GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置
コンパクト構造で、シンプルで低価格な設計になっています。超平坦化加工と無損傷加工を実現！表面改質、高品位薄膜形成などに最適です。
本装置は、数十～数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム（GCIB）を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。 【特長】 ■ナノオーダーの微細加工に適しています ■Ra 数ナノメートルの平坦化加工 ■反応性ガス処理対応 ■基板表面温度１００℃以下での加工可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：アールエムテック株式会社
- 価格：応相談
