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クリーンで使いやすいWET系バルブ！特殊機能付きや200℃対応高温樹脂弁などをご用意
『FCDNシリーズ』は、クリーンで使いやすく、逆圧に対しても 高い封止性能があるバルブです。 超高純度流体に対応したフッ素樹脂製の「手動弁・自動弁手動」をはじめ、 全開流量を任意に設定できる「流量調整付自動弁」や「バイパス付自動弁」 などをラインアップ。 用途に応じてお選びください。 【ラインアップ（抜粋）】 ■FCD 手動弁 ■FCD 自動弁 ■FCD 自動弁（各種機能付） ・流量調整付自動弁 ・バイパス付自動弁 ・流量調整＋バイパス付自動弁 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
全開流量を任意に設定可能！クリーンで使いやすい自動弁のご紹介
「FCDNシリーズ」はクリーンで使いやすく、逆圧に対しても 高い封止性能があるバルブです。 『流量調整付自動弁』は、全開流量を任意に設定可能。 バルブサイズは1/4 、3/8 、1/2 、3/4 、1 をご用意しており、 流体温度は5～100℃、周囲温度は0～60℃となっています。 【仕様（抜粋）】 ■流体温度：5～100℃ ■周囲温度：0～60℃ ■耐圧：1.0MPa ■弁座漏れ：0cm3/min（水圧にて） ■駆動方式：N.C./N.O./複動 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
流量設定、エア駆動開閉、バイパス流路の確保など1台3役の複合弁！
WET系樹脂バルブ「FCDNシリーズ」はクリーンで使いやすく、逆圧に対しても 高い封止性能があるバルブです。 『流量調整＋バイパス付自動弁』は、流量設定、エア駆動開閉、 バイパス流路の確保など1台3役の複合弁です。 バルブサイズは1/4 、3/8 、1/2 、3/4 、1 をご用意しており、 流体温度は5～100℃、周囲温度は0～60℃となっています。 【仕様（抜粋）】 ■流体温度：5～100℃ ■周囲温度：0～60℃ ■耐圧：1.0MPa ■弁座漏れ：0cm3/min（水圧にて） ■駆動方式：N.C./N.O./複動 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バイパス弁開度の調整で節水も可能！バルブ閉時にも流体の滞留を防ぎます
「FCDNシリーズ」はクリーンで使いやすく、逆圧に対しても 高い封止性能があるバルブです。 『バイパス付自動弁』は、バルブ閉時にもバイパス流路により 流体の滞留を防ぎ、バイパス弁開度の調整で節水も可能。 バルブサイズは1/4 、3/8 、1/2 、3/4 、1 をご用意しており、 流体温度は5～100℃、周囲温度は0～60℃となっています。 【仕様（抜粋）】 ■流体温度：5～100℃ ■周囲温度：0～60℃ ■耐圧：1.0MPa ■弁座漏れ：0cm3/min（水圧にて） ■駆動方式：N.C./N.O./複動 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
１台で流量調整と全開／全閉の２段階のコントロールを可能とした画期的な複合バルブです。
『ツーステップバルブ』は、1台で手動による流量調整と エアーアクチュエーターによる全開/全閉の2段階のコントロールを 可能とした画期的な複合バルブです。 ニードルではなくダイヤフラムで流体を制御するため、 パーティクルフリーとスピーディーなガス供給を実現。 従来システムのバイパス配管や制御機器が不要になり、 大幅なコストダウンと省スペース化が可能です。 【特長】 ■1台で手動による流量の調整とエアーアクチュエーターによる 全開/全閉の2段階のコントロールを可能 ■パーティクルフリーとスピーディーなガス供給を実現 ■従来システムのバイパス配管や制御機器が不要 ■大幅なコストダウンと省スペース化が可能 ■使用目的に合わせた好適なCv値が任意で設定できる ※ＫＩＴＺ ＳＣＴでは半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っています。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体真空装置の真空排気ラインに設置できるシンプルな構造を持ったバタフライバルブ！
