真空蒸着【試作から量産まで】
真空蒸着によるフッ素の表面処理の受託加工を試作から量産までお受けいたします。
カツラヤマテクノロジーの真空蒸着処理では膜厚10～20nmのフッ素薄膜を 金属やガラスに処理を行うことで基材表面に撥水性、撥油性、防汚性、離型性などの効果を付与させます。 効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。 [特徴] ・処理する膜厚が10～20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい ・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5) ・基材サイズ最大700mm□まで対応 ・無色透明の薄膜で光学部品にも光学影響を抑えることが出来る [主な採用実績] ・半導体封止用金型の離型処理 ・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理 ・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理 ・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理 ・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止)
- 企業：株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
- 価格：応相談
