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再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー
光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上
光学系の微調整に最適。0.1nm分解能の高精度ナノポジショナー
光学分野における調整作業では、光軸のわずかなずれがシステム性能に大きく影響します。特に微細な位置調整が求められる場面では、高分解能に加え、優れた直線性と再現性が不可欠です。不正確な位置決めは、光学性能の低下や測定誤差の原因となります。 本ナノポジショナは、最大0.1nmの高分解能と0.02%の優れた直線性を実現。さらに、可変ストロークおよびX・XY・Z・XYZの多軸構成に対応し、用途に応じた柔軟なシステム構築が可能です。非接触センサによる直接位置計測とゼロバックラッシュのフレクシャガイドにより、高い安定性と再現性を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学系の性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善
44 mm角のコンパクト設計。120 µm動作量と0.2 nm分解能を実現するピエゾナノポジショニングステージ
半導体製造工程では、ウェーハ加工や検査工程においてナノメートルレベルの精密な位置決めが求められます。特に微細化が進む半導体プロセスでは、位置決め精度が製品品質や歩留まりに大きく影響します。 P-611.XZ / P-611.2は、44 mm × 44 mmのコンパクトな設計ながら、最大120 µmの動作量と0.2 nmの高分解能を実現するピエゾナノポジショナーです。高精度フレクシャガイド機構とPICMA(R)ピエゾアクチュエータにより、半導体製造装置や検査装置における安定したナノポジショニングを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査装置 ・ナノ加工・微細加工装置 ・光学アライメント装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの位置決めによる歩留まり向上 ・高精度ポジショニングによる検査精度向上 ・コンパクト設計による装置組込みの容易化 ・高い再現性による安定したプロセス制御
