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設計波長域でほぼゼロの群遅延分散(GDD)があり、反射ビームの分散を最小化！
『高性能 低GDD 超短パルス用ミラー』は、0°か45°の入射角で高い 反射率が得られるようにデザインされ、ウルトラファストレーザーを用いた ビームステアリングアプリケーションに好適な製品です。 このミラーは、精密なIBS(イオンビームスパッタリング)蒸着工程を経て 得られた分散補償コーティングを有し、従来の誘電体膜レーザーミラー よりも低散乱・低吸収特性が得られます。 本ミラーの代表的用途に、フェムト秒レーザーのパルス伝播時での 使用があります。 【特長】 ■超短パルスビームステアリング用に高反射率設計 ■イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収 ■設計波長域で0±20fs2までの低GDD ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
第二高調波発生(SHG)顕微鏡や分光アプリケーション、また周波数分解光ゲート法(FROG)用に好適！
『デュアルバンド 低GDD 超短パルス用ミラー』は、チタンサファイアと Ybドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方に対し、高い反射率と ほぼゼロの群遅延分散を維持する製品です。 イオンビームスパッタリング薄膜技術を利用する本ミラーは、他の一般的な 薄膜工程で成膜されたミラーに多く見られる散乱や吸収損失を最小化。 多くのレーザーミラー使用時に維持することが困難だった超短パルスを 維持するため、ビームステアリングアプリケーションによく用いられます。 【特長】 ■超短パルスビームステアリング用に高反射率＆低群遅延分散(GDD) ■イオンビームスパッタリング(IBS)コーティングにより散乱と吸収を最小化 ■チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方で ほぼゼロの群遅延分散 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
