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測定(膜) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

測定の製品一覧

16~30 件を表示 / 全 34 件

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サーマルマイクロスコープ/TM3 薄膜、微小領域熱伝導率測定

フィラー、セラミックス、絶縁薄膜、半導体薄膜等、薄膜・微小領域の熱伝導評価に!!

この装置は、世界最小クラスの分解能を誇る、革新的な熱物性測定装置です。 サンプルの熱物性を点、線、面の各レベルで詳細に測定することが可能で、従来の装置では難しかったミクロンオーダーの熱物性値分布も正確に捉えます。 さらに、この装置は非接触測定でありながら、高分解能を実現しており、従来技術では不可能だった領域を新たに開拓しました。世界初の技術を搭載し、熱浸透率の測定に加え、好条件下では熱伝導率も直接測定可能です。 この装置は、研究開発において精密な熱物性解析を必要とする場面で、他に類を見ない性能を発揮します。 〇測定原理について〇 この装置の測定原理はサーモリフレクタンス法と言う手法になります。 材料の表面温度を高精度で測定する手法の一つで、特に微小領域や薄膜材料の熱特性を調べるために使われます。 この方法は、材料の表面温度変化に伴う反射率の変化を検出し、その変化から温度を測定する技術です。 得られる結果は熱浸透率と言うパラメーターです。 熱浸透率とは物質と物質が接しているときに熱をどれだけ奪い取るかを示す物理量です。 比熱と密度により、熱伝導率や熱拡散率と相互に変換できます。

  • マイクロスコープ

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高純度雰囲気下での前処理・測定

XPS:X線光電子分光法など

高純度不活性ガス雰囲気下で試料前処理、搬送、測定を行うことで表面酸化、水分吸着を抑えた評価が可能です。 ■適用例 ・半導体電極材料  剥離面の評価等には二次汚染、酸化の影響を抑えて評価ができます。 ・有機EL材料  開封から不活性ガス雰囲気下で作業を行うことで、材料の劣化を防ぎます。 ・Li等電池材料  Li等N2雰囲気不可の場合はAr雰囲気で処理を行う等の対応も可能です。

  • 受託解析

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原薬の溶出性評価に!Intrinsic 固有溶解度測定

USP<1087> Intrinsic Dissolution法による固有溶解度測定

Intrinsic法による溶出試験は一定のpHの試験液、温度、表面積から溶解速度を求めて原薬における重要な情報を提供します。生物薬剤学分類システム(BCS)は薬剤の溶解度と膜透過性の特性を分類しますが、Intrinsic法は溶解度を特徴づけることが可能です。

  • その他 理化学機器
  • 溶出試験機

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自動接触角計による接触角の測定

当社では動的接触角を測定することができ、より広範囲のはっ水性を知ることができます。

当社にある「自動接触角計」について紹介致します。 従来の接触角計では測定出来なかった、濡れ広がるときの接触角や、水滴が滑り落ちるときの滑落角までが測定可能になりました。 ふっ素樹脂コーティング膜の機能の一つとして、撥水性があります。 このような接触角計での測定結果を塗膜選定の判断基準の一つとして使用できます。 【従来と異なる主な測定機能】 1.液滴法(従来の接触角測定法)の経年変化 2.滑落法(水滴が滑り落ちるときの接触角測定法) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測・記録・測定器

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低分子シロキサンの測定

比較的低分子量の環状、鎖状シロキサンを含む気体を測定し分離、検出が可能か確認!

低分子シロキサンはシリコーン製品の原料やドライクリーニング用溶媒、 化粧品の添加剤等で広く使用されています。 沸点が高いにもかかわらず揮発性が高い特長を持ち室温においても容易に 気中に拡散し、揮発後の再付着により半導体製造装置のレンズ曇りや 絶縁膜の耐圧低下、接点不良などの悪影響を及ぼすことが知られています。 今回は低分子シロキサンのうち比較的低分子量の環状、鎖状シロキサンを 含む気体を測定し分離、検出が可能か確認しました。詳細は、PDF資料より ご確認いただけます。是非、ご覧ください。 【概要】 ■Sylphによる分析 ・低分子シロキサンのうち環状シロキサン(D3,D4,D5,D6)と鎖状のシロキサン  (M2,M3,M4,M5)をアセトン溶媒で希釈し、窒素を封入したガスバッグに注入後、  ガスをSylphに導入し測定 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他 分析・検査機器

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非破壊膜厚測定『PosiTest』

コンパクト、軽量、安定した精密さ。どんな場所でも使用可能!

