PHマスク
金属層とプラスチック層の2層構造によりシルク、レジスト、カバーレイなどの印刷不具合要因を吸収、半田ペーストの抜け性の良さを実現
当社独自マスク(特許有) 微小チップにも対応できる、弊社が開発した超高密度実装用メタルマスクです
- 企業:株式会社プロセス・ラボ・ミクロン
- 価格:応相談
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金属層とプラスチック層の2層構造によりシルク、レジスト、カバーレイなどの印刷不具合要因を吸収、半田ペーストの抜け性の良さを実現
当社独自マスク(特許有) 微小チップにも対応できる、弊社が開発した超高密度実装用メタルマスクです