WETプロセス装置 LCDカセット洗浄装置
圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現しました。
WETプロセス装置 LCDカセット洗浄装置は、LCD等のカセットを高圧温純水スプレーにて洗浄後、HOTエアーブロー及びトルネードスピン回転により乾燥を行います。 株式会社電子技研の洗浄等のスピンをはじめとするWET装置技術は、ウエハ・ガラス基板等をはじめ、プリント基板、金属基板等の洗浄、その他多用途で半導体・LCD業界、医療業界、食品業界他、幅広い業界のニーズに対応できます。 【特徴】 ○シンプルな機構設計で省スペース、省エネルギー化を実現 ○カセット内側の専用ノズルによりコーム洗浄を行う ○圧縮エアーとスピン回転の併用により高レベル乾燥を実現 ○HOT-FFU搭載によるチャンバー加温システムを採用 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社電子技研
- 価格：応相談