『PosiTest』は、正確、高信頼性な非破壊測定が可能です。 カーバイドチップを使用しているため寿命が長く精度を維持。 ダイヤルカバーの中央を動かすだけで簡単にキャリブレーションの 再調整が可能です。 全体でパーツにフィット、先端部だけでも測定できます。 【特長】 ■NIST準拠のキャリブレーション ■全てのアプリケーションに適合するスケールレンジ ■国際標準に準拠 ■丈夫な構造でショック、水、酸や溶剤の影響を受けない ■独特なデザインで持ちやすく測定中にずれない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測・記録・測定器
  • 膜厚計

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No.30 カーボン貴金属担持触媒の金属分散度測定

前処理温度100℃でのCOパルス測定を実験!測定終了後試料の変化の写真画像を掲載!

カーボン担体に白金族(Pt、Ru等)を大量に担持した触媒は燃料電池MEA (膜/電極接合体)を構成する燃料極(負極)と空気極(正極)に使用され、 高効率化とCO被毒耐性向上の研究が盛んに行われています。 これらのカーボン担体貴金属担持触媒の分散度評価は一般的なCOパルスによって 行うことができますが、担体のカーボンが燃焼することを避けるため 酸素前処理を行わないことが選択される場合があり、測定の条件は 研究者によって異なっているのが現状です。 当資料では、触媒分析装置「BELCAT」を用いたパルス金属分散度測定における 酸素処理有無の影響と推奨される測定条件に関して詳しく述べています。 【掲載内容】 ■概要 ■実験 ■まとめ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他計測・記録・測定器

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ウエハーステップハイトのインプロセス測定

「CHRocodile 2 DPS色収差共焦点センサー」は、独立した2つの測定チャネルを搭載しております

研削作業では、加工中にウエハーの厚さを調整する必要があります。 非接触・非破壊の光学測定法であれば、ワークにストレスを加えたり ワークを破壊したりすることなく加工中のウエハーの厚みがモニター されるため、ソリューションとして好適です。 当社の「CHRocodile 2 DPS色収差共焦点センサー」は、独立した2つの 測定チャネルを搭載しています。 センサーは2つの色収差プローブを処理し、測定値と出力をリアルタイム に同期。ウエハーの最終的な高さや厚さを出力します。 【特長】 ■10年以上に及ぶCMPおよび研削の干渉測定から得たノウハウにより、  過酷な環境向けの色収差プローブの開発を実現 ■過酷な環境におけるウエハー厚の非接触式測定 ■プローブごとに10 kHzのデータ取得レート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • センサ

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広い流量レンジを低圧損で高精度微小流量測定!『P234mz』

水/水溶液専用4‐ラジアルピストンタイプ流量計(21MPa耐圧)!高分解能・高速応答で安定した流量測定及び制御が可能です!

『234MZ』は、水及び水溶性液(腐食性ケミカル溶液含む)対応高精度微小流量計です。 MAX社独特の計量及び検出技術によるシンクロナイズリンクされたベアリングレス、精密4-ラジアルピストンの回転計量により1cc/minから2000cc/minの広域流量範囲を低圧損で流量測定が出来ます。 検出はホールセンサCPU演算ソフト技術により高精度、高分解能、高速応答で安定した5V電圧パルス、±10VDC/±4-20mAアナログ出力されます。 また、各種吐出ポンプ固有の脈動減衰機能を装備しており安定した流量測定及びPLC制御等及び信号後処理対応が容易になります。 【特長】 ■広域流量レンジを低圧損・高精度流量測定 ■高分解能・高速応答で安定した流量測定及び制御が可能 ■使用液温度:5 ~ 90 ℃ / 雰囲気温度:5 ~ 80 ℃   など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 流量計
  • その他計測・記録・測定器

