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環状スプレーパターンの空円錐噴霧を2方向に発生させる空円錐ノズル
「均等分布ノズル(大量噴霧／2方向) TWAA」は、TAAノズル(スラリー液噴霧ノズル)の2方向(180°対向)噴霧が可能な空円錐ノズルです。 ２方向噴霧なので、従来2つ利用していたノズルを1つにまとまるため、装置の簡素化・メンテナンス時間の節約ができます。 全セラミック製のため軽量(金属製の1/2以下)で、耐摩耗性が抜群に優れたSiC(窒化珪素結合炭化珪素)を使用しています。 【特徴】 ○環状のスプレーパターン ○目詰まりしにくい構造 ○流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプ ○2方向に噴霧 ○耐摩耗性に優れる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ボタ落ちしにくい！制御エアーで噴霧のON/OFFが可能な扇形ノズル
「山形分布ノズル(制御機構付) SO-V」は、中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生させることができます。 制御エアーによって内部のピストンが上下移動し、噴霧のON／OFFが可能。 ボタ落ちしにくく、反応(応答性)の良い噴霧制御も可能です。 また、機械、紙・パルプ・印刷、食品等の業界での使用に最適です。 【特徴】 ○山形流量分布の扇形噴霧を発生 ○中央が強く両端にかけて次第に弱まるスプレーパターン ○ボタ落ちしにくい ○反応(応答性)の良い制御が可能 ○制御エアーによって噴霧のON/OFFが可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
噴角変動が少なく均等な噴霧を維持！高ターンダウン1流体均等扇形ノズル
「均等分布ノズル(高ターンダウン)VVEP-HL」は、圧力を変えても噴霧角度の変動が少なく、均等な噴霧を維持する高ターンダウンの1流体均等扇形ノズルです。 特に少ない噴量での制御をしたい時に有効なノズル。噴量調整範囲(ターンダウン比)が大きいので、対象により噴量を増減させる用途に最適です。 全域にわたり均等な流量分布のスプレーパターン。小噴量で制御可能な構造です。 【特徴】 ○高ターンダウン1流体均等扇形ノズル ○全域にわたり均等な流量分布のスプレーパターン ○噴霧圧力を変更した際、噴霧角度の変動が少ない ○小噴量で制御可能な構造 ○噴霧流量を増減させて利用する用途に好適 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
目詰まりしにくい！スプレーパターンが環状の中噴量形空円錐ノズル
「均等分布ノズル(中量噴霧) AAP」は、スプレーパターンが環状の比較的細かい粒子径の空円錐噴霧を発生させることができる空円錐ノズルです。 液圧力に関わらず安定して噴霧可能。ノズル本体とオリフィスキャップの2部品で構成され、流入口、噴口部とも1孔で目詰まりしにくい構造。オリフィスキャップはねじ込み式で取外し可能です。 流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプです。 【特徴】 ○中噴量形 空円錐ノズル ○液圧力に関わらず安定して噴霧可能 ○環状のスプレーパターン ○目詰まりしにくい構造 ○流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
大量噴霧のフランジ形！軽量で環状スプレーパターンの空円錐ノズル
「均等分布ノズル(大噴量フランジ形) TAA」は、インボリュート形の理想的旋流室設計により、低圧時も安定したスプレーパターンで環状の空円錐噴霧を発生させることができる空円錐ノズルです。 耐摩耗性が抜群に優れたSiC(窒化珪素結合炭化珪素)を使用。配管との接続はフランジ締結。全セラミック製のため軽量(金属製の1/2以下)です。 排煙脱硫装置吸収塔やスラリー液の噴霧等での使用に最適です。 【特徴】 ○インボリュート形で低圧時も安定して噴霧可能 ○スプレーパターンが環状の空円錐噴霧を発生 ○耐摩耗性が抜群に優れたSiCを使用 ○全セラミック製のため軽量 ○流入方向に対し、直角に噴霧するアングルタイプ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
