EUV光源
高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ(laser produced plasma)によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。
- 企業:ケイエルブイ株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月20日~2025年09月16日
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高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ(laser produced plasma)によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。
276nmUVLED深紫外線光源(20,000μW/cm2)で、細菌を完全に殺菌・死滅する光源です。
製品・技術・サービスの名称 ■当該製品・技術・サービスの概要。 1.深紫外線276nmUVLEDによる、水・空気等の殺菌光源(従来の 低圧水銀ランプを置き換える光源です。)高環境負荷物質の水銀 を使用しない。細菌やウィルスを破壊する「260nm」に近いため、 短時間で殺菌可能 2.物質の紫外線の吸収性や透過性を利用した、 光学式検査・計測への応用 ■製品・技術の再生医療分野における展開の可能性 1.再生医療で使用する「洗浄液の殺菌」や、空気中に 漂う「雑菌ウィルスの殺菌・除去」用途 2.創薬における無菌環境の提供 3.深紫外光による各種計測応用 4.光触媒(酸化チタン)と併用可能 5.クリーンベンチ・グローブBOX内設置可能