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高速かつフレキシブルなガラス肉厚測定

高い柔軟性と効率性!測定点は最大12.5 mmの長さを持つライン上に広がっています

容器ガラスのびんを生産する際、生産速度が速いにもかかわらず、 びん1本1本の肉厚を検査する必要があります。 そして、容器の重要部分を測定する場合や、黒色ガラスや非球形容器を 測定する場合既存のポイントプローブセンサーでは難しい現状です。 当社の「CHRocodile MPS 2Lセンサー」は、測定点最大12.5 mmの長さを 持つライン上に広がっています。 高い柔軟性と効率性で、各チャネルを個別に処理できるため、1本の ラインプローブと最大12個の追加のポイントプローブを使用した 構成なども可能です。 【特長】 ■ラインプローブごとのデータ収集レートは4.5 kHz ■CHRocodile MPS 2Lによる毎秒108,000点の測定 ■移動速度の速いサンプルでもインライン検査が可能 ■使用するチャネル数を減らすことでサンプリングレートが増大 ■CHRocodile MPS 2Lは最大24個の独立したチャネルの測定、プローブの  ラインに沿った測定点の選択機能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  • センサ

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2(二酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。

  • SiO2 SiNの膜厚測定.jpg
  • 分析機器・装置

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1ライン3CH設置や、工程前後に測定が可能!多ポイント膜厚測定

多CHでの前後の測定が可能な、多ポイント膜厚測定。複数の受光ヘッドを使用し、複数ポイントの膜厚値を一括測定します。

『FF8』は、サンプルの反射率(干渉波形)を測定し、 膜厚演算方法の中のFFT(フ-リエ変換膜厚計)や、 カーブフィット膜厚計等によって 膜厚値の解析を行う非接触多ポイント膜厚測定が可能です。 膜厚測定の他にフィルム、硝子の厚さ、屈折率の測定も行うことができ、 オプションにより、多層膜・カーブフィット法・顕微鏡・マッピング測定・ 色測定・成分濃度解析も可能です。 オプションにて膜の厚みの差やムラ等の測定・解析を 効率的に行えるように、自動XYステージを使用して 自動マッピング測定が可能です。(マッピング膜測定) 【特長】 ■サンプルの反射率を測定し、FFT等によって膜厚値の解析を行う ■膜厚測定の他にフィルム、硝子の厚さ、屈折率の測定も行える ■測定データはファイル保存ができ、あとから再解析も可能 ■インライン膜厚測定としてもご使用頂ける ■カスタム仕様等の対応も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 光学測定器

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顕微分光膜厚計 ハードコートの膜厚測定

ハードコートの膜厚測定

近年、様々な機能を持つ高機能フィルムを用いた製品が一般に普及しており、用途によってはフィルム表面に耐摩擦、耐衝撃、耐熱、耐薬品などの性能を持つ保護フィルムが必要になることもあります。保護フィルム層としてハードコート(HC)膜を製膜することが一般的ですが、HC膜の厚みによって保護フィルムとして機能しなかったり、フィルムにそりが生まれたり、見た目のムラや歪みの原因になるため、HC層の膜厚値を管理する必要があります。

  • ハードコート1.jpg
  • ハードコート2.jpg
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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 (特許取得済 第5172203号)

  • 反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定.jpg
  • 分析機器・装置

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顕微分光膜厚計 複雑な形状のある任意ポイントの測定

さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定

DLC(diamond‐like carbon)はアモルファス(非晶質)な炭素系材料です。高硬度・低摩擦係数・耐摩耗性・電気絶縁性・高バリア性・表面改質やDLCの厚み測定は断面を電子顕微鏡にて観察する破壊検査が一般的でしたが、大塚電子の光干渉式膜厚計であれば非破壊かつ高速に測定が可能です。 独自の顕微鏡光学系を採用することで、形状のあるサンプルの実測定が可能になりました。

  • さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定2.jpg
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  • 分析機器・装置

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