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チタンサファイアやイッテルビウム(Yb)ドープの超短パルスレーザーに好適！
『低GDD 誘電体膜超短パルス用レーザーミラー』は、合成石英基板に施した 誘電体多層膜で99.9％超の優れた反射率と低熱膨張係数を実現し、 超短パルスビームの伝送アプリケーションに好適な製品です。 本ミラーは、設計波長域での群遅延分散(GDD)がほぼゼロで、 反射したビームの分散を最小化。 レーザーのマシニングや溶接など、チタンサファイアやイッテルビウム(Yb) ドープレーザーの基本波や第二高調波を利用する際に適しています。 【特長】 ■設計波長域で最小±20fs2までのGDD ■99.9％超の反射率 ■チタンサファイアやイッテルビウム(Yb)ドープの 超短パルスレーザーに好適 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
設計波長域でほぼゼロの群遅延分散(GDD)があり、反射ビームの分散を最小化！
『高性能 低GDD 超短パルス用ミラー』は、0°か45°の入射角で高い 反射率が得られるようにデザインされ、ウルトラファストレーザーを用いた ビームステアリングアプリケーションに好適な製品です。 このミラーは、精密なIBS(イオンビームスパッタリング)蒸着工程を経て 得られた分散補償コーティングを有し、従来の誘電体膜レーザーミラー よりも低散乱・低吸収特性が得られます。 本ミラーの代表的用途に、フェムト秒レーザーのパルス伝播時での 使用があります。 【特長】 ■超短パルスビームステアリング用に高反射率設計 ■イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収 ■設計波長域で0±20fs2までの低GDD ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
第二高調波発生(SHG)顕微鏡や分光アプリケーション、また周波数分解光ゲート法(FROG)用に好適！
『デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー』は、チタンサファイアと Ybドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方に対し、高い反射率と ほぼゼロの群遅延分散を維持する製品です。 イオンビームスパッタリング薄膜技術を利用する本ミラーは、他の一般的な 薄膜工程で成膜されたミラーに多く見られる散乱や吸収損失を最小化。 多くのレーザーミラー使用時に維持することが困難だった超短パルスを 維持するため、ビームステアリングアプリケーションによく用いられます。 【特長】 ■超短パルスビームステアリング用に高反射率＆低群遅延分散(GDD) ■イオンビームスパッタリング(IBS)コーティングにより散乱と吸収を最小化 ■チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方で ほぼゼロの群遅延分散 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
標準的なインチサイズのものをラインアップし、光学系への実装を容易にする！
『超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー』は、600-1000nmもしくは 800-1150nm間での反射率を向上させるため、銀コーティングに 誘電体膜を施し強化している製品です。 このミラーは、その波長域に対して群遅延分散(GDD)が本質的に低いことから、 チタンサファイヤレーザー基本波での使用に理想的になります。 「TECHSPEC 超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラー」も ラインアップしております。 【特長】 ■600-1000nm or 800–1150nmで99％を超える反射率 ■最小で0±20fs2までの低群遅延分散 ■チタンサファイヤやYbドープレーザーに好適 ■標準的インチサイズをラインアップ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
標準的なインチサイズに、500mmまでの焦点距離のものをラインアップ！
『超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラー』は、600～1000nm間での 反射率を向上させるため、銀コーティングに誘電体膜を施し強化した製品です。 このミラーは、その波長域に対して群遅延分散(GDD)が本質的に 低いことから、チタンサファイヤやYbドープレーザーなどの フェムト秒レーザーからの光の集光や反射に理想的になります。 その広い波長域は、誘電体膜による低GDDミラーが用意するよりも 広い帯域幅を求めるアプリケーションに用いることを可能にします。 【特長】 ■チタンサファイヤやYbドープのレーザーパルス集光用に好適 ■600-1000nmで99％を超える反射率 ■0±20fs2の低群遅延分散(GDD) ■25-500mmまでの焦点距離 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
