光源(nm) - メーカー・企業と製品の一覧

【応用事例】表面とサンプルのアブレーション

元素/同位体分析を改善！高い信号対雑音比でより良いデータを取得します

当社の製品では、USPレーザで表面をテクスチャリングするか、分析方法にナノ秒またはウルトラファーストレーザを使用します(例: LIBS、LA-ICP-MS)。強靭で繊細な材料の表面はすべて、熱損傷なしにウルトラファーストレーザビームまたはUVエキシマレーザでパターン化可能。 193nmのエキシマレーザは、粒子サイズが小さく、信号強度が高く、固有の分別が低くなっています。【特長】 ■ナノ秒レーザフレアを使用して、高い信号対雑音比でより良いデータを取得 ■エキシマレーザまたはfsレーザ増幅器を使用して、固体サンプルの元素および　同位体組成を分析 ■レーザ誘起周期構造(LIPS)を含む究極の表面パターンを作成 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。