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高い洗浄性と安全性を兼ね備えた地球にやさしい洗浄剤！ 半導体、電子部品、電子基板のフラックス洗浄の決定版！
『パインアルファシリーズ』は、半導体、電子部品、電子基板用のフラックス洗浄です。 フラックス・油脂等に対する高い溶解除去能力はもちろんのこと、すすぎ性や分散性にも優れているため、汚れの再付着を防止します。 また、溶解性すすぎ性劣化が少なく長寿命な上、RoHS規制、REACH規制等をクリアし、環境・人体にも優しい製品です。 【特長】 ■高い洗浄性 ■安全性 ■優れたすすぎ性 ■長い液寿命 ■分散性 ■変色防止 ★サンプル配布も可能です。ご希望の方は、下記「お問い合わせ」より お申し込み下さい。 ◎詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
狭ギャップの洗浄性やパーティクル除去性に優れる！環境に配慮しており低VOCで非危険物
『マイクロクリン EC-8100／マークレス ECO-R81』は、高密度実装に不可欠な フラックス洗浄システム「マイクロクリーナー」の洗浄剤とリンス剤です。 新発想の洗浄メカニズムにより、50μm以下の狭ギャップ内のフラックスも 洗浄可能。除去が難しかった微小はんだボール、皮脂、微粒子など パーティクルの除去性にも優れています。 成分の約70%が水で構成されており、乾燥工程や揮発によるVOCの排出量を 削減できます。 また、引火点が無く消防法の危険物に非該当で国連危険物輸送勧告にも 該当しないため国際輸送時も通常品として輸送可能です。 【特長】 ■狭ギャップの洗浄性やパーティクル除去性に優れる ■環境に配慮しており低VOCで非危険物 ■装置内で連続蒸留再生され、液交換はほぼ不要（マークレス ECO-R81） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックス残渣を除去しないとどういった問題が起こるのか！
フラックスを洗浄する目的・理由は、電気的及び物理的トラブルの 発生を防止することです。 フラックス残渣のイオン性成分が高湿下でイオンマイグレーションを 引き起こし、電極間に金属が析出することでショートすることがあります。 また、高温・高湿下でハロゲンイオンが存在すると、ハロゲン化合物を 生成しボロボロになって崩壊。 そのほか、フラックス残渣がコネクタなどの接点部に付着した場合、 接続不良を引き起こすことなどもございます。 【防止するトラブル(一部)】 ■絶縁信頼性の低下 ■腐食 ■接続不良 ■はんだボール(ソルダボール)の残存によるリークやショート ■ワイヤーボンディングの接合強度低下 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1液で洗浄・乾燥が行え、蒸留再生によるリサイクルが可能で、 低ランニングコストを実現、コストにも優しい洗浄剤です。
MKシリーズ MK−1、MK−2、 MK−5、MK−7、MK-30は、炭化水素とグリコールエーテルで構成された高溶解力タイプの洗浄剤です。
プリント基板（パワーモジュール・パワーLED・フリップチップ等）の洗浄に適したpH中性！材料適合性に優れています。
VIGON N 600 は中性水系フラックス洗浄剤です。 インライン・バッチ式スプレー、浸漬方式用として開発されました。 中性でなおかつ優れた洗浄性と基板から幅広い種類のフラックス残渣を除去する能力は今までにない洗浄剤です。 また中性であるため、本洗浄剤は感作性の高い金属やポリマーに対して高い材料適合性を持ち合わせています。 【特長】 ■pH中性のため、優れた材料適合性 ■各種のフラックスに対して優れた洗浄性 ■フィルターによりフラックスを系外へ排出・長い液寿命 ■低VOC、環境対応型洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
超音波・噴流装置向け水系フラックス洗浄剤。優れた洗浄性・環境対応型！
VIGON US は、特に超音波や噴流、遠心分離洗浄装置向けの水系洗浄剤です。 電子基板やフリップチップ、CMOSからのすべてのタイプのフラックス残渣を除去します。 【特長】 ■超音波・噴流で優れたフラックス洗浄性能 ■水系のため低VOCで環境対応 ■フリップチップ・BGA洗浄に実績あり ■フラックス分離除去性能のため洗浄液の長寿命化 ■引火点なし、高い作業安全性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
引火点がなく安全、低VOCで環境に良い！液寿命が長く、洗浄性が安定した水系フラックス洗浄剤
ATRON SP 200は水系のアルカリ界面活性剤系洗浄剤で、パレットやフラックス回収装置向けに焼き付いたフラックス除去用として開発されたものです。 メタルマスクからクリーム半田を除去することも可能です。 スプレー、超音波、エアーバブリング装置などの使用に適しています。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に最適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間などの削減、洗浄性能の安定化 ■低揮発性・低臭気による労働環境の改善 ■水系のため引火性がなく、作業安全性の改善 ■低VOCのため、地球環境保全への貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリート向け。洗浄・リンスを一液で可能なので、工程管理が簡単！
ZESTRON VD は溶剤系洗浄剤です。 クローズド方式の一層式真空洗浄機において、電子部品やセラミック複合基板、リードフレームベースのディスクリートからフラックスの残渣を取り除くことができます。 【特長】 ■溶剤系、幅広い種類のフラックスに対し優れた洗浄性 ■蒸留再生が可能、1チャンバー式真空蒸留・蒸気リンス工程に対応 ■1液にて浸漬洗浄・リンスも可能 ■界面活性剤非含有 ■塩素・フッ素・臭素などのハロゲン化合物の含有なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
