更新日： 集計期間:2025年08月13日～2025年09月09日
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対応基板はPC、ゼオネックス、硝子基板！過酷な環境下においても耐えうる高反射膜
当社の『高耐久Al増反射ミラー』について、ご紹介いたします。 金属膜と誘電体膜のハイブリッド構成により、光の干渉を利用して 反射率を高め、更に成膜条件を最適化。 車載部品などに要求される過酷な環境下においても耐えうる高反射膜を 実現しました。 【特長】 ■反射率：450～650nmRave≧95％ ■耐久性：105℃×1000h 異常なし 60℃・95％×1000h 異常なし ■対応基板：PC、ゼオネックス、硝子基板 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
第二高調波発生(SHG)顕微鏡や分光アプリケーション、また周波数分解光ゲート法(FROG)用に好適！
『デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー』は、チタンサファイアと Ybドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方に対し、高い反射率と ほぼゼロの群遅延分散を維持する製品です。 イオンビームスパッタリング薄膜技術を利用する本ミラーは、他の一般的な 薄膜工程で成膜されたミラーに多く見られる散乱や吸収損失を最小化。 多くのレーザーミラー使用時に維持することが困難だった超短パルスを 維持するため、ビームステアリングアプリケーションによく用いられます。 【特長】 ■超短パルスビームステアリング用に高反射率＆低群遅延分散(GDD) ■イオンビームスパッタリング(IBS)コーティングにより散乱と吸収を最小化 ■チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方で ほぼゼロの群遅延分散 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
