更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
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経済的なポンプ！幅広く使用されています！
当製品は、メカニカルブースタポンプと合わせて使用するオイル密封式・ 回転式の真空ポンプです。 油で密封されたロータリー・ポンプは、圧力が気圧から0.13～1.3×10-2Paまで 変化するガスを圧縮し、次に、空気中にそれらを放出させます。 ダイレクトに、オイルによって密封されたロタリーバキュームポンプは コンパクト性と無塵性の両方を提供します。 【特長】 ■メカニカルブースタポンプと合わせて使用可能 ■ガスを圧縮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
piSAVE onoff(省エネ機構)が空気の消費量を最小限にとどめます
小型エジェクター「P3010」圧縮空気削減機構搭載型は、3種類の MINI カートリッジ( Pi、Si、Xi )が選択可能です。 piSAVE onoff (省エネ機構) が空気の消費量を最小限にとどめます。 【特徴】 ○シートメタル、ガラス、プラスチック等の取扱いにおける リークのない用途にはヒステリシス大を推奨 ○作業において非常に正確な真空レベルが要求される場合は、 ヒステリシス小を推奨 ○ES 機構のスイッチレベルは調整可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着
『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着 ■1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット ■6種類のターゲットが使用可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ブラシレスDC直流モーター搭載の油回転真空ポンプ
『VDCシリーズ』はブラシレス直流モーターを搭載した油回転真空ポンプです。 交流より静かで省電力、しかも軽量。 高真空が得られる2段排気方式。 逆流防止機能により、停電などで停止した場合に真空側へのオイルの逆流を防止します。 強制給油方式の採用により、大気圧付近でも排気速度が安定。 ガスバラスト機構により、凝縮性ガスや水蒸気吸引によるオイルの劣化と真空ポンプの能力低下を防ぎ、寿命を延ばします。 サーマルプロテクター内蔵により、連続運転でも安心。
3種類の MINI カートリッジ( Pi、Si、Xi )が選択可能です
小型エジェクター「P3010」真空破壊機構搭載型は、3種類の MINI カートリッジ( Pi、Si、Xi )が選択可能です。 スリムでコンパクト、構成可能なモジュラー設計を採用しました。 【特徴】 ○クイックリリース容積は 3～60 cm3 ○サイレンサーと真空フィルター付き ○軽量 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
軽量で取扱いが簡単！コンパクトなぺニング真空計
『DG-1B』は、標準的な機能のぺニング真空計を小型化したコンパクトタイプです。 「ペニング真空計」は、磁場中における放電電流を検出して測る真空計です。 冷陰極放電なのでフィラメントの焼損もなく、一気圧でスイッチを入れても 故障を起こすことはありません。 取扱いが簡単で堅牢なので、工業用計器として真空装置等に手軽に幅広く 使用出来ます。その他、お客様のご要望に応じて改良も可能です。 【特長】 ■コンパクトタイプ ■測定球はマグネットに特殊合金を使用 ■小型・軽量で取扱いが簡単 ■測定球フィラメントの焼損等がない ■圧力のインジケーターとして容易に使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
大気圧から高真空まで排気可能な排気ユニットです。【アルバック／ULVAC】
YTP シリーズは、「ピボット軸受＋磁気軸受（永久磁石）」を採用したターボ分子ポンプ UTM シリーズを使用した大気圧から高真空まで排気可能な排気ユニットです。START/STOP スイッチで自動で排気可能なSA タイプと、手動操作のM タイプをラインナップしています。 【特徴】 ○自動操作型(YTP-SAシリーズ)と手動操作型 (YTP-Mシリーズ)の2種類、排気速度も4種類の選択が可能 ○停電時は、自動でフォアバルブを閉めロータリーポンプ内を自動ベント →復電しても、排気ユニットは動作しない ○ターボ分子ポンプに使用しているフッ素油の飽和蒸気圧は、 10-11 Pa台(20℃)のため、限りなくオイルフリー ○ターボ分子ポンプは高性能軸受を採用しているため、 面倒なオイル交換やベアリング交換が不要 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高真空・高温対応 全自動式真空乾燥・真空ベーキング装置。油拡散ポンプ排気系とターボ分子ポンプ排気系の2タイプがあります。
高真空・高温対応 全自動式真空乾燥・真空ベーキング装置。油拡散ポンプ排気系(×10^3Pa)…DH-DPタイプ真空乾燥器。ターボ分子ポンプ排気系(×10^4Pa)…DH-TPタイプ真空乾燥器。 ■生産機として設計された自動式真空乾燥・真空ベーキング装置です。 生産ライン用として求められる信頼性、安全性、操作性を追及するとともに、Max 650℃までの高温処理を可能とした真空乾燥装置です。 本シリーズの2 タイプは、油拡散ポンプとターボ分子ポンプという、到達圧力だけでなく方式も異なる真空ポンプをメインとしておりますので、クリーン度を要求されるケースなど、目的・用途に合ったタイプからご選択ください。
プッシュインテクノロジーにより、ツールなしでカートリッジの脱着が可能です。
Piab（ピアブ）中型エジェクター「P5010」は、COAX プッシュインテクノロジーにより、ツールなしでカートリッジの脱着が可能です。 2ステージまたは3ステージ COAXカートリッジ MIDI を採用しました。 COAXカートリッジは用途に合わせて選択してください。 【特徴】 ○よごれやゴミに影響されない内蔵フロースルー型サイレンサーを採用 ○同じサイズの従来のエジェクターに比べ、空気消費量の大幅な削減が可能 ○スリムでコンパクト、構成可能なモジュラー設計を採用 ○軽量 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 （ピアブ・ジャパン株式会社）
扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用できます
『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■6種類のターゲットが使用可 ■ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換 ■オプションポート：各種コンポーネント取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
40％のサイズダウン！組み込み型のベーキングヒーターと保湿機能のカバーにより高効率を実現
『エクセルポンプ』は、小型軽量の真空ポンプです。 イオンポンプをベースに、低い圧力領域での放電特性を改良し開発した ポンプ素子、効率のよいベーキングを行えるビルドインヒータを採用。 また、NEG(非蒸発型ゲッタ)ポンプの内蔵によりXHVの達成を可能にしました。 【特長】 ■UHV、XHV領域での高い排気能力 ■高効率ベーキングの実現 ■小型、軽量 ■クリーンルーム対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄い！厚さ25mmの高真空対応位置決めテーブル
当製品は、高真空（1×10-5pa程度）対応の位置決めテーブルです。 ストローク200mmまでは最薄25mmで、狭く限られた場所でも使用 できます。 また当社では、自社で放出ガス評価を行なっているため、高真空雰囲気中の 使用でもチャンバー内の他の機器への影響が少なく、的確な仕様の真空 アプリケーションを提供することができます。 【特長】 ■真空対応ステッピングモータを採用 ■真空対応フォトセンサを採用 ■並べて配置など複数設置に最適 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空対応 位置決めテーブル ＜PT＞
弊社では自社で放出ガス評価を行なっているため、 高真空雰囲気中の使用でもチャンバー内の他の機器への影響が少なく、 的確な仕様の真空アプリケーションを提供することができます。
真空対応 位置決めテーブル ＜VT＞
弊社では自社で放出ガス評価を行なっているため、 高真空雰囲気中の使用でもチャンバー内の他の機器への影響が少なく、 的確な仕様の真空アプリケーションを提供することができます。