噴霧方向の調整が可能！山形流量分布の扇形噴霧を発生させる扇形ノズル
「山形分布ノズル(自在継手付) UT+VP」は、中央が強く両端にかけて次第に弱まる山形流量分布の扇形噴霧を発生させることができます。 ボールジョイント付VPノズルは方向変更を行うためのボールと一体となっており、ノズルの噴霧方向は40°未満で調整可能です。 ノズル、キャップ、アダプターで構成され、ノズルの噴口部はセラミックを使用しています。 【特徴】 ○山形流量分布の扇形噴霧を発生 ○中央が強く両端にかけて次第に弱まるスプレーパターン ○ノズルの噴霧方向は40°未満で調整可能 ○ノズルの噴口部にセラミックを使用。 ○ノズル、キャップ、アダプターで構成 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ノズル数量の低減、節水を実現！ワイドな噴霧の厚幅均等扇形ノズル
「厚幅均等分布ノズル WVVEP」は、強打力かつ広い面積をカバー可能な1流体厚幅均等扇形ノズルです。 異物通過径が大きくシンプルな構造で目詰まりしにくい。標準扇形に比べ噴霧厚さ方向の広がりが大きいノズルです。 中央が強く両端にかけて次第に弱まる、噴霧厚みの広いスプレーパターン。スプレーパターンの幅と厚さの比は3～4：1となります。 ロール冷却や厚板・熱延鋼板冷却、鋳片冷却等に最適です。 【特徴】 ○噴霧厚みの広いスプレーパターン ○ノズル数量の低減、節水を実現 ○ワイドな噴霧の厚幅均等扇形ノズル ○異物通過径が大きく目詰まりしにくい構造 ○強打力、強い冷却能力 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
目詰まりしにくい！ノズル全体がアルミナセラミック製の空円錐ノズル
「均等分布ノズル(中噴量アルミナ形)AP-AL92」は、スプレーパターンが環状の比較的細かい粒子径の空円錐噴霧を発生させることができる空円錐ノズルです。 ノズル全体がアルミナセラミックでできており、流入方向に対し直角に噴霧するアングルタイプの空円錐ノズル。 液圧力の高低に関わらず噴霧が安定し、流入口、噴口部とも1孔で目詰まりしにくい構造です。 【特徴】 ○ノズル全体がアルミナセラミック製の空円錐ノズル ○液圧力に関わらず安定して噴霧可能 ○スプレーパターンが環状の比較的細かい粒子径の空円錐噴霧を発生 ○流入口、噴口部とも1孔で目詰まりしにくい ○流入方向に対し、直角に噴霧 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
低圧大噴量！円形スプレーパターンで均等流量分布の充円錐ノズル
「均等分布ノズル(大量噴霧) JJHP」は、スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 低圧力時も均等な流量分布を維持し、かつ大量噴霧が可能。0.05MPaの低圧噴霧でも、均一・均等分布を実現します。 大噴量ながらもコンパクトサイズ(従来品と比較しノズル全長約13%低減、質量約1kg低減)なので、装置の小型化・軽量化が図れます。 【特徴】 ○均等な流量分布の円形スプレーパターン ○低圧力でも安定した均一噴霧 ○コンパクトタイプ ○装置の小型化・軽量化が図れる ○本体とワーラーの2部品で構成される2体形ノズル 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
大噴量タイプ！循環流化床式ガス脱硫装置用1液体高圧リターンノズル
「スピルバックノズル GSPB」は、SPBノズルの大噴量タイプ、循環流化床式ガス脱硫装置用1液体高圧空円錐ノズル(リターンノズル)です。 一定圧力で液体(水)をノズルに供給、排出バルブの開閉により噴霧量を調整するノズル。 噴霧量のターンダウン比(絞り比)は1:10。粒子径の変化が少ないガス冷却用に最適なスプレーノズルです。 【特徴】 ○環状のスプレーパターン ○噴霧流量可変形 ○SPBノズル(リターンノズル)の大噴量タイプ ○噴霧量のターンダウン比(絞り比)は1:10 ○粒子径の変化が少ない 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
