更新日： 集計期間:2026年09月16日～2026年10月13日
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大量生産のコストに厳しいOEMプロジェクト向けMFCをご紹介！
『SFC5300』は、優れた精度、長期安定性、再現性で質量流量を測定 および制御することができるマスフローコントローラーです。 コンパクトなサイズにもかかわらず広いダイナミックレンジで測定でき、 本体ボディーは金属製。 また、当製品の流体接続にはダウンマウント接続を、インターフェースには 2つのデジタルインターフェイスを用意しています。 【仕様(一部)】 ■フルスケール流量：1, 2, 5 and 10 slm ■フルスケール流量：50, 100, 200 and 500 sccm ■精度：0.2％FS or 2％ SP ■最高使用圧力：10 bar ■キャリブレーション：Air,O2,N2,Ar,CO2,He,H2,CH4,N2O,SF6 and C4F8 flow ■流体コネクタポート：Downmount ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ガスフローの精密制御において当社が歩んできた20年間の実績の集大成！
『SFC5500-0.5slm』は、複数のガス校正と交換可能な継手を組み合わせた マスフローコントローラーです。 当製品は、マイクロサーマル測定原理に基づいており、当社の実績のある CMOSens MEMS技術を活用。 また、市場に出ている他製品とは異なり、ドリフトすることがなく、 市場で再校正する必要がありません。 【仕様(一部)】 ■フルスケール流量：0.5slm ■フルスケール流量：500sccm ■精度：0.08％ FS or 0.8％ SP ■最高使用圧力：5bar ■キャリブレーション：Air,O2,N2,Ar,CO2,He,H2,CH4 and N2O flow ■流体コネクタポート：Legris ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
流量センサ、バイパス、バルブ、電気回路で構成！幅広い分野で使用されています
当製品は、流体の体積または質量流量を測定して流量を制御する機器です。 主に流量センサ、バイパス、バルブ、電気回路で構成。精度が高く、 様々なガスに対応し必要な流量設定を行うことができるため、化学工場、 半導体工場、宇宙関係など、幅広い分野で使用されています。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【種類】 ■体積流量計 ■質量流量計 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
RS485通信機能あり！コンパクト設計のデジタルマスフローコントローラ/メータ
『MODEL EX-250S SERIES』は、ロータリースイッチによるガス種の切替が できる小型デジタルマスフローコントローラ/メータです。 RS485通信機能を有し、アナログ入出力0-5VDC/4-20mAや電源±15VDC/24VDCを 選択可能。全流量制御範囲は応答1sec以内となっております。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【特長】 ■対象流体：気体 N2、Air、H2、He、Ar、O2、CO2等 ■最大流量：気体 5SCCM～10SLM ■精度：±1％F.S. ■コンパクト設計 ■ロータリースイッチによるガス種切替可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
N2、Air、H2等が対象！メタルシールデジタルマスフローコントローラ/メータのご紹介
『MODEL EX-550 SERIES』は、ロータリースイッチによるガス種切替が 可能なメタルシールデジタルマスフローコントローラ/メータです。 S.P.精度で高精度な計測ができ、全流量制御範囲は応答1sec以内。 RS485通信機能を有し、アナログ入出力0-5VDC/4-20mAや電源±15VDC/ 24VDCを選択いただけます。 【特長】 ■対象流体：気体 N2、Air、H2、He、Ar、O2、CO2等 ■最大流量：10SCCM～5SLM ■精度：±1％S.P.（25～100％F.S.）、±0.25％F.S.（～25％F.S.） ■S.P.精度で高精度な計測が可能 ■ロータリースイッチによるガス種切替可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