『IVWFシリーズ』は、半導体真空装置の真空排気ラインに設置できる シンプルな構造を持った遮断弁です。 シンプルな構造により、コンパクト化と軽量化を行ったことを特長とし、 バルブ取り付け作業が容易。 スロットルバルブの構造は、マイクロメーターハンドルの目盛りにより 開度の再現が可能であり、差動ネジ機構による微小調整ができます。 【特長】 ■コンパクト化・軽量化 ■バルブ取り付け作業が容易 ■最小の面間寸法により設置スペースの問題を解決 ■固定ネジにより任意の開度で設定できる ■差動ネジ機構による微小調整ができる ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スロー排気ライン用のバイパスバルブとメインバルブが一体構造になっている、省スペースのバルブ！
「IVB_X VX」シリーズは、チャンバー内部で発生するパーティクルの 巻き上げを防止します。 メインバルブとバイパスバルブが一体となっており、大気から真空に 排気する場合、若しくは真空から大気に戻す場合に起こる急激な圧力 変動を抑え、メインバルブ開閉前にバイパスバルブでスロー排気により 圧力コントロールをします。 バイパスバルブには流量の固定と排気スピードが調整可能なタイプの 2種類を用意しており、このバイパスバルブは15Aサイズを除く「IVB」 「IVBL」「IVBH」シリーズ全てに対応可能です。 【特長】 ■従来のスロー排気ラインがメインバルブと一体構造 ■省スペース化が可能 ■排気ラインの低コスト化が可能 ■バイパスバルブは機種によって複数台取り付けることが可能 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
チャンバー内を汚染しにくい構造！Oリングへのストレス低減、高い耐久性能を実現
『PCAシリーズ』は、バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能なバルブです。 新開発のシートリング機構が、フラッパーに取り付けられたO-RINGの ねじれや脱落の問題を解消。また、フラッパーシール部がグリスレスのため、 反応室を汚染しにくい構造です。 シートリング機構採用により、Oリングへのストレス低減、高い耐久性能を 実現しました。 【特長】 ■バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能 ■低真空から高真空まで圧力調整が可能 ■新開発のシートリング機構を採用 ■高耐久：全開・全閉動作 300万回 ■独自ヒーティングによる内部副生成物の低減 ■副生成物の多いプロセスへ優れた適応性を発揮 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高速開閉・高い応答安定性！特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど対応可能
『TDFシリーズ』は、ＡＬＤ（原子層堆積）プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可能。 工場出荷時に全数Cv値を調整しており、使用時のCv値変動率が少なく 安定したガス流量が得られます。 【特長】 ■高速開閉・高い応答安定性 ＃高速応答 ■高温流体に対応 ■安定したCv値 ■高耐久 ■高純度ガス対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
AUTO PID搭載！指定した目標圧力に自動で調整するAPCバタフライバルブ
AUTO PID制御を搭載したAPCバタフライバルブ [PCVAシリーズ]のご紹介です。 当製品はバルブ、コントローラー 一体型のAPCバタフライバルブで、 半導体製造の真空排気ラインでの使用に好適です。 半導体製造ラインでは温度や圧力の微細な変動が製品の品質に大きな影響を与えるため、 高精度な制御が不可欠です。AUTO PID制御は高精度な制御、迅速な応答、 長期的な安定性、外乱に対する強さに対して利点があり、 半導体製造において、要求されるプロセスの安定化に寄与します。 AUTO PID制御を搭載するAPCバタフライバルブ [PCVAシリーズ]は 自動で指定した目標圧力に到達でき、半導体製造プロセスの最適化と効率化に寄与します。 具体的には次の制御が可能です。 ■ 圧力制御：指定した目標圧力に自動で調整 ■ 目標変更：圧力制御時の目標圧力値の変化にも対応 ■ 流量変動：学習流量以外の流量に対しても圧力制御が可能 ■ 外乱影響：目標圧力制御中に流量が変化しても目標圧力に収束 ■ 位置ずれ検出：生成物付着やメカ部トラブル等による位置ずれの検知が可能
