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炉(窒素雰囲気) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年09月17日~2025年10月14日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

炉の製品一覧

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CO2を削減!対象を内部より加熱 焼成炉『マイクロ波炉』

【テスト焼成可能】セラミックス成形体の焼成や電子部品材の乾燥に!短時間・内部からの加熱を実現。※他各種電気炉など取り扱い有

『マイクロ波炉』は、ガスや電気に替わる熱源として期待される焼成炉です。 マイクロ波は分子の摩擦熱を利用し、被焼成物を直接加熱することが可能となっており、 一般的なガス・電気炉のような外側から熱を加えるのではなく、内部から温めることで、“短時間”“品質向上”を実現します。 また、材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱も可能。 環境問題が叫ばれる現代において、CO2の排出を削減する事が可能であり、 環境に配慮した焼成ができることも特徴です。 現在、自社工場内の取り扱い炉を増やし、今まで以上に様々なテスト焼成をできる環境を整えております。 マイクロ波以外にも、焼成炉・電気炉など、材料や製品に合った焼成方法に柔軟に対応ができますので、 試作・量産などにご興味のある方はお気軽にお声がけください。 【特長】 ■被加熱物を直接加熱するため、加熱時間が短い ■材料の誘電損率の差を利用することにより、選択加熱が可能 ■被加熱物を内部から加熱することができ、品質向上が可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 工業炉

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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製

当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発~量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応(オプションで650℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • はんだ付け装置
  • リフロー装置

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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製

『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデル。ユニテンプジャパン製

『RSO-200』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製

『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル。ユニテンプジャパン製

『RVS-210』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”の他、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さなざまな試作開発に 必要な機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイズ630mm×200mm!ユニテンプジャパン製

『RSS-3×210-S』は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や、「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざまな試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減  ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きい対象物もムラなく加熱 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製

『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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材料の性質や熱処理の目的に合わせたご提案「雰囲気炉」

処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。

窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【雰囲気一覧】 窒素 / 水素 / 酸素 / アルゴン / メタノール分解ガス / アンモニアガス 一酸化炭素 / 二酸化炭素 /AXガス / DXガス / RXガス / 三フッ化窒素 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくかお気軽にお問合せください。

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ベル型窒化炉

材料の性質や熱処理の目的によって炉内雰囲気ガスの切替が可能です

一般的な焼入れに比べて低い温度で処理が行われるため、鋼材の歪みが発生しにくく、寸法精度を保つことが可能です。 【仕様】 ● 温度:400~650℃ ● 雰囲気:窒素 / アンモニアガス / 三フッ化窒素 ● 用途:窒化 ● 処理物:ステンレス ● 処理量:1000Kg/ch ● 電気容量:140kW 【製品例】雰囲気炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ 表示管ガラス ■ 通電検査機器用精密管 ■ フライパン ■ CPUヒートパイプ 【その他の導入事例】 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 ■ 材料を浸炭させたい →『バッチ型雰囲気ガス浸炭炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ピット型滴注浸炭炉

用途に応じて焼入炉・焼戻炉としても使用できる多目的炉です

メタノールから浸炭ガスを炉内で生成して熱処理をするほか、雰囲気ガスを変更して焼入炉・焼戻炉としても使用が可能です。 【仕様】 ● 温度:450~950℃ ● 雰囲気:窒素 / メタノール分解ガス ● 用途:浸炭 ● 処理物:鉄 ● 処理量:3000Kg/ch ● 電気容量:240kW 【製品例】雰囲気炉でつくられる身近な製品例 ■ エンジン部品 ■ ドライブトレーン部品 ■ ブレーキ部品 ■ 磁性材料 ■ 通電検査機器用精密管 ■ CPUヒートパイプ 【その他の導入事例】 ■ 粉体を窒化処理させたい →『レトルト回転式窒化炉』 ■ 酸化させずにアルミを焼鈍処理したい →『ローラーハース式軟化炉』 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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雰囲気炉

充填する雰囲気ガスは、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります!

