ラバーのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ラバー - メーカー・企業45社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年07月23日~2025年08月19日
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ラバーのメーカー・企業ランキング

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  1. 株式会社ダルトン 東京都/産業用機械
  2. 貴商エンジニアリング株式会社 埼玉県/産業用機械
  3. 株式会社メカテック  福島県/産業用機械
  4. 4 ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京都/商社・卸売り 東京本社
  5. 5 株式会社イワキ 東京都/産業用機械

ラバーの製品ランキング

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  1. ハザードスイーパー.ミストスクラバー 株式会社メカテック 
  2. アンモニア・スクラバー ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
  3. 【研究施設】湿式排ガス処理装置 FRP製スクラバー CMD 株式会社ダルトン
  4. 4 薬注装置付湿式 小型スクラバー Iシリーズ 株式会社イワキ
  5. 4 【研究施設】湿式排ガス処理装置 横型スクラバー VSN 株式会社ダルトン

ラバーの製品一覧

16~30 件を表示 / 全 110 件

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【英文市場調査レポート】半導体用ガススクラバーの世界市場

Global Gas Scrubbers for Semiconductor Market

COVID-19の大流行により、世界の半導体用ガススクラバー(排ガス処理装置)の市場規模は、2022年に10億9,624万米ドルと推定され、2028年までに26億4,862万米ドルに再調整され、予測期間(2022年~2028年)にはCAGRで15.84%の成長が予測されています。 この健康危機による経済変化を十分に考慮すると、2021年に世界市場の22.06%を占める燃焼式は、2028年までに3億7,425万米ドルに達し、2022年から2028年までのCAGRで改訂8.54%の成長が予測されています。一方、CVD(SiH4、NF3、WF6、B2H6、TEOS、TDMAT、N2O、C3H6など)セグメントは、この予測期間を通してCAGRで13.06%の成長に変更されています。

  • その他の各種サービス

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【英文市場調査レポート】半導体用ガススクラバーの世界市場

Global Gas Scrubbers for Semiconductor Market

COVID-19の大流行により、世界の半導体用ガススクラバー(排ガス処理装置)の市場規模は、2022年に10億9,624万米ドルと推定され、2028年までに26億4,862万米ドルに再調整され、予測期間(2022年~2028年)にはCAGRで15.84%の成長が予測されています。 この健康危機による経済変化を十分に考慮すると、2021年に世界市場の22.06%を占める燃焼式は、2028年までに3億7,425万米ドルに達し、2022年から2028年までのCAGRで改訂8.54%の成長が予測されています。一方、CVD(SiH4、NF3、WF6、B2H6、TEOS、TDMAT、N2O、C3H6など)セグメントは、この予測期間を通してCAGRで13.06%の成長に変更されています。

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湿式集塵スクラバー Water Scrubber

湿度が高い排気処理や吸湿性・潮解性のダストを含む排気処理など、乾式集塵機が使用できない場所で採用される湿式集塵機!

湿式集塵スクラバーは装置内に導入されたガス自身が水を激しく分散・微粒化するため、ポンプが不用な湿式集塵機です。 効果的に水滴がダストに接触するため高い集塵効率が得られ、内部構造はシンプルで保守管理が容易です。 集塵やガス吸収の操作において、排ガス条件・ダスト性状等によりバグフィルターなどの乾式集塵機が使用できないプロセスに広く採用されています。 また集塵性能に関しては、ほとんどの場合で排気ダスト濃度は0.1g/ ㎥以下です。 【使用例】 ■湿度が高い ■吸湿性・潮解性のダストを含む排気処理 ■粉塵爆発性ダストを含む排気処理 ■有害・腐食性ガスを含む排気処理     など 詳しい情報をお求めの方は、下記お問い合わせ欄よりお気軽にご連絡ください。

  • 集塵機

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Local Scrubber

Local Scrubber Burn-wet ECS-3000S

Solar, Thin Film, Etching, Diffusion

  • その他半導体製造装置

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高効率スクラバー、ミストエリミネーター【※導入事例集を無料進呈】

排ガス処理、ミスト・粉塵除去が簡単!20μm以上のミストを99.9%除去!