温度や圧力の影響を受けにくく、高精度な流量の計測や制御が可能！ N2、Air、H2、He、Arなどの気体が対象。
当社で取り扱うマスフローコントローラ『MODEL 8700/3660 SERIES』をご紹介します。 表示器付マスフローコントローラ/メータ「MODEL 8700 SERIES」は、 アナログ入出力0-5VDC（4-20mAに変更可能）を有し、 各種機能（瞬時/積算流量表示、アラーム設定）を使用可能です。 スタンダードマスフローコントローラ「MODEL 3660 SERIES」は、 N2換算でF.S.10SCCMからF.S.100SLMまで幅広い流量レンジに対応します。 【特長】 ■対象流体：気体 N2、Air、H2、He、Ar、O2、CO2等 ■最大流量：気体 10SCCM～100SLM ■精度：±1～1.5％F.S. ■幅広い流量レンジに対応（N2換算でF.S.10SCCMからF.S.100SLMまで） ■アナログ入出力は表示器にて変更可能（MODEL 8700 SERIES） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スピード重視のフロープロセス向けの超高速応答！幅広い種類の非腐食性ガスに適しています
『4800シリーズ』は、応答時間が向上するに従って、プロセスの効率と生産性 も向上するエラストマシールサーマル式マスフローコントローラ/メータです。 高度なMEMS式サーマルセンサは、コントロールバルブへの応答に最適化された 専用のPIDアルゴリズムを搭載し、セットポイントを任意に変更した場合でも、 当製品は実流量を高速で追従させることができます。 【特長】 ■流量応答時間（セトリングタイム） 0.75秒以下 ■革新的MEMSセンサおよび専用PIDアルゴリズム ■通常のサーマル式MFCの半分で、コンパクトなサイズ ■RS-232によるデジタル対応 ■オプションのローカルオペレーターインターフェース（LOI）で セットアップと操作を合理化 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
国産技術でProduct Portfolioを構築します！マスフロートータルソリューションの提供
『ARI7000s』は、独自のセンサー技術に基づいて製作され、液体の流れを精密にコントロールする国内開発の液体および前駆体MFCです。 当製品は、独自の液体センサーやバルブ開発、気化器連動型バルブ開発技術を保有しております。これにより、多様な前駆体別の開発や量産への対応を実現します。 【特長】 ■独自のセンサー技術に基づいた製作 ■多様な前駆体別の開発・量産に対応 ■液体の流れをコントロール ■液体センサーやバルブ、気化器連動型バルブの開発技術 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
最大動作圧力は320PSIA(2.2MPaA)。耐圧は400PSIA(2.7MPaA)。混合ガスにも対応！納期6-8週間。
『MC/MCP/MCRシリーズ』は、1台で98種類の多種多様なガスに対応できるALICAT社(アリキャット)製の高圧タイプのマスフローコントローラーです。 ラミナーフロー方式（差圧式）により高速応答を実現。 精度の高い差圧センサーを搭載し、正確な流量を計測します。 この他に、腐食性ガス／冷媒ガスを含め128種類のガスに対応した 「MCHQS／MCRQSシリーズ」などのラインアップをご用意しています。 【特長】 ■100msの制御応答 ■±（0.8% RD + 0.2% FS）の高い流量精度 ■0.5SCCMから5000SLPMまでラインアップ ■アナログ出力、RS 232C通信を標準搭載 ■混合ガスにも対応 ■バックライト付き液晶表示器を標準搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【ポンプシステム 事例2】超臨界ガス計測と制御
