、 大型フォトマスクをご提供します。 クロムマスク、高精細クロムマスクをはじめ、フィルムマスクや エマルジョンマスクをラインアップしています。 クロムマスクにはフッ素コーティング加工ができ、エマルジョンマスクは ハードコーティングをしたプロテクト加工品が提供可能です。 【製品規格(抜粋)】 ■クロムマスク ・材料:ソーダライム/合成石英 ・基板サイズ:~1200×1700mm ・描画サイズ:1060×1650mm ■高精細クロムマスク ・材料:ソーダライム/合成石英 ・基板サイズ:~1400×1500mm ・描画サイズ:1350x1450mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガラス基材で湿度影響を低減し、高い寸法安定性と解像性を実現。CSP、FC-CSP、薄膜チップ部品等に!
『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので 湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、 タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度な意匠成形を実現!優れた耐久性と微細性で、半導体チップや基板実装、各種パッケージ成形に好適。
『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く 高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 【仕様・規格(抜粋)】 ■最大マスクサイズ(mm):800×800×12t ■ガラス材質:ソーダライム(SL)/石英(QZ) ■膜質:2層 低反射クロム膜/その他 ■膜厚(μm):100~160/その他 ■環境温度による影響:0.8μm/℃/100mm(SL)0.05μm/℃/100mm(QZ) ■環境湿度による影響:なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CAD設計からマスク製造まで行う一貫生産体制で高品質なフォトマスクをご提供いたします!
竹田印刷(株)ファインプロセス事業部と東京プロセスサービス(株)は、2023年4月に事業統合し、新たに「竹田東京プロセスサービス(株)」としてスタートしました! 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【製品ラインアップ】 ■クロムガラスマスク 高精細・高精度の画像形成が可能であり、マスク耐久性が高い ■エマルジョンガラスマスク フィルムマスクよりも環境影響を受けにくく、寸法安定性と解像性が良好 ■フィルムマスク コストパフォーマンスが高く、20~30μm程度の微細な画像形成も可能 【オプション加工】 表面コーティング / クロムガラスマスク向けコーティング / ペリクル付きクロムガラスマスク 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク ●精度校正用プレート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。