高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ（laser produced plasma）によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。
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基本情報
・飛散デブリの光学系への付着を低減 ・ターゲットの高速回転により安定したターゲット面を実現 ・最大 44 mW (13.5nm±1%)の出力を実現 (TEUS S-400)
価格帯
納期
用途／実績例
・EUVマスクブランクスの研究、検査 ・EUV用光学部品の研究、検査 ・マスクおよび表面検査 ・材料科学 ・ウェハ検査
この製品に関するニュース（1）
企業情報
ケイエルブイは、世界各国より最先端の光学部品を発掘し、 医療・環境・分析分野をはじめとする様々な光学技術の発展をサポートしてきました。 「SOLUTION FOR OPTICAL SYSTEM DEMANDS」をテーマに掲げ、 光ソリューションビジネスの積極的な構築・展開を行っています。 高度化・多様化するお客様のニーズにどこよりも迅速かつ的確にお応えし、事業と社会の両面で貢献できる企業へ。 「光エネルギー活用を提案する専門商社」として新しい光の時代を切り拓く、当社の独自性・可能性にあふれる光学ソリューションにご期待ください。
