更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
汎用性が高い、堅牢なチェンバー型電気炉。豊富なオプション、付属品によりあらゆる熱処理に適応。
本製品は安全性が高く、操作し易く、また頑丈な汎用型チャンバー炉です。 豊富なオプションと付属品の利用により、材料試験、耐熱老化の熱処理だけでなく、アニーリング（焼鈍)、硬化(焼入れ)、焼き戻し、焼きならし（焼準）、化学分解、衝撃試験等に最適です。 前面は上下スライド式扉で安全性が高く、操作が容易です。 低熱容量断熱材で、急加速加熱でなく、効果的な断熱をもたらします。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1550°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に！長年培ったマイクロ波焼成技術を提供いたします
『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能。 材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能です。 当社が長年開発し培ったマイクロ波焼成技術を提供いたします。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、均一加熱が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大学、科学研究機関、工場などの産業で！金属材料などの焼結と高温熱処理に好適
『OSK 97TG 14THd』は、新材料の焼結と高温熱処理に適した 2ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備しており、 最高温度は1,400℃、常用最高温度は1,300℃です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、 エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき、2つの異なる温度領域を得ることができる ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクトなオールラウンドの卓上タイプのチェンバー型高温炉
MoSi2ヒーター採用卓上式高温炉 は卓上タイプのコンパクトな高温炉で多くの利点を備えています。優秀な先端技術で加工された高品質の素材は、操作の容易性により研究室、実験室等でオールラウンドに使用可能です。この高温炉は、例えばジルコニア製の歯科用ブリッジ等の技術セラミックの焼結にも適しています。
エレガントなデザインの一体型構造！4グループ32セグメントのプログラムが可能
『OSK 97TG 12CM』は、金属材料、セラミック材料、ナノ材料等の 新材料の焼結・加熱に使用されているチャンバー式マッフル炉です。 エレガントなデザインの一体型構造で、最高温度は1,200℃。 発熱体はHRE合金抵抗線を使用。 また、チャンバー材料は高温多結晶アルミナセラミック繊維板で、 熱電対はNタイプとなっております。 【特長】 ■エレガントなデザインの一体型構造 ■チャンバー材質：セラミックファイバー真空成型により、 高温時の粉落ちがなく、50％以上の省エネ ■SHIMADENマイクロプロセッサーによるセルフチューニングPID制御により、 好適な温度制御が可能 ■RS485ポート、USBアダプタを内蔵し、コンピュータ制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
昇降装置を備えた高温電気炉です。
常用温度1550°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 炉底部をモーター駆動で上下に動かし、火傷の危険性から使用者を守ります。 開口部が炉底であるために熱効率が良く、また試料のセットや取出しが容易。 還元、焼成、焼結、塗装等に最適。 CE認証品 過熱防止装置付き。
昇降装置を備えた高温電気炉です。
常用温度1650°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 炉底部をモーター駆動で上下に動かし、火傷の危険性から使用者を守ります。 開口部が炉底であるために熱効率が良く、また試料のセットや取出しが容易。 還元、焼成、焼結、塗装等に最適。 CE認証品 過熱防止装置付き。
昇降装置を備えた電気炉です。
常用温度1350°C以下の運転に適します。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに9セグメント）内蔵。 炉底部をモーター駆動で上下に動かし、火傷の危険性から使用者を守ります。 開口部が炉底であるために熱効率が良く、また試料のセットや取出しが容易。 還元、焼成、焼結、塗装等に最適。 CE認証品 過熱防止装置付き。 オプション： ボンベ用レギュレータ（ホース付き） ガス乾燥管 PC用制御ソフトウェア
温度測定範囲0〜1300℃で長寿命！国際標準化されたN型ニッケル・クロム・シリコン熱電対を採用
『OSK 97TG 12THs』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した横型管状炉です。 温度制御パネルはPIDおよびSSR制御モードで精密な温度制御可能。 高品質の石英ガラス作業管、金属またはコランダム作業管により、 異なる作業条件にも対応できます。 また、高品質のHREスパイラル抵抗線発熱体により、省エネで効率的で 耐用年数が長い炉内の均一性も確保可能です。 【特長】 ■炉殻は金属Q235低炭素鋼で作られ表面は静電抵抗性があり腐食に強い ■強固な二層金属フレームと断熱ファン構造を結合し炉の表面温度が低い ■多層断熱設計、アスベスト成分を含まず少ない熱損失及び エネルギー消費量 ■高品質のHREスパイラル抵抗線発熱体により省エネで効率的で 耐用年数が長い炉内の均一性も確保可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【テスト焼成可能】セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に！短時間・内部からの加熱を実現。※他各種電気炉など取り扱い有
『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能となっており、 一般的なガス・電気炉のような外側から熱を加えるのではなく、内部から温めることで、“短時間”“品質向上”を実現します。 また、材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能。 環境問題が叫ばれる現代において、CO2の排出を削減する事が可能であり、 環境に配慮した焼成ができることも特徴です。 現在、自社工場内の取り扱い炉を増やし、今まで以上に様々なテスト焼成をできる環境を整えております。 マイクロ波以外にも、焼成炉・電気炉など、材料や製品に合った焼成方法に柔軟に対応ができますので、 試作・量産などにご興味のある方はお気軽にお声がけください。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、品質向上が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各加熱ゾーンは別々に制御可能！熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 12THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバーを真空成形！エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用
『OSK 97TG 14THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備。 RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御ができます。 また、各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を 得ることが可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
温度均一が5℃以内！炭素製品のような材料の特殊な熱処理にも対応可能
『OSK 75YU 17HV』は、1700℃まで操作できるラボ用真空熱処理炉です。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、硬質合金、 非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気での真空焼結と アニールの熱処理に対応。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しております。 【特長】 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度の増減が速い ■個性的なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
