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皮膜(半導体) - 企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年04月30日~2025年05月27日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

製品一覧

1~6 件を表示 / 全 6 件

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耐食性に特化したコーティング皮膜『TC5041』『5020』

蒸気浸透性がなく機械的強度に優れ、化学薬品や有機溶剤等の耐薬品性に優れたコーティング

『TC5041』『TC5020』は、化学薬品や有機溶剤に対し優れた耐久性を持ち合わせてる上、 蒸気浸透性がなく機械的強度に優れた耐食コーティングです。 主に化学工場における排気ダクト、純水タンクなどの液晶・半導体工場やタンク、パイプ等 に採用され、長期間に渡り稼働し続けています。

  • 塗料

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表面改質皮膜『ニムテック』

優れた低粘着性・離型性・撥水性・滑り特性!半導体搬送装置に有効な皮膜

『ニムテック』は、無電解ニッケルと同様の耐食性を有する表面改質皮膜です。 析出状態での皮膜硬度はHv270、熱処理(300℃・1時間)を施すことにより Hv450へと硬化します。 また、静・動摩擦係数が低い為、摺り合せ部位に用いられる部品等への応用が 期待できます。 【特長】 ■優れた低粘着性・離型性・撥水性・滑り特性 ■静・動摩擦係数が低い ■摺り合せ部位に用いられる部品等への応用が期待できる ■無電解ニッケルと同様の耐食性を有する ■析出状態では非磁性を示し、熱処理を施すことにより磁性を示す ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他

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艶消し黒色皮膜『マットブラック』

漆黒調の深みがあり、艶のない黒色皮膜です。 無光沢の黒色皮膜ですので、反射を抑制したい案件に最適です。

黒色皮膜『マットブラック』は艶の無い黒色皮膜で防錆力があり、耐磨耗性・密着性・耐薬品性に優れています。半導体の検査装置やカメラ検査機器へのご利用頂いております。 マットブラック皮膜の特徴​ アルミニウム、鉄系、銅合金、亜鉛合金、チタンなどに対応可能です。(その他材料はご相談ください) 1.反射防止に優れる。 2.つや消しの黒色皮膜が得られる。 3.耐食性に優れる。 4.電気絶縁体の皮膜 5.PFOS・PFOAフリー及びRoHS規制などの環境に対応しております。

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WCサーメット溶射皮膜 (耐摩耗・耐食性)

設備・部品の寿命延長!溶射で対策しませんか?

▶表面処理・溶射・コーティングならトーカロにお任せください! WC系サーメット溶射皮膜は耐摩耗性、耐食性に優れた溶射皮膜です。 電力、鉄鋼、自動車、産業機械等の基幹産業から半導体・液晶、宇宙開発、先端医療分野に至るまでの様々なフィールドで不可欠な物となっています。 【事例の一部をご紹介します!】 ●リチウムイオン電池・・・電極材製造装置部品、セパレータ・フィルム製造装置部品 ●水力発電装置・・・ランナ、ガイドベーン、ライナープレート ●製紙工場・・・プレスロール、カレンダーロール、ドライヤーロール ●鉄鋼・・・CGL用シンクロール、各種搬送ロール ●食品工場・・・モーノポンプ ●自動車産業・・・金型 ●原子力発電・・・各種ポンプ部品 ●樹脂フィルム工場・・・Tダイ、押出機スクリュー など

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特殊DLC皮膜『新タフコンダクター』

革新的な導電性!非汚染性が高く、ハンダ・アルミ等の汚れも軽減できます

『新タフコンダクター』は、導電性を飛躍的に高めた、当社オリジナルの 革新的な特殊DLC皮膜です。 当社従来品のタフコンダクターの抵抗値を、1/5以下に抑えることに成功。 タフコンダクター同様に非汚染性が高いため、ハンダ・アルミ等の汚れも 軽減でき、導電性の安定化が図れます。 【特長】 ■導電性・耐摩耗性・非汚染性(はんだ)を要求する、半導体プローブ等に好適 ■優れた導電性 ・タフコンダクターに比べ約1/5(抵抗率1×10^-3Ω・cm)の低抵抗率を実現 ■導電性と硬度の両立 ・革新的な導電性と、HV2000の硬度を持ち合わせ、より優れた性能を発揮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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大容量プラズマ溶射装置による高機能溶射皮膜

あらゆる基材に高機能を付与します!『低コスト化』・『短納期化』を実現

各種産業機械や液晶・半導体装置等の製品への耐熱性・断熱性の向上や反応防止等の機能付与を目的にプラズマ溶射が多く適用されています。 この溶射法は、ある熱源を用いて材料を溶融もしくは半溶融させた粒子を基材に吹き付けて皮膜を形成する表面改質法の一種ですが、生産効率の面から溶射装置の大容量化は非常に有利となります。 そこで、装置開発・適した溶射材料の選定や溶射条件の設定などから、溶射皮膜の品質向上及び生産性向上を目的に研究開発を行いました。 その結果、従来の一般的なプラズマ溶射装置に比べておよそ30倍の成膜速度を実現しました。 この大容量プラズマ溶射装置における溶射皮膜の研究開発により、溶射加工の高速化・生産性の向上によるコスト削減のみならず、溶射皮膜の気孔状態の制御が容易となり、基材へ高性能な機能を付与します。 【ポイント】 ○溶射効率を飛躍的に改善する大容量プラズマ溶射装置の開発がポイント ○独自の材料、装置、条件等の組合せによるオンリーワン制御技術 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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