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非接触・非破壊・顕微で測定時間1秒の顕微反射分光膜厚計や、分光蛍光光度計などを導入いたしました。
クオルテックでは、有機材料、発光素子、薄膜･半導体の測定分析装置を 導入いたしました。 ターゲット膜の絶対反射率を測定し、膜厚と光学定数を精度良く計測する 「顕微反射分光膜厚計」をはじめ、非接触、非破壊で仕事関数、イオン化 ポテンシャルを測定する「光電子分光装置」や「分光蛍光光度計」など、 さまざまな測定・分析装置を取り扱っています。 【特長】 ＜顕微反射分光膜厚計＞ ■顕微分光で高精度な絶対反射率測定（多層膜厚、光学定数） ■1ポイント1秒以内の高速測定 ■顕微下で広い測定波長範囲を実現する光学系（紫外～近赤外） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
絶縁物の測定が可能！金属・半導体・高分子等さまざまな材料の研究開発や不良解析に利用されています
「X線光電子分光法」は、試料表面の元素分析・化学状態分析を行う手法です。 絶縁物の測定が可能なため、金属・半導体・高分子・セラミック・ ガラス等さまざまな材料に適用可能。 表面分析の中でも多用されている手法の一つであり、材料の研究開発や 不良解析に利用されています。 【分析項目】 ■表面の組成分析（定性・定量）：ワイドスキャン、ナロースキャン ■化学シフトによる結合状態評価：ナロースキャン、波形分離 ■イオンスパッタを使用した深さ方向の組成分析：デプスプロファイル ■X線を走査することにより面分析（マッピング）や線分析も可能 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
SEMでの高倍率観察中に試料の特定箇所をピンポイントで評価できるため、μmオーダーの微小領域分析が可能です。
電子顕微鏡（SEM）にて画像観察する際、電子線を物質に照射すると蛍光X線が発生します。 その中には元素固有の情報を持った特性Ｘ線が含まれています。 これを半導体検出器のようなエネルギー分散型検出器にて検出し、そのエネルギーと強度を測定すると、 物質を構成する元素を定性的に解析することが出来ます。 【特長】 ■定量分析が可能（バルク材料など） ■多元素同時測定が可能で分析時間が短い ■μmオーダーの微小領域分析が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄塗は2mm程、厚塗は4mm程を塗布！シリコーンコーキング材の分析例をご紹介
「ヘッドスペースGC/MS(HS-GC/MS)」による、硬化後の シリコーンコーキング材を分析した事例をご紹介します。 薄塗は2mm程、厚塗は4mm程を塗布。硬化させた後に200℃加熱し、 発生したガスを分析しました。 結果として、薄塗、厚塗問わず、ほぼ同強度でシロキサン由来の ピークを検出し、塗量に関わらず加熱時にシロキサン発生量には 差異がないことが確認できました。 【概要】 ＜内容＞ ■シリコーンコーキング材を硬化させた後に200℃加熱し、 発生したガスを分析 ＜結果＞ ■薄塗、厚塗問わず、ほぼ同強度でシロキサン由来のピークを検出 ■塗量に関わらず、加熱時にシロキサン発生量には差異がないことを確認 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
絶縁物の測定が可能！セラミック・ガラス等さまざまな材料に適用できます
「X線光電子分光法」は、試料表面(最表面～数nmの深さ)の 元素分析・化学状態分析を行う手法です。 絶縁物の測定が可能なため、金属・半導体・高分子・セラミック・ガラス等 さまざまな材料に適用可能。 表面分析の中でも多用されている手法の一つであり、材料の研究開発や 不良解析に利用されています。 【分析項目】 ■表面の組成分析(定性・定量)：ワイドスキャン、ナロースキャン ■化学シフトによる結合状態評価：ナロースキャン、波形分離 ■イオンスパッタを使用した深さ方向の組成分析：デプスプロファイル ■X線を走査することにより面分析(マッピング)や線分析も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
