1～4 件を表示 ／ 全 4 件
特に炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止する！
Genesys LFは、ROとNFシステムに用いられる広範囲に使用できるスケール防止剤です。無機のスケール防止に有効で、特に炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止します。そして膜の洗浄や交換頻度を減少させる事が出来、優れたスケール防止効果で理想的な回収率での設計、運転を可能にします。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。
広く効果を発揮する万能型スケール防止剤！
『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられる広範囲に使用できる スケール防止剤です。 無機のスケール防止に有効。 特に、炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止します。 また、膜の洗浄や交換頻度を減少させる事ができ、優れたスケール防止効果で 理想的な回収率での設計、運転を可能にします。 【特長】 ■広く効果を発揮する万能型 ■無機のスケール防止に有効 ■炭酸カルシウム、鉄、シリカによる障害を防止 ■膜の洗浄や交換頻度を減少可能 ■理想的な回収率での設計、運転を実現 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高シリカの原水に対応するスケール防止剤！
『Genesys LF』は、ROとNFシステムに用いられるシリカ濃度の高い水用 として使用できるスケール防止剤です。 一般的な無機のスケールにも広範囲に使用可能。 炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどにも有効です。 また、優れたスケール防止効果で理想的な回収率での設計、運転を実現。 それにより、濃縮排水量を削減や供給水量も削減になります。 【特長】 ■高シリカの原水に対応 ■一般的な無機のスケールにも広範囲に使用可能 ■炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどにも有効 ■優れたスケール防止効果 ■理想的な回収率での設計、運転を実現 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
広範囲に使用可能な優れたシリカスケール防止剤です。
Genesys SIはROとNFシステムに用いられるシリカ濃度の高い水用として開発されました。また、一般的な無機スケールにも広範囲に使用でき、炭酸＆硫酸カルシウム、硫酸パリウムなどにも有効です。また、優れたスケール防止効果で理想的な回収率での設計、運転を可能にします。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。