超臨界付近の流体；炭酸ガス(CO2)やエチレン(C2H4)等の計測は容易ではありません。 例えば炭酸ガスCO2は温度が20℃以上、圧力が約30baraぐらいになりますと臨海域にはいります。 このような条件では、温度、圧力変化の結果として物理特性；密度や比熱が急激に変化します。 従って、これらの流体をサーマル式で計測するのは非常に困難になります。 「Mini CORI-FLOW(R)」は物理的特性に関係なく真のマスフロー計測ですので、これらの問題を一気に解決してくれます。 【適用例】 ○流体がガス状、液状又はそれらの端境であっても、分子そのものの質量を計測 ○この測定原理は高精密で安定測定を提供してくれることをフィールドで認証済み 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
非常に小さな差圧で計測し、圧力損失が非常に小さく、低圧で使用する環境に最適なマスフローコントローラー。
『MCW/MCRWシリーズ』は、非常に小さな差圧で計測が可能なため、圧力損失も非常に小さく、低圧でご使用される環境に最適なALICAT(アリキャット)社製のマスフローコントローラーです。 ラミナーフロー方式（差圧式）により高速応答を実現。 精度の高い差圧センサーを搭載し、正確な流量を計測します。 この他に、腐食性ガス／冷媒ガスを含め128種類のガスに対応した「MCS/MCRSシリーズ」、などもラインアップしています。 【特長】 ■100msの制御応答 ■±（0.8% RD + 0.2% FS）の高い流量精度 ■0.5SCCMから1000SLPMまでラインアップ ■アナログ出力、RS 232C通信を標準搭載 ■混合ガスにも対応 ■バックライト付き液晶表示器を標準搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高圧ガス保安協会（KHK）の認証取得。都道府県の完成検査の手続きを簡略化。国内防爆（JPEx）の型式検定合格証も取得
サーマルマスフローコントローラ／メータ『SLA5800シリーズ』は、 カーボンニュートラルの研究開発に役立つ、ガスの制御・測定機能を備え、 水素・メタン・LNG・二酸化炭素・アンモニアなどの気体に対応した製品です。 「SLA5850 マスフローコントローラ ノーマルクローズバルブ」は、 高圧ガス保安協会（KHK）の認証を取得しており、 都道府県での完成検査が認定証の提出のみで済むため、 非常にスムーズな導入が可能になります。（フローメータでの対応も可能） 【特長】 ■DEKRAより、国内防爆（JPEx）の型式検定合格証を取得済 （対応品：マスフローコントローラ／メータ、プレッシャーコントローラ） ■化学・石油化学・燃料電池・ライフサイエンスなどの分野でも活躍 ■広範囲をカバーする流量レンジ ■1台で複数のガス・流量レンジに対応可能 ※詳しくはカタログをご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
0.3秒以内の高速応答！設定流量の変更が多い装置に！圧力レンジも広範囲に対応(0.01～1.0MPa)
産業用マスフローコントローラはビュルケルト！ 半導体業界向けのマスフローとは異なる、多様な仕様を必要とする産業へ向けた、他社とは一線を画した各種スペックを誇るマスフローです。 応答速度以外にも 【ビュルケルトの産業用マスフローは】 ●高圧対応 → ～1.0 MPa ●最低必要差圧 → 10kPaでＯＫ ●大流量 → 2500Nl/min (窒素換算) を一台で制御可能 ●暖気運転 → 1分でＯＫ ●タイトシャット可能 → 電磁弁の費用とスペースを削減 【さらにIoT世代のマスフローとして】 ●各種通信規格に対応 EtherCAT EtherNet/IP Modbus/TCP PROFINET
すべてを可能にするMFC
