卓上ダイレクト型大気圧プラズマ装置 TK-50
低価格な小型装置！
●低価格 ●小型 - 研究室にも置きやすい省スペース - 他の機器との組み合わせが容易 - 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ●シンプルな構造 - メンテナンス、点検が容易 - 電極（消耗品）を簡便に交換 ●均一性 - ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 - 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト - ガス供給なしで使用可能
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：50万円 ~ 100万円
プラズマ装置×株式会社魁半導体 - 企業1社の製品一覧
製品一覧
16～19 件を表示 ／ 全 19 件
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従来の約 1/3 の価格設定！卓上真空プラズマ装置
有機物の除去・クリーニング可能！ガス導入せず残留大気で処理するタイプよりも安定したプロセスが実現
当社の真空プラズマ製品は洗浄やエッチング、薄膜形成など幅広い研究で利用されています。 ガス導入型「YHS-G」は複数のガス導入に対応し流量調整や細かな処理条件の設定が 可能な高機能製品として研究や生産現場でも利用されています。 今回「YHS-O」をシリーズのラインナップに加え、 ガス導入は酸素に限定し、本体の機能や構造を見直して新たに開発しました。 当社従来品の約 1/3 の価格設定で提供、また短納期化も可能にしました。 更に、ガス導入せず残留大気で処理するタイプよりも安定したプロセスが実現しました。 【用途例】 ■有機物の除去・クリーニング →実験用具のドライ洗浄や接着の前処理 ■表面の活性化、水酸基の付与 →細胞培養容器など、バイオ・医療分野で ■PDMSとガラスの接着剤を使わない貼合わせ →マイクロ流路の作製 ※お問合せまたは、下記よりカタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：応相談
ダイレクト型 大気圧プラズマ装置 D300-TB
導入ガス不要、空気での表面改質が可能。
・導入ガス不要、空気での表面改質が可能 ・幅広のスリット照射が可能（〜1000mm） ・処理効果が高い
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：応相談
低温ペン型 大気圧プラズマ装置 BARRIER-20
より低温かつ、低流量での大気圧プラズマ処理が可能！表面改質：大気圧環境下において、電荷のダメージがないプラズマを安定に生成！
・熱によるダメージは殆んどありません。 ・空気、窒素、Ar、He等様々なガスでお使いいただけます。 ・AC100Vのコンセントで動作しますので、様々の状況での使用が可能です。 ・ラボ用装置としてもご利用頂けます。 ・寸法(突起部含まず)(mm) 260(W)×280(D)×139(H) ・メンテナンスも容易です。
- 企業：株式会社魁半導体
- 価格：応相談
