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外熱式真空溶解方式を採用！高温材料のガスアトマイズが可能な粉末製造装置
『VEVA-GPシリーズ』は、溶融状態の金属に高圧のガスを噴きつける事に より粉末を作製する装置です。 超幅2.5m、高さ2mのコンパクト設計により一般実験室に設置でき、 装置の清掃が非常に容易です。 また、作業性を重視していますので操作も簡単。 ワンサイクル60分で完了します。 【特長】 ■小型設計 ■酸化を防ぐ ■噴射ガス圧1MPa以下でも微粉末（60μm以下）が可能 ■噴射ガス使用量が非常に少ない ■合金溶解噴射も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【操作簡単、ワンサイクル60分】超小型型により一般の実験室に設置可能！（横幅2.5ｍ×高さ2ｍ)
【超小型ガスアトマイズ装置】 真空排気後の不活性ガス雰囲気中又は大気中において 試料の溶解を行い、ガスアトマイズ法により粉末を作製 【特徴】 ○真空溶解及び噴射室真空排気による酸化防止 ○粉末は100μm以下で高回収率（平均粒径20〜60μm） ○高温材料のガスアトマイズが可能（Max1800℃） ○ガスジェットノズルの上下調整機構 ○合金溶解噴射が可能 ○石英管タイプ（1〜4kg） ○チャンバタイプ（3〜30kg） ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
一般的なガスアトマイズでは困難だった高融点材料でガスアトマイズが可能に！
「NEV-FFGAシリーズ」は、一般的なガスアトマイズでは困難であった高融点材料でのガスアトマイズが可能です。ルツボを使用しない為コンタミフリーでの粉末作製が可能です。 【特長】 ■ルツボを使用しない為コンタミフリーでの粉末作製が可能 ■一般的なガスアトマイズでは困難であった高融点材料でのガスアトマイズが可能 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
真空排気後、不活性ガスをチャンバー内に置換させた後、高周波誘導溶解により金属を溶解
当社では、『ガスアトマイズ装置』を取り扱っております。 溶解チャンバーと噴霧チャンバー間に差圧を生じさせ、且つ、ストッパーを 上昇させることにより溶融金属を下方に落とします。 その溶融金属に高圧ガスを噴きつけ球状の金属粉末粒子を作製。 真空排気後､不活性雰囲気中で急冷凝固粉末化するので水アトマイズでは できないような酸化性の強い試料も容易に粉末化させることができます。 【特長】 ■射出成形（MIM）向け希土類磁石粉末 ・グローブボックスを用い、不活性ガス雰囲気中にて大気にさらさず 試料を回収 ■3Dプリンター向け粉末 ・アルミ粉末、チタン粉末、コバルト系粉末、インコネル粉末など 3Dプリンター用球形粉を提供 ■高融点試料粉末 ・2000℃まで試料を加熱させることにより、純鉄のような高融点試料を 粉末化させる事が可能 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