超高速応答時間と高レベルな清浄度を備えた『GF125シリーズ』は、第二世代の多変量計測、PTI（圧力変動耐性）メタルシールマスフローコントローラです。圧力と温度の変動によるプロセスガス流量の変動を最小限に抑制します。標準のMultiFlo テクノロジーにより、ガスラインから切り離したり、精度を犠牲にすることなく、数千種類ものガスタイプとレンジの組み合わせをサポートします。 その結果、 収率と生産性を最大限に拡張する業界最高のPTI性能とともに、各ポイントの圧力レギュレータ、圧力トランスデューサ、関連するハードウェア設置の必要性を減らすことにより、ガスパネルのサイズとコストを縮小します。 【特長】 ■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下 ■セトリングタイム：300 ms - 700 ms以下 ■フルスケール流量レート 最大300 slpm ■メタルシール流路：4µ インチ Raの表面仕上げ ■SEMI F20準拠接ガス･接液部材質 ■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサ など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問合せください。
EP処理により優れた耐腐食性とリーク特性を確保！優れた流量安定性を発揮する圧力非依存MFC
『MARU7000s』は、優れた耐腐食性とリーク特性を確保し、高い流量安定性を発揮するサーマル + 圧力センサーベースのMFCです。 当製品は、EP処理を施すことにより高い耐腐食性とリーク特性を実現。さらにPI機能により優れた流量安定性を発揮し、優秀なクロストークコントロールを可能にします。圧力不感性の特長（圧力非依存）を有しており、バルブタイプは中・大流量に適合するSolenoid Valve、または小・重流量に適合するPiezo Valveから選択可能です。国産技術で構築されたプロダクトポートフォリオとして、半導体やディスプレイ、一般産業など様々な分野へマスフロートータルソリューションを提供します。 【特長】 ■EP処理で耐腐食性とLeakに優れる ■PI機能で流量安定性に優れる ■クロストークコントロール優秀 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
国内防爆認証(JPEx)を正式取得！厳しい環境にも対応する耐久性！優れた精度を実現する精密マスフローコントロール！
粉塵、湿度、極端な温度、水分など、どんな厳しい条件でも、『SLAMfシリーズ』エラストマシールサーマル式マスフローコントローラ/メータなら、 実証済みの「SLA5800ファミリ」ならではの高い精度と長期安定性を実現します。 特殊設計のNEMA4X/IP66規格筐体により、高度なデジタル電子部品を保護し、プロセスに不可欠なガス/流体マスフローの安定した正確な測定と制御を行います。 防塵防爆エンクロージャー仕様のSLAMFシリーズは、国内防爆認証(JPEx) 安全増防爆（MFC型式検定合格番号: DEK24.0048X、MFM型式検定合格番号: DEK24.0049X）を正式に取得したことで、Zone2エリアへの導入・使用が可能となりました。 【特長】 ■NEMA4X / IP66級の高耐久性筐体 ■幅広い定格流量 - 0.003から20800 slpm ■幅広い温度と圧力条件に対応 ■優れた精度を実現 ■設定可能なマルチガス/マルチレンジ機能 ※詳しくはPDFをダウンロード頂くか直接お問い合わせください。
装置や工程のスループット増加に貢献する、大流量、高圧マスフローコントローラ(MFC)
大流量、高圧仕様のマスフローコントローラはビュルケルト！ 業界内にあるマスフローコントローラはある程度、仕様が固まっているものが多いなか、お客様においては、「もっと流量を出したい」、「減圧せずに流したい」、などのさまざまご要望があることを、近年の活動で知り得ました。 【ビュルケルトの産業用マスフローは】 ●大流量 → ～2500Nl/min (窒素換算) を一台で制御可能 ●高圧仕様 → ～1.0MPaまで対応 また ●低差圧仕様 → 5KPaから対応 ●タイトシャット可能 → 別置き電磁弁の費用とスペースを削減 ●応答速度 → 300msec～ ●暖機運転 → 1min 【さらにIoT世代のマスフローとして】 ●各種通信規格に対応 EtherCAT、EtherNet/IP、 Modbus/TCP、 PROFINETなど各種通信に対応
最高の性能を最大限に引き出すGP200 金属密閉型マスフローコントローラ
研究機関における各種実験では、流量制御の精度がデータの信頼性を大きく左右します。特に微小流量領域においては、わずかな変動が測定結果のばらつきや再現性低下の要因となります。 GP200シリーズ マスフローコントローラは、差圧センサー技術を採用し、優れた応答性と高精度制御を実現。安定した流量供給により、実験データの信頼性向上と再現性の確保に貢献します。 【導入メリット】 ・高精度制御による実験データの信頼性向上 ・再現性の高い測定環境の構築 ・安定した流量供給による実験効率の向上
