加熱ヒータのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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加熱ヒータ(制御) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年09月24日~2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

加熱ヒータの製品一覧

16~26 件を表示 / 全 26 件

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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット

HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用。チャンバー内に複数の蒸着ソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。 上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。 本体部は、1cc 坩堝用(最大充填量1.5cc)、10cc 坩堝用(最大充填量15cc)があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換することが可能。 熱電対は2 種類、K タイプ、C タイプのいずれかをご指定いただけます。 るつぼ:アルミナ(標準)、石英、PBN、カーボンが選択できます。

  • 蒸着装置
  • 加熱装置
  • 電気炉

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金属加熱用ヒーターを使うヒント

金属を加熱し、間接的に被加熱物を加熱します。

日本ヒーターでは、ヒーターを液体用、空気(気体)用、金属用に分類しています。 用途別に使用例や形状、製品紹介、使用上の注意をまとめましたので、ご参照ください。 ヒーター以外に、温度調節・制御機器も扱っています。お客様の詳細な仕様と予算をご提示いただければ、最適なヒーターコントローラーを含めた加熱システムとしてご提案いたします。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他ヒータ

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薬液加熱ヒーター『ECN』

流動変動や衝撃に強い!半導体薬液洗浄装置のインライン用薬液加熱ヒーター

『ECN』は、接液部に全てPFAを使用した半導体薬液洗浄装置の インライン用薬液加熱ヒーターです。 ヒーター過熱アラームセンサーと液漏センサーを内蔵し、停電等の急な シャットダウン時の温度上昇は10℃程度で、流動変動や衝撃に強いです。 また、コンパクト設計により設置が容易なほか、電気制御は既設を 有効利用できます。 【特長】 ■接液部には全てPFAを使用 ■低温ヒーター仕様で薬液を劣化させない ■ヒーター過熱アラームセンサーと液漏センサー内蔵 ■流動変動や衝撃に強い ■コンパクト設計により設置が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他ヒータ

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DPH/IHヒータ 化学工業への利用の紹介

金属発熱体は形状に攪拌混合性があるため均一な加熱が可能に!

DPH「化学工業への利用」は内部にある金属発熱体は構造に特徴があります。 水の加熱などでは自然対流でうまく液体全体が加熱されますが、 粘度が高いと液体は自然対流が起きにくくなり、粘度が高いほど局部加熱が起こりやすいものです。 内部の金属発熱体は形状そのものに攪拌混合性があるため、液体は内部を通過するときに自然にかき回され、均一な加熱が可能になりました。 【特長】 <触媒反応技術> ○通常用いるステンレスに触媒を担持 ○触媒金属で発熱体を製作 ○反応温度が効率のよい触媒反応を起こすことが可能 <液体・気体加熱技術> ○DPHは精密な温度制御や短い時間の立ち上げが可能 ○熱容量が少なく、出力をカットすると急激に温度が落ちるので加熱の急停止は抜群 ○わずか数℃の温度アップも可能 ※詳細はお問い合わせ、もしくはPDFをダウンロードしてください。

  • その他ヒータ
  • 加熱装置
  • 電気炉

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NMP回収スクラバー装置

回収したNMP溶液は約80%まで濃縮可能!公害防止、地球環境の保全が図れます

当製品は、⾼効率・⾼品質の溶剤回収ができる NMP回収スクラバー装置です。 NMP含有排ガスを特殊スクラバーで吸収させ、回収したNMP溶液は 更に精製再利用することで新品のNMP溶剤と同程度の品質になります。 また、通常の運転条件では附帯冷却設備が不要となりますので、設備が コンパクト化できランニングコストが削減できます。 【特長】 ■回収したNMP溶液は約80%まで濃縮できる ■回収後は精製し再利用することができる ■⾼効率・⾼品質の溶剤回収が可能 ■回収溶剤の精製装置(後処理)も提案可能 ■通常運転時の⼆次排⽔が殆ど発⽣しないクローズド処理ができる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他環境機器

