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ミラー(波長) - メーカー・企業と製品の一覧

ミラーの製品一覧

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IBSコート光学素子 :::: 波長355nm高出力ピコ秒ミラー

IBSコート光学素子 :::: 波長355nm高出力ピコ秒ミラー

IBSコーティングの高反射>99.7%・ハイパワー対応の波長355nmピコ秒レーザー用ミラーです。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。Optomanは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学系を保護し、寿命を延ばします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture, CA: min. 10 mm Surface quality, S1: 10-5 S-D over CA as per MIL Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRsp>99.7% @ 355 nm, AOI=32 - 45 deg S2: Uncoated

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波長515+1030nm 2波長ウルトラファーストIBSミラー

波長515+1030nm 2波長ウルトラファーストIBSミラー

IBSコーティング・デュアル波長515+1030nm・高反射>99.8%のウルトラファーストミラーです。低GDDが特徴です。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Coated CA: >80% Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Chips: <0.2 mm Coatings (IBS): S1: HRsp > 99.8% @ 1030 nm + 515 nm |GDDr ~ 0 fss| @ 1030 nm + 515 nm, AOI 45 deg S2: uncoated

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IBSコート光学素子 :::: UV波長高出力対応レーザーミラー

IBSコート光学素子 :::: UV波長高出力対応レーザーミラー

IBSコーティングにより高エネルギーのUVレーザーにもダメージを受けにくいミラーです。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。OPTOMANは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学素子を保護し、寿命を延ばします。

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高反射>98.5%・波長266nm IBSレーザーラインミラー

高反射>98.5%・波長266nm IBSレーザーラインミラー

IBSコーティング・波長266nmでS偏光>98.5%・P偏光>97.5%の高反射ミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >80% Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1: <λ/8 @ 633 nm over 20 mm CA. Parallelism: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Coatings (IBS): S1: HRs > 98.5% @266 nm & HRp > 97.5%@ 266 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated

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波長257nm・IBSコートダイクロイックミラー

波長257nm・IBSコートダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長257nm高反射>99.5%・515nm反射<1%のダイクロイックミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1/S2: <λ/8 @ 633 nm over CA Parallelism: <5 arcmin Coatings (IBS): S1: HRs>99.5% @ 257 nm + Rp<1% @ 515 nm, AOI=45 deg S2: ARp<0.1% @ 515 nm, AOI=45 deg LIDT and duty cycle optimized

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高反射>99.9%・波長1064nm IBSレーザーラインミラー

高反射>99.9%・波長1064nm IBSレーザーラインミラー

IBSコーティング・波長1064nmでS偏光>99.9%の2インチサイズ高反射ミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm Thickness: 9.52 mm +/-0.1 mm Clear aperture : min. 40 mm Surface quality, S1: 20-10 SD (as per MIL PRF-13830B) Surface flatness, S1: λ/6 @ 633 nm over any 25 mm aperture within CA Surface S2: inspection polished (80-50 SD) Parallelism: <5 arcmin Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs>99.9% @ 1064 nm, AOI 45 deg S2: uncoated

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波長1030nm高反射・IBSダイクロイックミラー

波長1030nm高反射・IBSダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長1030nm高反射 >99%・940nm透過 >98%のミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Coated area: min 23 mm Coatings (IBS): S1: ARsp<0.6% @ 940 nm, AOI=45 deg S2 (arrow marks): HTsp>98% @ 940 nm, AOI=40-50 deg (cone), HRs>99% @ 1030 nm, AOI=45 deg LIDT: >2 J/cm2, s-pol, 100 ps, 1030 nm (as per ISO S-on-1, 200 um beam dia)

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波長955-1005nm・低発熱高反射IBSミラー

波長955-1005nm・低発熱高反射IBSミラー

IBSコーティング・波長955-1005nmレンジ・反射率>99.95%の低発熱ミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: Corning IRFS 7979 0F Dimensions: 50x20 mm +0/-0.1 mm Edge thickness: 10 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 40x15 mm rectangular. Surface irregularity, S1: <λ/8@633 nm over elliptical 40x15 mm CA Coatings (IBS): S1(arrow marks): HRa>99.95% @ 955-1005 nm, AOI 45 deg. (CWL 980 nm) S2: uncoated LIDT > 30 kW/cm2 Absorption within coating <= 5 ppm per surface

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超高反射>99.99%・波長1µm 高耐力 IBSミラー