豊富な納入実績、高効率を誇るスクラバー、ミストエリミネーターで、排ガス処理、ミスト・粉塵除去が簡単にできます。 ※排ガス処理、ミスト・粉塵除去でお困りの方必見!イプロスからのお問い合わせ限定で導入事例集を無料プレゼント中!この機会にぜひご確認下さい。 【スクラバーの特長】 ■酸、アルカリ、その他ガスを一度に処理。 ■99%以上の高効率除去要求への対応。 【ミストエリミネーターの特長】 ■20μm以上のミストを99.9%除去。 ■対応風量は60m3/分.から4,500m3/分.まで標準化。 ※詳しくは見積依頼書をダウンロードしてお問い合わせ下さい。最適機種、価格、納期をご案内します。

  • その他環境機器

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ジェットスクラバー機

今後の超薄板製品対応が可能!上部2組,下部2組でノズルユニット位置を錯角に設計されています

当製品は、広幅12mmディスクを適用及びローラーの 間隔25mmピッチを適用したジェットスクラバー機です。 最小0.06mm(コア)超薄板製品の移送及び処理対応が 可能になるよう設計。 今後の超薄板製品対応が可能です。 【特長】 ■上部2組,下部2組でノズルユニット位置を錯角に設計 ■均一な噴射が可能 ■駆動部は設備維持補修が容易いように設計 ■最大の回収率を具現するためにBタイプ2列並列方式でスピコロンを設計 ■既存ケーブルタイ方式代わりPVC配管を利用したカバー方式を適用 ■メンテナンスが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ウエハ加工/研磨装置

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ウェーハジェットスクラバー

ウェーハ単体、ウェーハリング等に対応!専用ノズル追加で界面活性剤を塗布可能

当社の、純水のみで高速洗浄する『ウェーハジェットスクラバー』を ご紹介します。 「WJS-150B」をはじめ「WJS-200B」や「WJS-300B」をラインアップ。 また、ウェーハ単体、ウェーハリング(ハーフカット、フルカット、 エクスパンド)等々、さまざまな工程に対応可能です。 【特長】 ■純水のみで高速洗浄 ■さまざまな工程に対応可能 ■専用ノズル追加で、ブラシ洗浄時に界面活性剤(中性/弱アルカリ)を塗布可能 ■オプションでブラシ押付圧力機構を取付可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他洗浄機

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スクラバー標準仕様

性能は、各種処理ガス濃度200ppm基準で2段階処理する場合を示します!

当社で取り扱っている『スクラバー』の標準仕様についてご紹介いたします。 アンモニア・弗化水素の除去効率は98.95%以上となっており、 二酸化硫黄は98%以上、塩化水素は95.98%以上です。 「KKS型」は処理風量が20m3/minから1500m3/minまでの8製品を ラインアップしております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【除去効率(%)】 ■アンモニア:98.95以上 ■二酸化硫黄:98以上 ■塩化水素:95.98以上 ■弗化水素:98.95以上 ■硫化水素:90以上 ■悪臭ガス:84以上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ガス回収/処理装置

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バッテリー式乗車型スクラバー『T7』

広範囲のエリアの清掃も素早く簡単!高い洗浄効果と回収能力を有しています

『T7』は、小回り自在のコンパクトボディでエレベーターにも搭載可能な バッテリー式乗車型スクラバーです。 汚水回収タンクは、モーターを守る消泡空間30L付の総容量140L。 1つのボタンで、洗浄の開始・停止の操作が可能です。 大型ショッピングモール、工場、物流センター(食品・飲料、冷蔵倉庫)、 駅コンコース、地下街などさまざまな場所でその優れた洗浄能力を 発揮しています。 【特長】 ■コンパクト設計 ■簡単操作 ■安全性の向上 ■高い生産性 ■高性能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他清掃用具

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塩ビ製 移動型湿式スクラバー『HSS』TAKASHO

局所的な除去排出処理に好適!多目的に使用が可能なタイプの小型スクラバー

『HSS』は、実験過程において排出される酸性・アルカリ性ガスの 中和処理用に開発された移動型湿式スクラバーです。 実験室内の酸・アルカリ臭気の除去または、実験台などの作業で、 酸・アルカリガスが発生する場合、局所的な除去排出処理に適しております。 また、キャスター付きですので実験室から実験室への移動も簡単です。 【特長】 ■多目的に使用可能なタイプの小型スクラバー ■酸・アルカリガスが発生する場合の局所的な除去排出処理に好適 ■キャスター付きで移動も簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ガス回収/処理装置
  • その他洗浄機

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湿式スクラバー『HS』TAKASHO

実験過程において排出される酸性・アルカリ性ガスの中和処理用に開発!

