SEMICON Japan2024出展

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大80W、水銀不使用、

ALE/2は従来の放電ランプを上回る高出力、高安定を実現したLED紫外線照射装置です。最大4波長のLEDを内蔵し、複数波長の出力が可能です。 ALEシリーズのALE/1と大きく異なる点は、同一波長のモジュールを複数搭載できることです。 そのため、i線もしくはg線のみを高強度で出力することも可能で、半導体アプリケーションに適しております。 LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。

• ステッパー
• その他半導体製造装置

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。

• ステッパー
• その他半導体製造装置

最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。ＵＶ硬化、半導体検査装置などに使用可能

従来の放電ランプ（水銀ランプ）に代わる、超高出力のLED照射システムです。ALE/1C は制御システム（CSS）と露光システム（ESS）の2 つを接続して使用します。 システムを2 つに分割したことで、装置への統合が容易なコンパクトさと高出力を両立させました。 また、露光システムは、ライトパイプ、ライトガイド等の様々な光学部品と組み合わせてお使いいただくことができます。 水銀ランプ1000W,500Wと、ALE/1Ctとの出力比較は カタログをご覧ください。

• ステッパー
• その他半導体製造装置

高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源

ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ（laser produced plasma）によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。

• その他

350~1000nmのUVからNIRを1台でカバー。ライトフィールド技術を導入。高解像度のイメージングデータをご提供。

「ハイパースペクトルカメラ ULTRIS X20」は、ライトフィールド技術に基づいた革新的なハイパースペクトルカメラです。 内部に20MPのCMOSセンサーを搭載。高解像度のデータが取得可能です。 「ULTRIS X20」は、従来機種「ULTRIS 20」から測定波長範囲が広がり、350~1000nmの紫外から近赤外までの幅広い波長範囲を1台でカバーできるようになりました。 《 ULTRIS X20 の特長 》 ・動画でのハイパースペクトルイメージングデータ撮影が可能 ・測定波長範囲：350~1000nm　,　164スペクトルバンド ・高分解能 ・410×410 pixcel ・小型 ( 60 × 60 × 57 mm ) , 軽量 ( 350 g ) (標準モデル S20） ・IP規格に準拠した堅牢性の高いハウジング ・水中撮影も可能 小型、軽量な筐体で、一般的なドローンへの搭載も可能です。 164スペクトルバンド、410×410ピクセルの高い空間分解能で研究室やフィールドだけでなく、UAVアプリケーションにも幅広くご使用いただけます。

• その他検査機器・装置

350~1000nmを1台でカバー。UAV用に特化して設計された高分解能、スナップショット型のハイパースペクトルカメラ。

「ハイパースペクトルカメラ ULTRIS X20 Plus」は、ライトフィールド技術に基づいたハイパースペクトルカメラ「ULTRIS X20」にパンシャープン手法を追加したUAV用に特化して設計されたハイパースペクトルカメラです。 従来機種よりも測定波長範囲が広がり、350~1000nmの紫外から近赤外までの幅広い波長域をを1台でカバーできるようになりました。 《 ULTRIS X20 Plusの特長 》 ・動画でのハイパースペクトルイメージングデータ撮影が可能 ・２つのイメージングセンサーを搭載 　ライトフィールド技術による「ULTRIS X 20」にパンクロマティックセンサーを追加 ・高分解能 ・パンクロマティック解像度：1880×1880 px、スペクトル解像度：410×410px（168,100 スペクトル） ・小型、軽量（630g) 「ULTRIS X 20 Plus」は、スキャン無しで数秒で完全なスペクトルデータキューブを取得可能なスナップショット型のため、UAV用としてだけでなく、研究室やフィールドでの動画ハイパースペクトルカメラとしてご使用頂くことも可能です。

• その他検査機器・装置

【OEMに好適】超小型・低価格。動画撮影ができるハイパースペクトルカメラ。

【動画ハイパースペクトルカメラUTLRISの最小サイズ】 ・超小型：29×29×49ｍｍ ・超軽量(126 g) ・ライトフィールド技術に基づくスナップショット型ハイパースペクトルカメラ。 ・動画撮影可能 ・450～850nm（VNIR領域）の波長範囲をカバー 【超小型・軽量】×【低価格】でOEMに好適 ・食品、工業、メディカル、リサイクル等、さまざまな産業分野に新たなハイパースペクトルイメージングの市場を切り開きます。 超小型・軽量のUTLRIS 5は、UASでの使用にも適しています。

• その他検査機器・装置

広波長帯域[200nm~2000nm]、超高輝度、高安定

Hyperchromatorは、ISTEQのレーザー励起白色光源XWS-30を光源として用いた波長可変光源です。 ISTEQのXWS-30 専用に開発されたモジュールが、XWS-30 からの光を効率よく取り込み、グレーディング式の分光方式でその光の一部の波長を取り出します。 そのため、XWS-30 の強みである、広波長帯域、極小発光点、超高輝度、高安定を生かした波長可変光源となっています。 【特長】 ・UVからNIR（200～2000nm)の幅広い波長帯域 ・高い輝度　（光源が高輝度　且つ　I/F部のスリット削減による高透過率化） ・ポータブルサイズ　（47 x 45 x 25 cm：16kg) ・グレーディングの構成を選択可能 ・長寿命による高いコストパフォーマンス ・レーザー励起白色光源を使用しているため、高安定

