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放射性汚染を最小限に抑制！用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能
『PUPIONシリーズ』は、プラズマイオン注入装置です。 ナノエレクトロニクス・フォトニクスでのShallow depth dopingや β放射線医療のグレードの放射性同位。 放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制し、 用途に応じたプラズマ励起技術の提案が可能です。 【特長】 ■ナノエレクトロニクス・フォトニクスでの Shallow depth dopingやβ放射線医療 ■グレードの放射性同位 ■放射性同位元素注入時の放射性汚染を最小限に抑制 ■用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入(Ion Implantation)で表面改質を実施。
特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar He N2 O2 SiH4 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理：元の材料特性が保持されます。 コーティング不要：イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重：追加の加工が不要です。 精密で局所的な表面処理：プロセスの最適化が可能です。 サンプルの電気伝導性：問いません。絶縁材料も処理可能です。 環境：ドライプロセスなので、化学的な廃棄物はありません。 イオン注入の効果 鋼材：表面硬化（ステンレス鋼で4倍）、優れた耐摩耗性。 ステンレス316L：摩擦係数が1/2に、ピッチング耐性が10倍に向上。 アルミニウム：表面硬化（7倍）、摩擦係数の大幅な低減、高い腐食抵抗性。 銅および銅合金：酸化および摩耗に対する強い耐性、表面硬化（4倍）。 金：表面硬化（7倍）、密度の増加、電気めっき層の気孔率の大幅な低減。
低エネルギーから8MeＶまでの多彩な注入装置を完備しております。
室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8 000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。