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過熱蒸気焼成機「イノーバ」

【焼き上がりに差が出る】「焼く」と「蒸す」が同時にできる高温過熱蒸気でダイレクト焼成

水を沸騰させて発生した蒸気をさらに加熱し、100℃以上の状態にした気体を「過熱蒸気」と言います。本装置は高温の過熱蒸気のみを熱源に、食材に直接噴射するダイレクト焼成で、「蒸す」と「焼く」を同時に実現。ひと味違う理想的な焼成で、製品の品質アップに大きく貢献します。 [特長] ・焼き目も自由自在につけられる ・加熱処理が短時間でできる〜熱伝導率が非常に良いため、短時間で仕上がります。 ・製品の品質向上〜表面はパリッと、中はジューシー。しかも色合い鮮やか。旨味流出防止効果で製品の味がアップし、油脂の酸化が防止され、製品の品質アップにつながります。 ・設定は簡単、自由自在に〜ヒーターごとに各種設定ができるため、貴社独特の焼き方や細やかな制御が自由にできます。 ・抜群の省エネ効果〜蒸気使用率が大変よく、ランニングコストが大幅に減少 ・冷凍品でもそのまま焼成できる ・ボイラーのほかに再加熱装置などの付帯設備不要

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  • 食品加工装置

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マルチ破砕機

破砕・排出を自動で処理する装置!

『マルチ破砕機』は、ホーパーとベルトコンベアーにて回転テーブル上にある ハイスピードミル5台に材料供給され、破砕・排出を自動で処理可能な装置です。 ハイスピードミルの良さと、多台数使用することで量産機に匹敵する 処理能力を得ることができます。 また、カッターや容器の着脱が簡便な機構になっており、作業終了後の 洗浄作業が簡単です。ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【基本仕様(一部抜粋)】 ■電源:3相200V(50/60Hz) ■駆動モーター容量:1.5kw×5台 ■破砕機回転数:10,000rpm ■破砕機使用数:5台 ■処理能力(比重1):5台使用時(max.100kg/hr.) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お問い合わせください。

  • 粉砕機

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DPH 過熱蒸気透明スチームサウナ 使用例II

温泉における過熱蒸気透明スチームサウナの使用例をご紹介!

低温サウナであっても温泉のようなぬくもりと、スチームサウナの潤い感と、 高温サウナと変わらない透明な空間が演出できる「過熱蒸気透明スチーム サウナ」を導入した有田川温泉「光の湯」殿の使用例をご紹介。 温泉水の蒸気をDPHで過熱水蒸気にしている点が最大の特徴です。 温泉の蒸気を発生するボイラーもDPHを使用しており、操作盤としての 機能も備えていて、隣接した機械室に設置されています。 ここでは1台のタッチパネル操作盤で、1台のボイラーと2台のDPHサウナ ヒータの操作と制御を行っています。 また、室外にも設置対応可能な市販の加湿器を用いたタイプを導入した 京都府城陽市にある上方温泉「一休」殿の事例も紹介しています。 【事例概要】 ■有田川温泉「光の湯」殿における過熱蒸気透明スチームサウナ使用例 ■上方温泉「一休」殿における過熱蒸気透明スチームサウナ使用例 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 空調システム

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キルン炉

撹拌しながら乾燥と殺菌処理可能!乾燥が進み品温が設定温度に到達したらアラームで警報

当装置は、食材を投入し、過熱水蒸気ガスを炉内に注入して食材を 撹拌しながら乾燥と殺菌処理を行う装置です。 上部ハッチを開けスクリューコンベアー等搬送機で食材を送り込み、 処理後の排出は正面ハッチを開け、撹拌羽根を正転させることで材料が 排出口からシューターへと出てきます。 舞い上がった粉体が混入した排気は、サイクロンで気体と粉体を分離させて 気体のみブロワーを通過後大気開放されます。 【基本仕様(一部)】 ■電源:3相200V(50/60Hz) ■駆動モーター容量:ギヤードモーター0.2~1.0kw(攪拌用)+0.4kw 誘引ブロワ用 ■使用温度(炉内):350℃~500℃ ※過熱水蒸気装置からの排気ガス温度 ■炉内容積:0.3~1.0m3 ※最大投入量は、容積の1/3を目安 ■外形寸法:L800×W1672×H1602~L1340×W2377×H1935(mm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ミキサー・攪拌器
  • 乾燥機器
  • その他理化学機器

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

  • 加熱装置

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空気加熱・保温用ヒーター活用事例

空気を加熱、保温するためのヒーターです。

金属加熱と違い、環境や雰囲気温度にも左右されます。 空気だけではなく、その他の気体を加熱するなどの要望も承ります。 何を温めるかにより、ヒーターの種類は変わってきます。 また、適切な温度管理を求めるお客様も多いので、弊社のmonooneシリーズをおすすめしております。

  • シリコンヒータ

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