更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
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バンドギャップの広さとスイッチングの速さ、オン抵抗が低いことも有利なポイント！
当社では「GaN基盤」の製造販売を行っております。 GaN(窒化ガリウム)という半導体を使用した基盤。青色発光ダイオードの 材料として世に広まりましたが、絶縁破壊電解強度や熱伝導率の高さが 注目され、近年では先進パワー半導体の材料として応用されています。 ご用命の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【基本仕様(一部)】 ■直径：Φ2"、Φ3"、Φ4"、Φ6" ■GaN膜厚：3μm、3.5μm、4μm、4.5μm、6μm、～100μm特別指定可能 ■結晶方位：C-axis(0001) ■導電タイプ：Un Dope、N-type、P-type ■XRD：(002)≦300arsec、(102)≦400arsec ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各種膜付ウェハ―を扱っております。 特殊加工ウェハーについてもご相談承ります。
取扱商品 ・各種膜付シリコンウエハー ・SOIウエハー ・厚み指定加工シリコンウエハー ・その他特殊加工シリコンウエハー
板厚3.0、5.0、6.0、8.0、10.0mmの溶融石英板は短納期可能。
透明石英ガラス板は耐熱性、化学特性に優れており、光の透過性が高いことから様々な用途で使用されております。 透明石英ガラス板には溶融石英と合成石英がありますが弊社では溶融石英の板厚3.0、5.0、6.0、8.0、10.0mmの物に関しては比較的短納期での納品が可能です。 下記のサイズで透明研磨した板を工場で通常用意していますので大きなサイズも短納期納品が対応可能です。（溶融石英板） 板厚3.0（公差±0.2）300X300mm 板厚5.0（公差±0.2）600X600mm 板厚6.0（公差±0.2）300X300mm 板厚8.0（公差±0.2）600X600mm 板厚10.0（公差±0.2）600X600mm
試作対応 少量対応 4～12inch対応 任意膜種 支給基板対応
セーレンKST株式会社では、自社で加工する酸化膜加工以外にも、協力会社などを通じて半導体製造プロセスに関わる研究開発用途の 各種成膜加工や各種膜付ウェハーをご提供しております。 ＜対応サイズ＞ 4inch~12inch ※あらゆる加工に対応いたしますが、ウェハーサイズによっては加工対応の可否がございますので、詳しくはお問い合わせください。
多様化するニーズにお応えする高品質シリコンウェハー製品
当社は、先進の技術を追求し半導体製造開発に必要不可欠な ベアウェハー、高品質薄膜ウェハー、ダミーウェハー、各種成膜ウェハー等を ご提供し、多様化するマーケットのニーズにお応えいたします。 また、ウェハー加工サービスや分析サービスも承っております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【各種ウェハー製品】 ■ベアウェハー ■加工成膜ウェハー ■テスト用TEG ■パターン付き300mmウェハー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
純度が高く耐薬品性に優れたウールです。
石英ガラスウールは石英ガラスの持つ特徴を活かして、その利用範囲は化学の発展に伴いますます拡大され注目されています。 透明石英ガラスを原料とした石英ガラスウールは、微細な繊維から成り、他のウールに比べて繊維の太さが均一で、極めて純度が高く、耐薬品性に優れています。 ファインとコースと２種類ございます。
石英硝子ウールは石英硝子の持つ特徴を活かして、その利用範囲は科学の発展に伴いますます注目されています。
材質的には透明硝子と全く同じです。 フッ化水素酸、燐酸以外の酸には殆んど侵されませんが、アルカリ性塩類や一部の金属には高温でかなり侵されます。 非常に細く表面積が大きくなりますので、普通の石英硝子より耐熱性が劣ります。
少数ロットでのご案内も可能ですので、ぜひご相談ください！
当社では、多種多様なニーズにマッチする『シリコンウエハー』を 供給いたします。 低抵抗品、高平坦度品等の「ベアウエハー」をはじめ、「石英製品」や 「SiCウエハー」などをラインアップ。 「ウエハー加工」も少数枚からニーズに合わせて承ります。 また、デバイスメーカー/装置メーカー様向けのご提案も行っております。 【ウエハー加工】 ■再生受託加工 ■成膜受託加工 ■ザグリ受託加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