最少の噴霧流量！円形スプレーパターンで均等流量分布の充円錐ノズル
「均等分布ノズル(少量噴霧) J」は、スプレーパターンが円形で均等な流量分布の充円錐ノズルです。 充円錐ノズル中最少の噴霧流量。衝突流入により微粒化を行う、新発想の充円錐ノズル。 全形番にストレーナー標準装備。各部品は分解可能です。 スプレーチップ噴口部およびクローザーにセラミックを使用し、耐摩耗性に優れます。 【特徴】 ○均等な流量分布の円形スプレーパターン ○充円錐ノズル中、最少の噴霧流量 ○衝突流入により微粒化を行う ○耐摩耗性に優れる ○スプレーチップ噴口部・クローザーにセラミックを使用 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
細霧・中霧発生！厚み方向に薄く、強打力の噴霧が可能な2流体扇形ノズル
「扇形ノズル VVEA」は、ノズルチップ、キャップ、混合アダプター、液ソケットなど複数部品で構成される2流体ノズルです。 ノズル内部で圧搾空気と液体をミックスして微粒化を行う内部混合形。(ノズルアダプター内において、液体と圧搾空気を混合するプレミックス形) 液体を加圧して2流体ノズルに供給し、0.2～0.7MPa程度の圧力で噴霧する液加圧タイプです。 【特徴】 ○微細な霧を薄い厚み、均等な分布で噴霧するノズル ○平均粒子径が50μm以上の細霧を発生する2流体扇形ノズル ○厚み方向に薄く、強打力の噴霧が可能 ○0.2～0.7MPa程度の圧力で噴霧する液加圧タイプ ○幅広い流量調整範囲を持ち、噴霧角度の変動が小さい 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
目詰まりしにくい！低液圧力で広角の扇形噴霧を発生させる扇形ノズル
「広角山形分布ノズル YYP」は、低液圧力で広角の扇形噴霧を発生させる広角扇形ノズルです。 ノズル軸心に対し75°の仰角で噴霧。他の種類の扇形ノズルと比べ、霧化性能、スプレーパターン、流量分布がラフで打力も劣るが目詰まりしにくい構造です。 全金属製または全樹脂製の一体形ノズル。鉄鋼、電気電子、食品等の業界での使用に好適です。 【特徴】 ○低液圧力で広角の扇形噴霧を発生 ○目詰まりしにくい構造 ○ノズル軸心に対し75°の仰角で噴霧 ○全金属製または全樹脂製の一体形ノズル 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
全品禁油処理！超低圧で均等な流量分布を実現した超広角扇形ノズル
「広角均等分布ノズル(超低圧仕様) LYYP」は、超低液圧力(0.015MPa)で広角かつ均等な流量分布を実現した広角扇形ノズルです。 スプレー泡が立たないソフトな打力の小噴量タイプで、全品禁油処理。半導体製造装置現像液のスプレー、薬品製造工程における微量噴霧、表面処理鋼板への薬液噴霧等の用途に最適です。 材質はPVC。全樹脂製の一体形ノズルです。 【特徴】 ○超低液圧力で広角かつ均等な扇形噴霧を発生 ○スプレー泡が立たないソフトな打力の小噴量タイプ ○全品禁油処理 ○全樹脂製の一体形ノズル 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
標準圧力0.3MPa！噴霧厚さ方向の広がりが大きい空気吸込式扇形ノズル
「均等分布ノズル(空気吸込式) EJVV」は、全域にわたり均等、噴霧厚みが広い流量分布スプレーパターンの空気吸込式扇形ノズルです。 標準扇形ノズルに比べ噴霧厚さ方向の広がりが大きく、スプレーパターンの幅と厚さの比は3～4：1。 異物通過径、平均粒子径は標準扇形ノズルに比べやや大きく、ノズル複数配列時にパターンの両端をオーバーラップさせて使うと、流量分布が全幅において均等になります。 【特徴】 ○全域にわたり均等、噴霧厚みが広い流量分布のスプレーパターン ○スプレーパターンの幅と厚さの比は3～4:1 ○標準扇形ノズルに比べ噴霧厚さ方向の広がりが大きい ○異物通過径、平均粒子径は標準扇形ノズルに比べやや大きい ○スプレーチップ、キャップ、アダプターの3部分で構成 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