洗浄剤の違いや洗浄方法の検討方法など、今さら聞けないフラックス洗浄の基本をわかりやすく解説！
当資料では、フラックス洗浄を検討する上で重要な、 洗浄剤や洗浄方式などの種類や選定方法を解説しています。 「フラックス洗浄方法を検討する上でのポイント」をはじめ、 「洗浄・リンス工程の検討」、「乾燥工程の検討」を掲載しており、 フラックス洗浄の基礎が分かります。 フラックス洗浄剤を切り替えたい、もしくはフラックス洗浄を これから始めたい人にとって参考になる一冊です。 【掲載内容】 ■フラックス洗浄とは？ ■洗浄剤の種類と選定方法 ・水系洗浄剤 ・溶剤系洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
岐路に立つエレクトロニクスの世界！イオン残渣の課題と分析方法を具体事例を使って解説！
当資料は、イオン残渣の課題と分析方法について解説しております。 難解であるテーマ「イオン」に関してフォーカスし、 現状どのような課題があるのかをご紹介。 イオン残渣の要因をはじめ、フラックス洗浄の意義、 具体事例などを図や詳しい解説とともに掲載しておりますので、 是非ダウンロードしてご覧ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■そもそもイオンとは ■イオン残渣の要因 ■フラックス洗浄の意義 ■具体事例 ■有機溶剤を主体とした洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックス洗浄技術も進化が問われている！どのような点が問題となっているかなどを掲載
当資料は、高機能化製品におけるフラックス洗浄ついて解説しております。 実際に洗浄プロセスを構築しようとした場合、どのような点が 問題となっているのか、歴史的な背景も踏まえてご紹介。 難溶性物質への対応力やソルダリングの洗浄の今後についてなどを 画像や図、詳しい解説を交えて掲載しておりますので、 是非ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■はじめに ■「洗浄」への認識 日本は特殊な環境 ■難溶性物質の台頭 ■難溶性物質への対応力(MPC洗浄剤) ■ソルダリングの洗浄の今後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低スタンドオフ部品の洗浄にも好適！防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能
『VIGON A 200』は、インラインやバッチ装置のような、高圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームから除去することが可能。 ワイヤボンディングやコーティングなどの次の工程に向け、 高い清浄度要求を満たすことができます。 【特長】 ■ワイヤボンディング・コーティング工程に対して高い清浄度を保つ ■界面活性剤を含まずとリンス性に優れているため、表面に残渣を残さない ■簡単に濾過できるため、液寿命が延び、洗浄剤コストを削減 ■引火点がなく、そのため防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能 ■高圧スプレー用途でも泡立ちしない ■ハロゲンフリーで低臭気 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
引火点なし！効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間保護
『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディングの 作業向上をはかるため、銅基板の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■パワーエレクトロニクスとパワーモジュールのフラックス洗浄に優れる ■接着ボンディングなど向けに、表面活性化された銅基板を提供 ■pH中性で、ダイとの材料適合性に優れ、パッシベーションを痛めない ■引火点や泡立ちがなく、そのため防爆仕様なしでスプレー洗浄機に適合 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックス洗浄にお悩みの方必見！フラックス洗浄のカギは“洗浄剤の選定”にあり！
当資料は、フラックス洗浄剤の選び方を解説しております。 フラックス洗浄剤を選ぶ時のポイントについて、具体的な例を挙げ どのような観点に着目するべきなのかをご紹介。 蒸発損失の制御や水の含有量の増減など水系洗浄剤検討時に 気を付けるべき点や、無洗浄タイプのフラックス洗浄事例なども 掲載しておりますので、是非ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■フラックス洗浄剤を選ぶ時のポイント ■フラックス洗浄剤の種類 ■水系洗浄剤検討時に気を付けるべき点 ■無洗浄タイプのフラックス洗浄事例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最新の清浄度分析手法やフラックス洗浄剤使用における付加価値について解説！
当資料では、フラックス洗浄における評価手法/付加価値について 詳しく解説しております。 「フラックス洗浄における清浄度分析」をはじめ、「分析対象となる物質」や 「有機物残渣の残留時の影響」、「イオンの混入経路と影響」をご紹介。 また、ゼストロンの会社紹介や分析手法例も掲載しております。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■ゼストロンの会社紹介 ■フラックス洗浄における清浄度分析 ■分析対象となる物質(フラックス残渣) ■分析対象となる物質(シンター接合時の残渣) ■有機物残渣の残留時の影響 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