『HSシリーズ』は、主にドラフトチャンバー内で発生する有害ガスを ドラフトチャンバー本体と一体化したかたちで処理することが可能な 湿式スクラバーです。 コンパクトな設計になっており、研究実験室/検査室などに好適。 また、オフィスビルの屋上やベランダ、あるいはグランドなど据付けが 不可能だと思われる場所にも設置可能です。 【特長】 ■ドラフトチャンバー本体と一体化したかたちで処理 ■コンパクトな設計 ■オフィスビルの屋上やベランダ、あるいはグランドなど据付けが  不可能だと思われる場所にも設置可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ガス回収/処理装置
  • その他洗浄機

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湿式スクラバー『TES形』TAKASHO

スプレー塔!H2Oの洗浄液で塩化水素・弗化水素は除去効率80%

当社で取り扱う、湿式スクラバー『TES形』をご紹介いたします。 充填物レスでメンテナンスが簡単。 気液直接接触による省エネ・低コストを実現。 低濃度ガス処理に適しています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低濃度ガス処理に好適 ■充填物レスでメンテナンスが簡単 ■気液直接接触による省エネ・低コストを実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ガス回収/処理装置
  • その他洗浄機

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【ステンレス製】移動式 乾式スクラバー『HFF』TAKASHO

ステンレス製の小型スクラバー!水洗浄では除去しにくい有機溶剤や悪臭をフィルターにて吸着除去

『HFFシリーズ』は、不溶性ガス・有機溶剤・悪臭をチャンバー内に 格納された粒状活性炭で吸着するステンレス製の移動式乾式スクラバーです。 実験室内の悪臭除去に、または実験台での作業で溶剤ガスが発生する場合、 局所的に除去排出させるのに好適。 また、キャスター付きですので、実験室から実験室への移動も簡単です。 【特長】 ■ステンレス製 ■チャンバー内に格納された粒状活性炭で吸着 ■溶剤ガスが発生する場合、局所的に除去排出させる ■キャスター付きで移動も簡単 ■多目的に使用可能なタイプの小型スクラバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ガス回収/処理装置
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【スチール製】移動式 乾式スクラバー『HFF』TAKASHO

スチール製の小型スクラバー!水洗浄では除去しにくい有機溶剤や悪臭をフィルターにて吸着除去

『HFFシリーズ』は、不溶性ガス・有機溶剤・悪臭をチャンバー内に 格納された粒状活性炭で吸着するスチール製の移動式乾式スクラバーです。 実験室内の悪臭除去に、または実験台での作業で溶剤ガスが発生する場合、 局所的に除去排出させるのに好適。 また、キャスター付きですので、実験室から実験室への移動も簡単です。 【特長】 ■スチール製 ■チャンバー内に格納された粒状活性炭で吸着 ■溶剤ガスが発生する場合、局所的に除去排出させる ■キャスター付きで移動も簡単 ■多目的に使用可能なタイプの小型スクラバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【塩ビ製】移動式 乾式スクラバー『HFF』TAKASHO

塩化ビニール製の小型スクラバー!水洗浄では除去しにくい有機溶剤や悪臭をフィルターにて吸着除去

『HFFシリーズ』は、不溶性ガス・有機溶剤・悪臭をチャンバー内に 格納された粒状活性炭で吸着する塩化ビニール製の移動式乾式スクラバーです。 実験室内の悪臭除去に、または実験台での作業で溶剤ガスが発生する場合、 局所的に除去排出させるのに好適。 また、キャスター付きですので、実験室から実験室への移動も簡単です。 【特長】 ■塩化ビニール製 ■チャンバー内に格納された粒状活性炭で吸着 ■溶剤ガスが発生する場合、局所的に除去排出させる ■キャスター付きで移動も簡単 ■多目的に使用可能なタイプの小型スクラバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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