鋼は大気中で熱処理を行うと酸化や脱炭が起こるため、表面仕上げなどの 加工が必要になる場合があります。 そのため、後加工の手間を省いたり、酸化や脱炭を抑制したりするなどの 用途に応じて雰囲気ガスを炉内に充填させて加熱処理する『雰囲気炉』が 多く用いられています。 充填する雰囲気ガスは、窒素やアルゴンなどの不活性ガスをはじめ、 水素やAXガスなど、材料の性質や熱処理の目的によって多岐にわたります。 【特長】 ■熱処理中にガスの切替が可能 ■バッチ型や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがある ■粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがある ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能な雰囲気炉

処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて、好適な雰囲気炉をご提案いたします。

炉内で使用した雰囲気ガスを廃棄せずに加熱前のスペースで予熱として再利用することができます。その結果、常温から加熱する時よりもエネルギー使用量が少なく省エネとなります。 窒素や水素以外でも特殊な雰囲気下の熱処理に対応可能です。サンファーネスでは処理量やワークサイズ、用途、前後工程などご要望をお聞きし、周辺領域も含めて最適な雰囲気炉をご提案いたします。 【その他の特長】 ● バッチ式や連続式などのさまざまな形状の炉の取扱いがあります。 ● 熱処理中にガスの切替が可能。 ● 粉末冶金向け脱脂炉の取扱いがあります。 【その他の課題解決】 ■ 攪拌ファンのシャフトが摩耗してガスが漏れるので交換の頻度が多い ■ COガスの出る炉を使用しているが、メンテナンス時に危険が伴う ■ 粉体静置処置で粉体と反応ガスの接触が少なく処理時間が長い 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。

  • 工業炉
  • エンジン系部品
  • 2次電池・バッテリー

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連続式ストランド炉 線径にかかわらず1台で多品種小ロットにも好適

さまざまな太さのワークを一度に処理することができます

異なる太さ(径)や加熱パイプを配置して同時に熱処理をすることが可能です。また、個々のパイプごとに窒素や水素などガスの切替や流量の調整も行うこと可能なため、1台で多種多様な熱処理が実現します。 【仕様】 ● 温度:1150℃ ● 有効寸法:10A×L5000×4本、15A×L5000×4本、25A×L5000×4本 ● 雰囲気:水素 / 窒素 / アルゴン ● 用途:軟化焼鈍 ● 処理物:ステンレス鋼線 ● 処理量:線速DV12(D:線径mm、V:速度m) ● 電気容量:48kW 【サンファーネス 線材光輝焼鈍炉の特長】 ■炉体、焼鈍管を自由設計 処理スピードや線径、導入ガス、前後装置との兼合や、設置場所による炉のメンテナンスを考慮した形状等、柔軟に対応することが可能です。 ■コスト低減 通常運転時のランニングコストを抑えられる設備の提案が可能です。 ■品質 ヒーターや熱電対などの消耗品は長く御使用いただける高品質なものを選定します。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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バッチ型真空脱脂炉

気密性が高い炉を仕様要件に沿って、オーダーメイドで製作します

バッチ型では真空加熱後の冷却時に炉内に雰囲気ガスの投入と熱交換器の使用により処理物を早く冷却することが可能です。 【仕様】 ● 温度:100~600℃ ● 雰囲気:真空 / 窒素 ● 用途:脱脂 ● 処理物:鉄系粉末成形品 ● 処理量:910Kg/ch ● 電気容量:195kW 【製品例】真空炉でつくられる身近な製品例 ■ ステアリングギア ■ チェーン部品 ■ 自転車変速ギア ■ 工具 ■ ベアリング 【その他のおもな真空炉】 ■ 真空光輝焼鈍炉 ■ 真空窒化炉 ■ 真空浸炭炉 ■ 真空焼戻し炉 ■ 真空ろう付け炉 省エネ化、自動化、環境への配慮、安全性など新しい課題やご相談がございましたらお気軽にお声がけください。 *詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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