12インチSi両面研磨ウェハー Φ300mmシリコン基板 厚み775±25um P型＜100＞ 1-100Ω・cm 両面ミラー
品質：パーティクル管理有（0.2um30個以下） 製造：日本製（Made in Japan） 納期：1-2週間
洗浄のことならお任せ下さい！
当社では、環境面へ配慮した洗浄方法として『ドライ方式洗浄』を採用しております。 大量の廃液を発生させるウェット洗浄への依存を低減させ、品質・納期・コスト・安全面の向上を図っております。ドライ方式の場合、洗浄によるパーツ消耗は殆ど起きません。
パーティクル管理品ウエハー、ダミーミラーウェハーなどのシリコンウェハーをご用意！
当社では、エスエヌケー社の製品を取り扱っております。 SiC基盤(6インチなど)・GaAs・GaN・Ga2o3・Ga2o3Epi・InPウェハー など、サイズ：2～4インチその他のインチもラインアップ。 また、熱酸化膜・SiN・各種金属膜のほか、ポーラスシリコン加工にも 対応しております。 【ラインアップ】 ■シリコンウェハー ■シリコンウェハー以外の各種基盤 ■各種成膜加工 ■各種ウェハー加工 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
単結晶金属薄膜により特性が向上します
Gaianixx独自の多能性中間膜により、シリコン基板上に高品質な白金薄膜をエピタキシャル成長させ、(100) 単一配向の単結晶薄膜を実現しました。単結晶体は多結晶体と比較して、粒界がないことで電気的な欠陥が少なくなるため、電気抵抗が低く電気伝導性が高くなります。そのため半導体や電子デバイスの性能向上に寄与することが期待されます。白金薄膜は各種デバイスの下部電極として用いられるほか、温度センサなどにも応用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い熱伝導率で素早く、ムラなく加熱できる！多孔質性がエネルギーを最大限に生かします
『カーボン』は、遠赤外線放射性を持ち、加熱するほど波動が増加します。 遠赤外線波動は、食材に含まれる水分子と反応し凝縮された旨みや栄養素を 閉じ込めるため、冷めても美味しさが損なわれにくいという効果があります。 優れた特性により調理器だけでなく半導体、電子力、機械、電機、美容など 様々な産業で使用されています。 【カーボンの特長】 ■熱伝導性、蓄熱性に優れており素早く、均一に加熱できる ■遠赤外線効果により食材の表面を一気に焼き上げ、旨みを外部に逃がさない ■多孔質性がエネルギーを最大限に生かす ■切削加工のため意匠性に優れている ■電機低効率が優れており、IHでも使用できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
徹底した品質管理のもと、高品質ウエーハを提供いたします！
当社では、ダミー用、モニター用、ソーラー用のシリコン（Si）ウエーハを 徹底した品質管理のもと、高品質でご提供します。 2インチから12インチφに対応し、特殊サイズも可能です。素材及び加工を 安価・短納期にて販売します。 また、熱酸化膜加工も承ります。 各種（PVD、CVD装置による）膜付ウエーハもお問合せください。 【特長】 ■2インチ～12インチφ対応 ■少量でも対応可 ■徹底した品質管理のもと、高品質ウエーハを提供 ■素材及び加工を安価・短納期にて販売 ■熱酸化膜加工も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウエハやサファイア、ゲルマニウム、化合物半導体も対応可能。
弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウエハ・ダミーウエハ、太陽電池用単結晶シリコンウエハ・太陽電池用多結晶ウエハ・ＳＯＩウエハ・拡散ウエハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウエハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウエハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウエハへの加工なども対応可能です。 ＣＺウェーハ以外にも高抵抗ＦＺウエハも４インチ以下から８インチまで、抵抗値は数オームから １万オーム以上に対応可能です。 サファイア、ゲルマニウム、化合物半導体、多結晶シリコンなども取り扱っております。 詳しくはお問い合わせ下さい。
