1～9 件を表示 ／ 全 9 件
0.4nm分解能と100µm XYZ動作により、光軸調整と微細走査を安定化
P-616 は、パラレルキネマティクスを採用した XYZ ピエゾナノポジショナです。 高信頼性PICMAピエゾセラミックス、フレクシャーガイド、静電容量センサを各軸に内蔵した、再現性10nm、0.4 nm システム再現性を提供します。 ファイバーの位置決めとアライメント、顕微鏡、ナノ位置決め、フォトニクス、マイクロマニピュレーションなどに最適。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。 【特長】 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
44mm角・最大120µmストローク・0.2nm分解能の高精度ナノポジショナー
光学分野における調整作業では、光軸の高精度な位置決めが求められます。特に、微細な調整が必要な光学素子の配置では、わずかな位置ずれが光損失や測定誤差を引き起こし、最終製品の性能や品質に影響を与えます。 本XZ・XYZナノポジショナーは、44mm角のコンパクト設計ながら、最大120µmのストロークと0.2nmの高分解能を実現。ゼロバックラッシュのフレクシャガイド機構により、再現性の高い精密位置決めが可能です。さらに、PICMA(R)ピエゾアクチュエータの採用により、高い信頼性と長寿命を兼ね備えています。 【活用シーン】 ・顕微鏡の対物レンズ調整 ・ファイバーアライメント ・光学素子の位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる測定精度の向上 ・作業効率の向上 ・製品品質の安定化
ナノメートル精度の位置決めを、コンパクトかつ高コストパフォーマンスで実現
半導体業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高い精度が求められます。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルの位置決め精度が製品の品質を左右します。従来のシステムでは、大型化や高コストが課題となっていました。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、設置面積わずか44 x 44mmのコンパクト設計でありながら、最大120μmのストロークと0.2nmの分解能を実現し、半導体製造における精密位置決めを低コストで実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハプロービング ・マスクアライメント ・微細加工 ・検査工程 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる歩留まり向上 ・装置の小型化による省スペース化 ・低コスト化による投資対効果の向上
低価格・コンパクト設計で顕微鏡の走査をサポート
顕微鏡の走査用途では、高精度な位置決めと安定性が求められます。特に、微細構造の観察や画像取得においては、ナノレベルの正確な位置制御が不可欠です。位置決めの精度が低いと、観察対象を見逃したり、画像の解像度が低下する可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、コンパクト設計と高精度な位置決め性能により、顕微鏡の走査用途に最適です。 【活用シーン】 ・顕微鏡観察 ・走査型顕微鏡 ・試料の精密位置決め 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる観察精度の向上 ・コンパクト設計による設置スペースの有効活用 ・低コストでの導入
従来のモーターステージでは実現できないナノ精度組立に最適
精密機械組立の現場では、部品の正確な位置決めが製品の品質を左右します。特に、微細な部品の組み立てにおいては、高精度な位置決めが求められます。位置決めの精度が低いと、製品の不良や組み立て時間の増加につながる可能性があります。P-611.1ピエゾナノポジショナーは、低価格でありながら、44 x 44mmのコンパクト設計ながら、0.2 nmの分解能と最大120 µmのストロークを実現。ピエゾアクチュエータによる高速応答により、ナノスケールでの高精度かつ安定した位置決めを可能にし、微細組立工程の高度化に貢献します。 【活用シーン】 ・微細部品の精密な位置決め ・小型部品の高速組立 ・高精度な検査工程 【導入の効果】 ・組立精度の向上 ・不良率の低減 ・組立時間の短縮
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。半導体製造装置向け高精度ナノポジショナー
半導体製造分野では、ウェーハやマスクの位置決めにおいて極めて高い精度と安定性が求められます。微細化の進展により、ナノレベルの位置決め誤差がデバイス性能や歩留まりに直接影響する時代となっています。特に露光装置や検査装置では、再現性と安定性を兼ね備えた精密制御が不可欠です。 P-733.2は、再現性±1nmの高精度XYナノポジショニングを実現。100µmストロークと高剛性パラレルキネマティクス構造により、半導体製造装置への組込み用途にも適しています。高精度位置決めにより、工程安定化と歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・露光装置 ・マスク／ウェーハ位置決め ・検査・計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmによる工程安定化 ・高精度位置決めによる歩留まり向上 ・安定動作による装置性能の最大化
再現性±1nm、XY軸100µmストローク。透過光光学系に最適な高精度ナノポジショナー
光学分野における精密な光軸調整や位置決めは、システム性能を最大化するための重要な要素です。特に高分解能顕微鏡や精密計測装置では、わずかな位置ずれが測定精度や再現性に大きく影響します。 高精度パラレルキネマティクス構造を採用した P-733.2 は、再現性±1nm のナノレベル位置決めを実現し、XY軸100µmのストロークで透過光アプリケーションに対応します。研究開発から装置組込みまで、光学系の高精度化や調整作業の効率化に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度顕微鏡 ・マスク/ウェーハの位置決め ・干渉計・光学計測装置 【導入の効果】 ・再現性±1nmの高精度位置決め ・透過光光学系へのスムーズな組込み ・光軸調整時間の短縮と開発効率向上
光学系の微調整に最適。0.1nm分解能の高精度ナノポジショナー
光学分野における調整作業では、光軸のわずかなずれがシステム性能に大きく影響します。特に微細な位置調整が求められる場面では、高分解能に加え、優れた直線性と再現性が不可欠です。不正確な位置決めは、光学性能の低下や測定誤差の原因となります。 本ナノポジショナは、最大0.1nmの高分解能と0.02%の優れた直線性を実現。さらに、可変ストロークおよびX・XY・Z・XYZの多軸構成に対応し、用途に応じた柔軟なシステム構築が可能です。非接触センサによる直接位置計測とゼロバックラッシュのフレクシャガイドにより、高い安定性と再現性を実現し、光学系の性能を最大限に引き出します。 【活用シーン】 ・顕微鏡試料走査 ・光学アライメント ・干渉計測 【導入の効果】 ・高精度な位置決めによる、光学系の性能向上 ・測定精度の向上 ・作業効率の改善
44 mm角のコンパクト設計。120 µm動作量と0.2 nm分解能を実現するピエゾナノポジショニングステージ
半導体製造工程では、ウェーハ加工や検査工程においてナノメートルレベルの精密な位置決めが求められます。特に微細化が進む半導体プロセスでは、位置決め精度が製品品質や歩留まりに大きく影響します。 P-611.XZ / P-611.2は、44 mm × 44 mmのコンパクトな設計ながら、最大120 µmの動作量と0.2 nmの高分解能を実現するピエゾナノポジショナーです。高精度フレクシャガイド機構とPICMA(R)ピエゾアクチュエータにより、半導体製造装置や検査装置における安定したナノポジショニングを可能にします。 【活用シーン】 ・半導体製造装置 ・ウェーハ検査装置 ・ナノ加工・微細加工装置 ・光学アライメント装置 【導入の効果】 ・ナノレベルの位置決めによる歩留まり向上 ・高精度ポジショニングによる検査精度向上 ・コンパクト設計による装置組込みの容易化 ・高い再現性による安定したプロセス制御
