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炉(真空 加熱) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年08月06日~2025年09月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

61~75 件を表示 / 全 209 件

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プレス付真空熱処理炉

新素材の生産、開発に最適

本装置は真空および不活性ガス雰囲気に於いて、種々形状の対象試料をヒーターによって均一に加熱し各種熱処理を行うと共に油圧プレスによる 5Tonまでの加圧処理を可能にした多目的実験炉です。  【仕様】 ・加熱温度:常用600℃ ・ヒーター:モリブデン抵抗体 ・有効寸法:150パイ×170L ・均熱部 :130パイ×100L±10℃(ノンプレスVaC中) ・温度制御:デジタルプログラムPID方式 ・記録計 :6打点 100?巾 ・加圧力 :全圧0.4〜2TON ・ミニシリンダー切換:(0.035〜0.2TON) ・加圧ストローク:40mm ・到達圧力:×10-6Torr(空状,常温) ・排気系 :油拡散ポンプDPF-3吋  油回転ポンプ200L/min ・真空計 :ピラニー、電離真空計、連成計 ・ユーティリティー:電気AC200V 3φ9KVA50HZ ・冷却水10/min以上 2kgf/cm2G 25℃以下 ・不活性ガス高純度ガス(99.99%以上) ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。

  • 電気炉
  • 加熱装置
  • 冷却装置

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【超高温真空・雰囲気炉導入事例】手元におけるほど省スペース

最高2,000℃まで昇温可能な高温炉を使った結果、熱処理により不純物が除去され、カーボンナノチューブの結晶化度を上げられた事例

信州大学工学部様で「超高温真空・雰囲気炉」を導入した事例を ご紹介いたします。 不純物が混入したカーボンナノチューブを真空中で加熱することで 結晶化度を高める方法を模索。この加熱処理を行うために、新しく 高温炉を導入する必要がありました。 導入後は、熱処理により不純物が除去され、当初の目的であった カーボンナノチューブの結晶化度を上げることができました。 【事例概要】 ■課題 ・純度の高いカーボンナノチューブを作り出すために高温炉が必要だった ・カーボンナノチューブには生成の過程で金属等の不純物が混入することがある ■成果 ・装置が手元にあることで、別拠点の設備を使用する場合と比べて試料の受け渡しや  事務手続きから解放されるというメリットがある ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 焼却炉・焼却装置

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株式会社三幸 総合カタログ

機械・電気・ソフト設計者が、社内に在籍!多様なニーズにお応えできます

当カタログは、お客様のニーズに合わせた設計、製造、評価、設備の 改善・改造工事等を行っている株式会社三幸の総合カタログです。 真空中又は、ガス雰囲気中での製品の熱処理加工を行い、高品質の製品を 生産する装置「標準小型高温高真空雰囲気炉 1800STシリーズ」をはじめ、 円筒状ヒーターを縦方向に3ゾーンに配置し、角ゾーンを個別に 加熱制御することができる熱処理装置「縦型円筒ヒーターユニット」等、 多数製品をラインアップしています。 【掲載内容(抜粋)】 ■セラミックス製品 ■標準小型高温高真空雰囲気炉 1800STシリーズ ■結晶育成炉 ■高周波誘導加熱方式スカルメルト炉 ■真空高温抵抗合成炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 製造受託

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高真空高温電気炉

高真空中で均熱良く加熱します

仕様 ・真空度:1.33×10-4Pa ・温度:MAX2200℃ ・昇温速度:常温から2000℃まで120分以内 ・材質:ヒーター タングステンメッシュヒーター     本 体  SUS-304 ・冷却時間:100℃まで120分以内

  • 電気炉

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アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

  • アニール炉
  • 加熱装置
  • 電気炉

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超高温真空 雰囲気炉『NEWTONIAN Pascal-40』

急速昇温・急速降温が可能なため、試験サイクル時間の短縮に貢献!事務デスク1台分のスペースで設置できるほど小型で、移動も簡単です。

『NEWTONIAN Pascal-40』は、発熱体にC/Cコンポジット (炭素‐炭素複合材)を使用した真空及びガス雰囲気で最高2,000℃まで 昇温が可能な高温炉です。 急速昇温(500℃⇒2,000℃を1分程度)・急速降温(2,000℃⇒100℃を60分以内) が可能で、難しい条件での焼成や試験サイクル短縮を実現します。 【特長】 ■発熱体に強固なC/Cコンポジット素材を採用し本体の長寿命化を期待 ■C/Cコンポジット素材はX線の透過性が高く被加熱物溶融の様子をX線に より観察可能 ■(オプション)放射温度計により被加熱物の温度測定が可能 ■小型化により事務デスク1台分のスペースで設置可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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1,400℃回転式管状炉『OSK 97TG 14RT』

発熱体は高品質炭化ケイ素棒ヒーター(SIC)!高品質の石英ガラス管を使用

『OSK 97TG 14RT』は、炉管は360°回転させ、速度調節することが できる回転式管状炉です。 回転チューブにより、加熱均一が可能で、高真空シールフランジ、 ガス出入口ポート付き。高品質の石英ガラス管を使用。 また、セラミックファイバーライニングボード、HREヒーター ワイヤー内蔵で、最高温度は1,400℃でございます。 【特長】 ■回転チューブにより、加熱均一 ■チューブ回転速度 15RPM Max(リバーシブル) ■傾斜角度 0~30°(オプション) ■高真空シールフランジ、ガス出入口ポート付き ■高品質の石英ガラス管を使用 ■セラミックファイバーライニングボード、HREヒーターワイヤー内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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竪型真空炉 MetalMaster