微少流量を高精度に制御し、ガス混合プロセスの安定化と品質向上に貢献
Quantim QMC コリオリ式マスフローコントローラは、微少流量の気体・液体を高精度かつ安定して測定・制御。真の質量流量測定により、ガス混合プロセスの最適化と安定運用に貢献します。 【課題解決】 ・微少流量領域での高精度なガス混合制御 ・ガス混合比率のばらつき低減 ・パイロットプラントから量産へのスムーズなスケールアップ ・エネルギー効率改善に向けた流量最適化 ・再現性の高い流量測定・制御環境の構築 ************************* 2026NEW環境展（東京ビッグサイト）に出展いたします！ ************************* 会期：2026年5月20日（水）～5月22日（金） 時間：10:00～17:00（最終日は16:00まで） 会場：東京ビッグサイト 東展示棟 ブース：R811（東8ホール） ※日本測器株式会社様ブース内にて出展 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 *************************
圧力ベースMFCで成膜プロセスの安定化と歩留まり向上を実現
半導体製造における成膜プロセスでは、ガス流量のわずかな変動が膜厚や膜質に大きな影響を与えます。特にCVD・PVD・ALD工程では、高精度かつ再現性の高い流量制御が、デバイス性能と歩留まりを左右する重要な要素です。GP200シリーズは、差圧センサーと最適化されたコントロールバルブ設計により、高精度な流量計測と優れた再現性を実現。安定したプロセス制御を支援し、高品質な薄膜形成に貢献します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長）プロセス ・PVD（物理気相成長）プロセス ・ALD（原子層堆積）プロセス 【導入メリット】 ・膜厚均一性の向上 ・組成制御精度の向上 ・プロセス安定化による歩留まり改善 ・ガス供給の再現性向上
精密マスフローコントローラ。混合プロセスの精度を高め、医薬品品質の安定化に貢献。
医薬品製造において、混合プロセスのわずかな流量変動が製品の有効性や安全性に影響を及ぼします。そのため、ガス流量の高精度かつ安定した制御が不可欠です。 SLAMfシリーズ マスフローコントローラは、高精度制御と優れた長期安定性により、配合バランスの最適化を実現。製造から研究開発まで、幅広い工程において品質の一貫性向上を支援します。 【活用シーン】 ・ 医薬品製造におけるガス混合・供給制御 ・ 研究開発における精密ガス混合 ・ 品質管理工程での流量測定・モニタリング 【導入メリット】 ・ 混合精度の向上による製品品質の安定化 ・ 再現性の高いプロセス制御の実現 ・ 製造効率の向上とロス低減
ガスの精密制御で、研究開発を加速。KHK認証取得で手続きもスムーズ。
研究機関における各種実験では、ガスの流量および圧力を正確に制御・測定できるかどうかが、実験結果の信頼性と再現性を大きく左右します。特に、カーボンニュートラル関連研究をはじめ、水素、メタン、LNG、二酸化炭素、アンモニアなどのガスを扱う実験においては、わずかな制御誤差が結果のばらつきや評価の不確実性につながる可能性があります。 不正確なガス制御は、実験条件の再現性を損ない、検証作業の増加や研究スケジュールの遅延を招く要因となります。 SLA5800シリーズは、こうした研究現場の課題に対応するため、高精度かつ安定したガス流量制御・測定性能を提供。実験条件の再現性向上とデータの信頼性確保を通じて、研究開発を強力にサポートします。 また、幅広いガス種に対応可能な設計により、基礎研究から応用研究、評価試験まで、多様な研究テーマに柔軟に対応できるマスフローコントローラとして活躍します。 【活用シーン】 ・ガス分析 ・反応実験 ・材料合成 ・燃料電池の研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究効率の向上 ・高圧ガス関連の手続き簡素化
微少流量を高精度に測定・制御し、排出ガス測定の信頼性向上に貢献
