昇温脱離分析法
真空タイプの昇温脱離装置を取り扱っており、様々な分野で利用可能！
『昇温脱離分析法』は、古くは触媒分野で酸点・塩基点を 評価するために使用されてきた方法です。 一旦、触媒の温度を高温まで上昇させ吸着しているガスを除去し、 その後NH3やCO2を吸着。 その触媒を、再度プログラミングした条件で昇温させることでNH3やCO2を 再離脱させ、その脱離量から酸点・塩基点を評価します。 【利用分野】 ■半導体分野において材料評価やプロセス設計支援 ■各種薄膜(撥水、光学、対摩耗、光触媒) ■構造材料(ガラスファイバ、真空部品、セラミックス) ■吸蔵材料(水素吸蔵)など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：電子科学株式会社
- 価格：応相談