多機能真空炉 MetalMasterは、高品質な性能と実績のある技術を組合、再現性の高い処理結果を生み出し続けます。

竪型真空炉は、オールメタルやグラファイト等の加熱室を採用で きます。さらに、その技術は費用対効果が高く、多用途で、汎用性 が高いため、プロセスやアプリケーションの様々は要求を容易に満 たすことができます。

  • 加熱装置

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ボックス型電気炉【SUPER MAX(V)】

低価格!高性能真空置換式マルチ雰囲気炉

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う 『ボックス型電気炉【SUPER MAX(V)】』のご案内です。 丸祥電器社SUPER MAXをより発展的に使用していただくために 開発された、高性能真空置換式マルチ雰囲気炉 ■□■特徴■□■ ■従来の同型炉と比較して、メンテナンス性改善と大幅な低価格化に成功 ■雰囲気は窒素、酸素、ヘリウム、アルゴン、 水素(雰囲気により使用温度は異なる)とマルチに使用することができ、 水素専用仕様などのオプションにも対応可能 ■詳細は、お問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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特殊炉【アルミ溶解・保持装置】

丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【アルミ溶解・保持装置】』

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【アルミ溶解・保持装置】』の ご案内です。 ■□■特徴■□■ ■溶解炉 常用/最高温度:750℃/950℃ 丸祥電器社の技術は、食品の焼き上げや防腐処理、印刷や フィルムのキュア用、線材連続アニールやCVD用、 超伝導用高精度雰囲気処理、光学レンズ用ガラス溶解や プレス及びアニール、硝子フロート用レアーヒーター、 合成石英用プリフォーム炉、ロー付け、光輝焼鈍、セラミックや 焼結金属向け脱脂及び焼成、灰溶融炉、主燃テスト炉、単結晶引き上げ炉、 チタン高純度化装置、ガス加熱装置等、幅広い業界に対応しています。 ヒーター設計技術、断熱設計技術、真空技術、ガス雰囲気制御、 露点及び酸素濃度技術とさまざまな加熱経験により、 幅広い分野における、小規模な実験装置から生産装置まで手掛けています。 ■詳細は、お問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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雰囲気炉【ターゲット材料加圧焼結炉】

炉内圧力プログラム制御システム装備!雰囲気炉

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『ターゲット材料加圧焼結炉』のご案内です。 「優秀な超高温炉」を開発コンセプトに進化し続けるSUPER BOYシリーズ ■□■特徴■□■ ■4側面加熱と炉床の電動昇降システム ■加熱空間が均一化、有効域も大きく取れ、試料のセットも正確に行える ■優れた昇降温特性、冷却制御、マルチ雰囲気対応など、高度な機能が満載 ■均熱性、高応答性、使いやすさを生かし、さまざまな研究開発専用炉や 連続処理用シュミレーション炉、スポーリング、クリープ、引っ張り試験の 試験炉として数多くの実績 ■炉内寸法:W300mm×D300mm×H300mm ■常用/最高温度:1600℃/1700℃ ■圧力:最高0.1Mpa ■ヒーター:ニケイ化モリブデンヒーター・ 真空置換型・炉内圧力プログラム制御システムを装備 ■詳細は、お問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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特殊炉【特殊ガス処理装置】

丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【特殊ガス処理装置】』

電気炉・雰囲気炉/加熱・熱処理技術のエキスパート企業 丸祥電器社が取り扱う『特殊炉【特殊ガス処理装置】』のご案内です。 丸祥電器社の技術は、食品の焼き上げや防腐処理、印刷や フィルムのキュア用、線材連続アニールやCVD用、 超伝導用高精度雰囲気処理、光学レンズ用ガラス溶解や プレス及びアニール、硝子フロート用レアーヒーター、 合成石英用プリフォーム炉、ロー付け、光輝焼鈍、セラミックや 焼結金属向け脱脂及び焼成、灰溶融炉、主燃テスト炉、単結晶引き上げ炉、 チタン高純度化装置、ガス加熱装置等、幅広い業界に対応しています。 ヒーター設計技術、断熱設計技術、真空技術、ガス雰囲気制御、 露点及び酸素濃度技術とさまざまな加熱経験により、 幅広い分野における、小規模な実験装置から生産装置まで手掛けています。 詳細は、お問い合わせ下さい。

  • 電気炉

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ホットウォール雰囲気炉 最高温度 1100 ℃

最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理

密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。 所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。 最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。   炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採用しています。   また、IDB 装備では不活性ガスでの脱バインダーあるいは熱分解が可能です。 プロセスに要求される温度領域に対応して、以下に列記する種々の機種が採用されます。   <可燃性プロセスガスで稼動するH2 タイプ> 水素のような可燃性プロセスガスを使用する応用領域のレトルト炉には、それに求められる安全技術を追加装備して納入します。   安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。炉の運転は、誤作動無く確実に作動する PLC 制御システム (S7-300F/安全制御) でコントロールされます。  

  • 加熱装置
  • 電気炉
  • 工業炉

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真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500℃)、降温1500℃→100℃まで約40分(真空、およびガス置換雰囲気) ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

  • 加熱装置
  • 電気炉
  • アニール炉

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高温熱処理炉『TOR-14』

炉内温度分布の均一性が特長!試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構によります

『TOR-14』は、加熱温度2000℃(Max.)、1800℃(Nor.)の高温熱処理炉です。 省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計。 排気系はターボ分子ポンプ又はDPに変更が出来ます。 オプションとして、ルツボ形状選択や、真空排気ユニット取付、冷却水チラー取付をご用意しております。 【特長】 ■炉体、制御部一体化によるコンパクト設計 ■試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構による ■炉内温度分布の均一性 ■省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 加熱装置

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