ミストCVD Mistic（ミスティック）
燃料電池向け金属セパレータに最適な高耐食性・高導電性酸化膜
<特長> 大気中で成膜できる シンプルで高機能な CVD被膜
- 企業：アイテック株式会社
- 価格：応相談
CVD(金属) - 企業3社の製品一覧
製品一覧
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG) ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社渡辺商行
- 価格：応相談
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置 (8インチウェハまで対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG) ・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG) ・拡散/インプラ用ハードマスク 犠牲膜(NSG) ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社渡辺商行
- 価格：応相談
CVD(三層)コーティング＜特長＞
耐腐食性などが要求される分野、高温になる金型、ステンレスのプレス加工に好適！
中日本炉工業株式会社にて行っている「CVD(三層)コーティング」の 特長について、ご紹介いたします。 耐焼付性、耐摩擦性、耐腐食性の要求される分野、高温になる金型、 ステンレスのプレス加工に好適。 また、TiCコーティング品においては、高硬度、耐摩擦性の要求される冷間鍛造、 プレス金型の寿命向上に貢献しています。 【検査装置(一部)】 ■マイクロビッカース硬さ試験機 ■ショア硬さ試験機 ロックウェル硬度計 ■倒立式金属顕微鏡 ■卓上顕微鏡＋エネルギー分散型X線分析装置 ■マイクロスコープ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：中日本炉工業株式会社
- 価格：応相談