• その他

あなたの職場ではこんなお悩みありませんか？ ✓保護具の装着や作業手順をルール化しているのに、 ルールを破る従業員が絶えない。 ✓安全センサーを設置しているのに、 労働災害が減らない。 ✓リスクマネジメントを行っているのに、労働災害が減らない。 保護具の着用や安全センサー設置等の労働安全対策は既に各所で行われている内容ですが、 労働災害ゼロはいまだに達成できていないのが現状です。 実は最新の脳科学・心理学の観点からみると、 これらの労働安全対策だけでは不十分なことが分かっています。 従業員の安全意識を高めることで、労災ゼロの職場を目指しませんか？ この動画では、ヒューマンエラーや作業環境の変化によるリスクを効果的に管理する方法を学びます。（約50分の動画となります） 安全意識を高めるためには、問題解決力や対話力、心理的安全性の確保が重要です。 職場での安全意識を高めるための具体的な方法とその重要性をお伝えします。 同業他社さまにはお申込をご遠慮頂いております。ご理解のほど宜しくお願い致します。 法人向けサービスのため、個人やフリーアドレスによるお申込はお断りさせていただきます。

当オンデマンドセミナーでは、 新しい視点から5S活動を捉える「新5S思考術」を学び、 日常の業務を通じて組織全体の思考を変える方法をご紹介します。 コーチング心理学を取り入れることで、 従業員のモチベーションを高め、 5S活動が持続可能で効果的なものへと変革するお手伝いをいたします。 ぜひ、この機会に5S活動を進化させ、 問題解決力のある組織づくりを目指してみませんか？ こんな方におすすめです ・労働安全衛生部門の責任者やご担当者様 ・社内教育に携わる人事部等の研修担当者様 ・現在、5S活動が行き詰まっている企業のご担当者様 ※本コンテンツは、過去のオンラインライブセミナーを録画し、一部編集したものとなります。（担当講師：酒徳）

驚異的な高速造形､低コスト･高精度造形を実現する次世代の大型樹脂･金属･セラミックス3Dプリンタが最近相次いで開発･市場投入され､航空･宇宙､自動車､産業機械､プラント､防衛､社会インフラ等分野における大型部品･大物製品製造､大型樹脂金型用部品の製造や､部品･金型補修､リバースエンジニアリング等において､先進企業で導入･活用が急速に進んでいます。 本セミナーでは、大型樹脂3Dプリンタ大手企業のLobotics社製最新鋭機の開発動向･特徴と活用技術､国内外導入事例､課題。セラミックス3Dプリンタでは世界最大の大型部品を造形できるエスケーファイン製大型セラミックス3Dプリンタの装置概要・特徴と短期造形技術､活用事例。急成長を遂げるMeltio社製大型金属3Dプリンタを導入し精力的に活用している富士高周波工業の短時間造形技術･事例とトポロジー最適化を併用した低コスト･材料削減事例。8年前に松浦機械製作所製大型ハイブリッド3Dプリンタを導入･駆使して高機能･高品質の様々な大型樹脂金型用部品を製作している三光合成にみる最新造形技術･事例とその金型を用いた量産事例について、初心者の方にわかり易く具体的に解説いたします。

ヘキサコア株式会社は2026年3月24日～3月25日の2日間、東京都立産業貿易センター浜松町館にて開催される 「Data Center Japan 2026」に出展いたします。 ヘキサコア株式会社ブースでは、各種分電盤をはじめ、計測・監視システムや導入支援サービスをご紹介します。 【主な出展製品・サービス】 ・IEC分電盤／アルミ乾式変圧器（パネル展示） データセンター向けIEC準拠分電盤（PDP）を展示します。 あわせて、PDUに採用実績多数アルミ乾式変圧器を展示 ・データセンター向け遠隔監視システム導入支援サービス（パネル展示） 監視システムの導入検討から現地工事、立ち上げまで、お客様の要件に沿って支援します。 ・PAL-Plus／PAL-Plus大容量版 　手軽に省スペースで交流電流(60A、125A～630A)を計測できる、通信機能内蔵のIoTセンサーです。 ・CEW-M4 　電流、電力、電力量、温湿度など設備状況を見える化し、分電盤の電力使用量や残電力容量などを効率的に管理できるマネージャーソフトです。 ご来場を、心よりお待ち申し上げております。

[講　師] PwCコンサルティング合同会社 Strategy& シニアマネージャー 小長井 啓 氏 [重点講義内容] 製造業の間で生成AIを活用する動きが急拡大している。だが、「とりあえず導入」した結果、成果を生み出せないという罠にはまる企業が少なくない。Strategy&が欧州製造業247社を対象に実施した調査では、バックオフィス活用では効果が限定的である一方、R&Dや営業などコア業務への導入こそが収益改善の「本丸」であることがわかった。 日本企業においても、周辺業務の効率化にとどまる企業より、事業構造の変革を志向する企業の方が期待を上回る成果を出している。しかし現状では、売上や粗利率などの結果指標とセットで検討するケースは多くない。 本講演では、「上流（設計・開発）の強化」「下流（アフターサービス）の効率化」「推進体制の構築」という3つの視点から、収益インパクトを最大化する生成AI活用戦略を詳説する。