1～5 件を表示 ／ 全 5 件
ギャップの広いセルの製作を実現。200μm～1.1mmまで様々なギャップサイズに対応可能
当社は、液晶などの製造・研究開発に役立つ ギャップの広いセルをご提供しています。 クサビセルの組み立て技術によって、 製作の難しい幅広のセルギャップを実現しました。 【特長】 対応ギャップサイズ…200μm～1.1mm 基板ガラス種類…無アルカリ、ソーダより選択 ギャップ用スペーサー…ガラス、PET フィルム等 最小ロット数…20式より その他…配向膜、ラビング対応可 ※製品につきましては資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
冷蔵と冷凍等、2温度帯を一度に管理！ 温度計付き
XPS 樹脂（押出発泡ポリスチレンフォーム）を使用し、密閉性の高い縫製加工によって生産した輸送容器と保管容器です。 使い勝手の良いサイズとパーツ、熱伝導性の低いXPSの選択と層厚を増すことで、単独素材ながら真空断熱材に匹敵する性能を維持しております。 持ち運びができ、更に一つの容器で冷蔵、冷凍の2温度帯を一度に管理できる便利な容器です。
冷蔵と冷凍等、2温度帯を一度に管理！ 温度計付き
XPS 樹脂（押出発泡ポリスチレンフォーム）を使用し、密閉性の高い縫製加工によって生産した輸送容器と保管容器です。 使い勝手の良いサイズとパーツ、熱伝導性の低いXPSの選択と層厚を増すことで、単独素材ながら真空断熱材に匹敵する性能を維持しております。 持ち運びができ、更に一つの容器で冷蔵、冷凍の2温度帯を一度に管理できる便利な容器です。
分子線セルの製造に30年以上の実績を有し、豊富な経験と知識をベースに、お客様の使用環境・使用目的に最適な製品をご提供しています。
標準品以外でも豊富な経験とCADを駆使することによりお客様の要求仕様に応じて設計、製造いたします。現在までに標準品を初め、特殊仕様セル、各社MBE装置向けの代替など研究開発から大型生産装置用まで数多くの納入実績があります。
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとしても使用できる高性能真空蒸着ソースです。
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着（～ 800℃）用セルと高温加熱（～ 1500℃）セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用 チャンバー内に複数のOLEDソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。 上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。 本体部は、1cc 坩堝用（最大充填量1.5cc）、10cc 坩堝用（最大充填量15cc）があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換可能。 熱電対はK、Cのいずれもご指定いただけます。 るつぼ：アルミナ（標準）、石英、PBN、カーボンが選択できます。