超高反射>99.99%・波長1µm 高耐力 IBSミラー

IBSコーティング・波長1030-1070nmで>99.99%の超高反射ミラーです。CWで4kWのレーザーまで使用が可能です。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Dimensions: 49.0 mm +0/0.1 mm Thickness: 0.8 mm +/-0.1 mm Coated area: min 47 mm Clear aperture: min 25 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm Surface irregularity, S1/S2: <λ/4 Coatings (IBS): S1: HRa>99.99% @ 1030 - 1070 nm, AOI=45 deg Low absorption: <10 ppm @ 1064 nm S2: SCC LIDT: CW, ns, high average power 4 kW

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波長1030/1064nm・IBSコートダイクロイックミラー

波長1030/1064nm・IBSコートダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長1030nm高反射s-pol >99.9%・1064nm透過 >95%のダイクロイックミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm Thickness: 8.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 46 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA Transmitted WFD: <λ/10@633 nm over CA S1 (arrow marks): HRs>99.9+HRp>98% @ 1030 nm + HTp>95 (97% best effort) @ 1064 nm, AOI=45+/-1 deg absorption coating (<35ppm) S2: ARp<0.1% @ 1064 nm, AOI=45 deg

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波長257nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

波長257nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長257nm高反射 >95%・515+1030nm透過 >92%のミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 12.7 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >87% Surface quality, S1/S2: 40-20 S-D Surface flatness, S1: <λ/4@633 nm per CA Parallelism error: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45° Coatings (IBS): S1: HRa>99.5% @ 257 nm + HTa>92% @ 515+1030 nm, AOI=42-48° S2: ARa<0,85% @ 515 + 1030 nm, AOI=42-48°

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波長765-1580nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

波長765-1580nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長1055-1580nm高反射sp >98%・765-1010nm透過p-pol >95%のミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (C7980) Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >90% Surface quality, S1/S2: 10-5 S-D per CA 10 mm according to MIL-PRF-13830B Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm Protective chamfer: 0.2-0.3 x 45° Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRsp_avg>98%@1055-1580 nm + HTp_avg>95%@765-1010 nm, AOI=17° S2: ARp<0.2%@765-1010 nm, AOI=17°

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波長780nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

波長780nm・IBSコート高反射ダイクロイックミラー

IBSコーティング・波長780nm高反射s-pol >99.5%・1200-1300nm透過sp-pol >98%のミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA MIL-PRF-13830B Surface flatness, S1/S2: <λ/6 @ 633 nm Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs>99.5% @ 780 nm + HTsp>98% @ 1230-1300 nm, AOI=45° S2: ARsp<0.8% @ 1230-1300 nm, AOI=45° LIDT info: 5mJ @ 1ps, 1kHz, 780nm, 1230-1300nm, beam dia mm 5mm

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IBSコート光学素子 ::::: 低ロス・超高反射レーザーミラー

IBSコート光学素子 ::::: 低ロス・超高反射レーザーミラー

IBSコーティングによりR>99.998%を実現します。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） ほぼ同価格で反射率>99.95%のIBSミラーが手に入るのに、なぜ標準的な電子ビーム蒸着のミラーを使うのですか。コスト効率の良いIBSコートされた誘電体ミラーは、特定の波長でのロスや入射角が重要なすべてのレーザー用途において良い仕事をします。電子ビームやイオンアシスト蒸着などの他のコーティングと比べて、IBSコートのミラーはより濃密で頑強、低散乱で低吸収です。熱吸収効果を防ぐため、高純度の溶融石英基板にコーティングされます。OPTOMANのIBSコートミラーは特定波長・入射角において、最大反射率>99.998%、トータルロス（吸収、散乱、透過）<15ppmという仕様が可能です。 高純度の石英ガラス（平面、球状またはウェッジ状）にコーティングされ、粗さ<2Å（0.2nm）まで研磨します。バルクに近い濃密なコーティングは温度や湿度などの環境要因によるパフォーマンスの低下が非常に少ないです。非常に高い反射率を誇る複雑なコーティングはGTIレーザーミラーだとR>99.95%、薄膜ポラライザだとTp/Ts >10000:1を実現できます。

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波長206nm・高反射 IBSミラー

波長206nm・高反射 IBSミラー

IBSコーティング・短波長206nm向け高反射ミラーです。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (C7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >85% Surface quality, S2: polished Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per CA Surface flatness, S2: NA Parallelism: <10 arcsec Protective chamfer: 0.2-0.4 x 45° Chips: <0.2 mm stoned Coatings (IBS): S1: HRp>93%@ 206 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated

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