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【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位置決めステージ
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ
【精密位置決め装置】5nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-611との組み合わせ
【エンコーダ内蔵】10nm分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して位置検出誤差を少なくし、コントローラへ位置情報をフィードバックすることで高い分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 100mm 』となっております。 動作範囲が長いため移動と位置決めがこのステージ1台で行えます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
光学式リニアスケール！ナノメートル分解能で位置決めをするシステム
フィードバックとはクローズドループ制御により、リニアスケールからの位置情報を監視し、位置決めの再現性を上げるシステムのことをいいます。 リニアスケールとステージ、及びコントローラによってフィードバックステージシステムが構成されています。 選定ガイドでは、お客様の仕様に合わせて、「動作タイプ」「分解能」「ストローク」の3つのポイントでのステージ選定方法をご紹介しております。 【フィードバックステージコントローラの特徴】 ○フルクローズドループ制御 ○モータードライバ内蔵 ○各種エラー検出機能 ○通信はRS-232C規格/ GPIB 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1020SPX(MD) 高速度タイプはFS-1020UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 高トルクタイプはFS-1040SPX(MD) 高速度タイプはFS-1040UPX となっております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-911との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。
【真空で使える】エンコーダ内蔵の高分解能位置決めステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。 40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ
内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。（コントローラによって変わります）
真空中で使用可能！回転方向調整用ステージ
光学式リニアエンコーダを内蔵しており、ステージの可動部分の位置を検出することができるため、その位置情報をもとにコントローラが降るクローズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。 分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で 動作させることができます。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