Quantim QMC コリオリ式マスフローコントローラは、気体・液体の微少流量を高精度かつ安定して測定・制御。真の質量流量測定により、環境モニタリングや排出ガス分析の高精度化に貢献します。 【排出ガス測定の課題解決に】 ・微少流量の気体・液体の高精度測定 ・排出ガス測定データの信頼性向上 ・環境規制・排出基準への対応強化 ・流量ばらつきによる測定誤差の低減 ・気体・液体の両方に対応した高精度制御 ・半導体・化学・研究用途における安定した微少流量管理 ・真空プロセス・精密コーティング工程の流量管理改善 ************************* 2026NEW環境展（東京ビッグサイト）に出展いたします！ ************************* 会期：2026年5月20日（水）～5月22日（金） 時間：10:00～17:00（最終日は16:00まで） 会場：東京ビッグサイト 東展示棟 ブース：R811（東8ホール） ※日本測器株式会社様ブース内にて出展 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 *************************
高圧ガス保安協会（KHK）認証取得。熱処理工程のガス制御に。
金属熱処理業界では、製品品質を左右する熱処理工程において、ガスの流量を正確かつ安定的に制御することが不可欠です。特に、熱処理炉内の雰囲気ガスは、製品の硬度や強度に直接影響を及ぼすため、適切な流量管理が不良品の発生抑制につながります。 SLA5800シリーズは、熱処理工程で使用される多様なガスに対応し、雰囲気制御に求められる高い再現性と安定性を実現します。また、専用のBESTソフトウェアの機能により、スムーズな設備導入をサポートします。 また、エラストマーシール構造を採用することで、コストと耐久性のバランスに優れた設計を実現。長期運用における保守負荷の低減にも貢献し、熱処理設備の安定稼働を支えます。 【活用シーン】 ・熱処理炉へのガス供給 ・雰囲気ガスの流量制御 ・高精度な温度管理 【導入の効果】 ・熱処理工程の品質向上 ・不良品率の低減 ・高圧ガス関連の手続きの簡素化
液体プロセスを止めずに「見る」「測る」「制御する」― 環境・バイオ・材料プロセスに最適な液体流量ソリューション
Brooks Instrumentが提供する「BCUシリーズ」と「Quantim QMCシリーズ」は、環境・バイオ・材料プロセスにおける液体流量管理の課題を解決する2製品です。 ■BCUシリーズ クランプオン式超音波方式により、チューブを切断せず流体に一切触れることなく流量をリアルタイム計測します。汚染リスクや洗浄工数を排除し、シングルユース・ハイブリッド型バイオプロセスに最適。EtherNet/IPを標準搭載し、自動化スキッドへのシームレスな統合を実現します。 ■Quantim QMCシリーズ 第3世代デジタルアーキテクチャを採用したコリオリ式低流量マスフローコントローラ/メータです。液体の真の質量流量を直接計測し、質量流量・体積流量・密度・温度を同時出力。0.001〜27 kg/hの広いレンジと液体精度0.2% of rateを誇り、微小流量の高精度制御が求められる研究・製造現場を強力にサポートします。両製品ともソフトウェアを活用した設定・診断・保守の効率化に対応しています。 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお待ちしております。
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法をご確認いただくか、関連リンクから直接お申し込みください。
マスフローコントローラ市場規模は2030年までに30億米ドルに達すると予想されており、予測期間中に8.3%のCAGRで市場成長が見込まれます。 2022年に市場は198万600台の数量に達し、8.1%（2019～2022年）の成長を遂げました。 さらに、代替エネルギー源は、生産プロセス中の正確なガス流量制御に依存することがよくあります。たとえば、太陽電池の製造では、MFCは基板上に半導体材料の薄膜を堆積する化学気相成長（CVD）プロセスで使用されるガスの流れを制御します。したがって、代替エネルギー源の需要が市場の成長を促進します。
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